A Study on the Analysis of Multi-beam Energy for High Resolution with Maskless Lithography System Using DMD
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Kim, Jong-Su
(Department of Mechanical Engineering, Inha University)
Shin, Bong-Cheol (Department of Mechanical Engineering, Inha University) Cho, Yong-Kyu (Department of Mechanical Engineering, Inha University) Cho, Myeong-Woo (Division of Mechanical Engineering, Inha University) Lee, Soo-Jin (Protec corporation) |
1 | 홍진수, 김창교, "나노미터 크기의 임의 형상을 제작하기 위한 새로운 리소그래피 기술", 한국산학기술학회논문지, Vol.5, No.3, PP.197-203 과학기술학회마을 |
2 | 조명우, 김동우, "PCB 노광을 위한 DMD를 이용한 마스크리스 리소그래피 기술", 기계저널, Vol.50, No.6, pp.43-47 과학기술학회마을 |
3 | M. S. Seo and H. Y. Kim, "Lithography upon micro mirrors", Computer-Aided Design, 39, 202-217, 2007 |
4 | 서만승, 김혜령, "마스크리스 리소그래피를 위한 점유 면적기반 패턴 생성방법", 대한민국특허청, No. 10-2005-0114003, 2005 |
5 | Wehnhui Mei, "POINT ARRAY MASKLESS LITHOGRAPHY", US. Patent, No.6473237 B2, 2002 |
6 | Takashi Kanatake, "HIGH RESOLUTION POINT ARRAY", US. Patent, No.0004699 A1, 2004 |
7 | http://www.ti.com |
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