• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제16권4호
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• pp.33-39
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• 2009

마스크리스 리소그래피(maskless lithography)에 응용하기 위한 마이크로렌즈 어레이(microlens array, MLA)가 석영의 습식 식각과 UV 접착제(UV adhesive)의 코팅을 바탕으로 개발되었다. 제작된 MLA의 초점거리는 ${\sim}45\;{\mu}m$ 정도였으며, 집광되는 광선의 초점은 ${\sim}1\;{\mu}m$로 측정되었다. MLA를 통과하며 초점을 맺은 빔(beam)의 크기 및 세기가 charge coupled device (CCD) 카메라와 빔 프로파일러(beam profiler)를 이용하여 각각 측정되었으며, 일정한 세기의 점들이 초점면에서 고르게 관찰되었다. 초점거리는 코팅된 UV 접착제의 두께에 따라 변화하였으며, UV 접착제의 두께가 두꺼울수록 짧아지는 경향을 보였다. 일반적인 마스크 얼라이너(mask aligner)를 이용한 MLA의 UV 포커싱(UV focusing)이 감광막(photoresist, PR) 상에서 실시되었으며, MLA를 통과한 빛이 감광막 위에 일정하게 집광되었다. 마스크 얼라이너와 MLA 사이의 거리 변화에 따라 감광막에 구현된 패턴 사이즈가 조절 되었다. 고온에서 오랜 시간이 지난 후에도 소자의 특성은 전혀 변함이 없었다.

• 한국산학기술학회논문지
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• 제12권2호
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• pp.829-834
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• 2011

고 집적 회로의 제작에 있어서 노광 공정은 가장 중요한 기술로 주로 마스크 방식의 노광 방법을 사용하지만 다품종 소량 생산 및 주기적인 제품 변화에 있어서 효율적이지 못하기 때문에 마스크리스 리소그래피 기술이 노광공정에서 각광받고 있다. 본 연구에서는 DMD를 이용한 마스크리스 리소그래피에 있어 다중 레이저 빔의 에너지와 중첩도와의 연관성을 시뮬레이션을 통해 분석하였다. 시뮬레이션을 통해 최적의 스캔 라인 간격을 제시하였고, LDI 시스템을 이용한 노광 실험을 통해 미세 페턴의 정밀도를 향상시킬 수 있었다.

• 한국재료학회지
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• 제17권7호
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• pp.352-357
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• 2007

Since a pattern defects "repair" system using a diode pumped solid state laser for Flat Panel Display (FPD) was suggested, a lot of laser systems have been explored and developed for mass-production microfabrication process. A maskless lithography system using 405 nm violet laser and Digital Micromirror Device (DMD) has been developed for PDP and Liquid Crystal Display (LCD) Thin Film Transistor (TFT) photolithography process. In addition, a "Laser Direct Patterning" system for Indium Tin Oxide (ITO) for Plasma Display Panel(PDP) has been evaluated one of the best successful examples for laser application system which is applied for mass-production lines. The "heat" and "solvent" free laser microfabrications process will be widely used because the next-generation flat panel displays, Flexible Display and Organic Light Emitting Diode (OLED) should use plastic substrates and organic materials which are very difficult to process using traditional fabrication methods.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제35권12호
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• pp.3425-3426
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• 2014

• 한국인쇄학회지
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• 제28권1호
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• pp.65-75
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• 2010

Environmentally friendly, stencil and screen printing for cost-effective for maskless. In this study, UV -LED light source for the dispersion characteristics and high competence photoresist coating was prepared. Wavelength of 365nm UV-LED exposure device using the maskless lithography, 1.7kgf/$cm^2$ $2600mmH_2O$ the injection pressure and the suction pressure by using a dry photoconductor symptoms were dry emulsion on the market as a result, curing properties and adhesion, hardness, solvent resistance and excellent reproduction of fine patterns and ecological stencil technology was available and could be confirmed as a possibility.

• 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
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• 제어로봇시스템학회 2005년도 ICCAS
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• pp.389-392
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• 2005

In the maskless photolithography based on the Digital Micromirror Device (DMD) by Texas Instruments Inc. (TI), the micromirror array works as a virtual photomask to write patterns directly onto Flat Panel Display (FPD) at high speed with low cost. However, it is neither simple to generate region-based patterns for the micromirror array nor easy to deliver sequences of patterns for the micromirror controller. Moreover, the quality of lithography yields the precise synchronization between generating sequence of patterns and irradiation rate off micromirrors. In this study, the region-based pattern generating system for maskless photolithography is devised. To verify salient features of devised functionalities, the prototype system is implemented and the system is evaluated with actual DMD based photolithography. The results show that proposed pattern generating method is proper and reliable. Moreover, the devised region-based pattern generating system is robust and precise enough to handle any possible user specified mandate and to achieve the quality of photolithography required by FPD manufacturer.

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2009년도 동계학술발표회 논문집
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• pp.225-226
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• 2009

본 연구에서는 마스크리스 노광장치의 두 프로젝션 광학계 사이에 있는 마이크로프리즘 어레이에 관한 연구이다. 마이크로프리즘의 원리와 종류에 대해 알아보고, 마이크로프리즘의 출사부의 모양에 따라 패턴의 모양이 변함을 확인하였다. 그리고 원하는 패턴을 만들 수 있는 마이크로프리즘을 설계하였다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2007년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.655-656
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• 2007

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2008년도 하계학술발표회 논문집
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• pp.387-388
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• 2008

• 한국고분자학회지:고분자과학과기술
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• 제24권3호
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• pp.245-249
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• 2013