Graphene grown on copper-foil substrates by chemical vapor deposition (CVD) has been attracting interest for sensor applications due to an extraordinary high surface-to-volume ratio and capability of large-scale device fabrication. However, CVD graphene has a polycrystalline structure and a high density of grain boundaries degrading its electrical properties. Recently, processes such as electropolishing for flattening copper substrate has been applied before growth in order to increase the grain size of graphene. In this study, we systemically analyzed the effects of the process condition of electropolishing copper foil on the quality of CVD graphene. We observed that electropolishing process can reduce surface roughness of copper foil, increase the grain size of CVD graphene, and minimize the density of double-layered graphene regions. However, excessive process time can rather increase the copper foil surface roughness and degrade the quality of CVD graphene layers. This work shows that an optimized electropolishing process on copper substrates is critical to obtain high-quality and uniformity CVD graphene which is essential for practical sensor applications.
본 연구는 서비스시대 공유경제모델을 교육서비스에서 구현하는 방안을 제시하였다. 대다수의 공유경제 모델이 기존 경제의 고비용 저품질 구조를 저비용 고품질 구조로 혁신하고 있듯이 교육서비스에서도 고비용 저품질 구조를 저비용 고품질 구조로 개선하는 혁신 모델이 필요하다. 특히 고등교육과 평생교육은 혁신이 시급한 상황이므로 본 연구는 고등교육과 평생교육에 초점을 맞춘 공유대학 모델을 연구하였다. 저비용 고품질로 교육서비스를 제공하기 위해서 는 유휴자원의 활용이 필수적이므로 공유경제 모델 도입이 필요하다. 공유대학은 기존의 제한된 교육 공급자 집단이 대폭 확대되는 모델이므로 효율적이고 효과적인 공급자 품질관리가 필요하다. 교육수요자들을 역량 있는 인재로 양성하기 위해서는 규범적인 품질관리도 필요하다. 또한 저비용으로 고품질의 고등교육 서비스를 제공하기 위해서는 고도의 과학기술이 적용된 프로세스 품질관리가 바탕이 되어야 한다. 따라서 교육서비스 품질관리는 공급자, 수요자, 프로세스 측면에서의 품질관리가 모두 균형있게 잘 이루어지는 품질관리를 의미한다. 본 연구는 이러한 품질관리 모델에 대해 연구하고, 서비스시대의 첨단 교육모델로서 공유대학의 목표 모델을 정립하였다. 본 제안 모델을 구체화하고 구현하기 위한 추가 연구가 필요하다.
Indium Tin Oxide (ITO) is a typical highly Transparent Conductive Oxide (TCO) currently used as a transparent electrode material. Most widely used deposition method is the sputtering process for ITO film deposition because it has a high deposition rate, allows accurate control of the film thickness and easy deposition process and high electrical/optical properties. However, to apply high quality ITO thin film in a flexible microelectronic device using a plastic substrate, conventional DC magnetron sputtering (DMS) processed ITO thin film is not suitable because it needs a high temperature thermal annealing process to obtain high optical transmittance and low resistivity, while the generally plastic substrates has low glass transition temperatures. In the room temperature sputtering process, the electrical property degradation of ITO thin film is caused by negative oxygen ions effect. This high energy negative oxygen ions(about over 100eV) can be critical physical bombardment damages against the formation of the ITO thin film, and this damage does not recover in the room temperature process that does not offer thermal annealing. Hence new ITO deposition process that can provide the high electrical/optical properties of the ITO film at room temperature is needed. To solve these limitations we develop the Magnetic Field Shielded Sputtering (MFSS) system. The MFSS is based on DMS and it has the plasma limiter, which compose the permanent magnet array (Fig.1). During the ITO thin film deposition in the MFSS process, the electrons in the plasma are trapped by the magnetic field at the plasma limiters. The plasma limiter, which has a negative potential in the MFSS process, prevents to the damage by negative oxygen ions bombardment, and increases the heat(-) up effect by the Ar ions in the bulk plasma. Fig. 2. shows the electrical properties of the MFSS ITO thin film and DMS ITO thin film at room temperature. With the increase of the sputtering pressure, the resistivity of DMS ITO increases. On the other hand, the resistivity of the MFSS ITO slightly increases and becomes lower than that of the DMS ITO at all sputtering pressures. The lowest resistivity of the DMS ITO is $1.0{\times}10-3{\Omega}{\cdot}cm$ and that of the MFSS ITO is $4.5{\times}10-4{\Omega}{\cdot}cm$. This resistivity difference is caused by the carrier mobility. The carrier mobility of the MFSS ITO is 40 $cm^2/V{\cdot}s$, which is significantly higher than that of the DMS ITO (10 $cm^2/V{\cdot}s$). The low resistivity and high carrier mobility of the MFSS ITO are due to the magnetic field shielded effect. In addition, although not shown in this paper, the roughness of the MFSS ITO thin film is lower than that of the DMS ITO thin film, and TEM, XRD and XPS analysis of the MFSS ITO show the nano-crystalline structure. As a result, the MFSS process can effectively prevent to the high energy negative oxygen ions bombardment and supply activation energies by accelerating Ar ions in the plasma; therefore, high quality ITO can be deposited at room temperature.
Semi-solid forming process has some advantages such as successful manufacturing of high quality components with less inner defects suitable for less machining high productivity and energy-saving effect. the thixotropic behavior(solid-like in the unperturbed state and liquid-like during shearing) has been the basis for the semi-solid forming process. The main focus of this article is the investigation of the effect of T6 heat treatment and alloying elements on the mechanical properties in the semi-solid formed products using thixotropic hypoeutectic (A357 and ALTHIX 86S) and hypereutectic(A390) materials. The new methods to produce semi-solid formed components with high quality are also proposed and discussed in terms of a die design and the development of a lubricant.
The present study is concerned with the characteristics of the high speed precision bar cropping. This process is a practical application of High Energy Rate Forming in which the impact energy source is given by internal combustion engine. To enhance the added value of product, the recent forging fields trend toward the near net shape processes through the cold and closed die forging. For the purpose of these processes the precedent process is to obtain the precision billet which has little weight deviation and defect. The accuracy of initial billet by bar cropping depends upon the process parameters and die design technology. Therefore, in order to investigate the effect of process parameters upon product quality, the cropping experiments are carried out according to the various parameters such as billet clearence, billet length, billet material, cropping speed and so on. From these results some criteria of the optimal die design for the product of good quality are suggested.
This study was aimed to evaluate the quality of flash welded joints and optimize the welding process for flash butt welding of 780MPa grade high strength steel. And then the relationship between the welding process variables and the joint quality would be established. The effect of process variables between flashing and upsetting process was elucidated. Microstructure observation of the joint indicated that the decarburized band was mainly changed with upsetting process. Width of HAZ was also related to the upsetting conditions rather than the flashing conditions. Generally maximum hardness at HAZ was correlated with Ceq of steel and the empirical relationship was obtained to estimate the HAZ properties. Tensile elongation at the joint was usually decreased with increasing the initial clamping distance. Investigation of fracture surface after tensile and bending tests reveal that the origin of cracking at the joint was oxide inclusions composed of $SiO_2$, MnO, $Al_2O_3$, and/or FeO. The amount of inclusions was dependent on the composition ratio of Mn/Si in steel. If this ratio was above 4, the amount of inclusions was low and then the resistance to cracking at the joint was enough to maintain the joint performance. It was obtained that the flashing process influenced the conditions for the energy input to establish uniform or nonuniform molten layer, while the upsetting conditions influenced the joint strength. Heat input variable during flashing process was also discussed with the joint properties.
다공성 매질내의 거품(foam)은 가스상의 이동성을 감소시키는 특성을 가진다. 이러한 성질은 석유산업에서 중력으로 인한 유체유동을 방지하거나 산(acid)을 이용하여 유정(wellbore) 근처 유체투과율이 낮은 지층을 처리하는데도 사용될 뿐만 아니라, 지하 대수층의 오염물 회수율을 높이는 데도 사용된다. 최근의 연구결과를 통하여 다공성 매질 내 거품의 유동은 유동영역(flow regime)에 의하여 크게 영향을 받는다는 사실을 규명하였다. 이 논문은 실험자료와 수치해석기법을 이용하여, 지하 오염물질 정화를 위한 거품 유동분할 작업의 타당성에 관한 연구이다. 두 종류의 유체 투과율(k=9.1과 30.4 darcy)을 가지고 실험한 결과, 대수층 조건과 비슷한 실험환경에서도 정상상태의 거품은 유동영역에 따라 다른 성질을 보인다는 사실을 알 수 있었다. 거품의 질이 낮은 영역(low-quality regime)에 있는 거품은 shear thinning 거동을 보이며 고질영역(high-quality regime)에 있는 거품은 Newtonian 거동과 유사하였다. 이상의 실험 결과를 유체투과율이 서로 다른 두 지층에 대하여 거품의 유동분할을 예측하기 위하여 간단한 수치해석 모델을 개발하였다. 수치해석의 결과로부터 고질영역에 있는 거품은 유동분할 양상을 보였지만 저질영역에 있는 거품은 그렇지 않았다. 민감도 분석의 결과 고질영역에서의 유동분할은 각 지층들의 한계 모세관압, 즉 거품이 생성되고 유지되기 위한 최소 모세관압에 의해 좌우된다는 사실을 확인하였다.
These days, many companies use information systems as a basis for organizational management activities and as an important component of sustainable management. Thus, securing and operating a high-quality information system that can improve the efficiency of business processes is a large part of corporate competitiveness. In order to get such a critical information system, it is only possible to successfully carry out the project. Various attempts and studies have been undertaken to increase the success rate of the project. However, the reality is that the success rate is still not getting much better. In this study, the concept of quality of service, which has long been actively studied in marketing area, was applied as a new factor to enhance the project's success. In this study, project performance activities were defined as the act of providing services. A survey of 164 valid collection data was analyzed. The analysis used SPSS 23. Four process quality factors (customer participation, customer response, knowledge and skills, reliability) and 21 metrics were derived. Through this research, I hope to be the starting point of applying process quality concept as a new breakthrough to increase success rate of project.
It is necessary to implement the management plan for the production of safe and high quality drinking water from lake Paldang. To set up the plan, the water quality items such as BOD, T-P, SS and coliform were monitored for ten years, 1997~2006, and the influence of raw water quality on the drinking water treatment process and the treated water quality was also evaluated from 2004 to 2006. In conclusion, water quality items such as turbidity(SS), T-P(eutrophication), pathogens(fecal coliforms, enterovirus, reovirus, giardia, cryptosporidium), DOC(precursor of disinfection by-products), and micro-pollutants(phthalates, VOCs, heavy metals) are should be managed to get safe and high quality drinking water from lake Paldang.
Water quality models are scientific tools that simulate and interpret the relationship between physical, chemical and biological reactions to external pollutant loads in water systems. They are actively used as a key technology in environmental water management. With recent advances in computational power, water quality modeling technology has evolved into a coupled three-dimensional modeling of hydrodynamics, water quality, and ecological inputs. However, there is uncertainty in the simulated results due to the increasing model complexity, knowledge gaps in simulating complex aquatic ecosystem, and the distrust of stakeholders due to nontransparent modeling processes. These issues have become difficult obstacles for the practical use of water quality models in the water management decision process. The objectives of this paper were to review the theoretical background, needs, and development status of water quality modeling technology. Additionally, we present the potential future directions of water quality modeling technology as a scientific tool for national environmental water management. The main development directions can be summarized as follows: quantification of parameter sensitivities and model uncertainty, acquisition and use of high frequency and high resolution data based on IoT sensor technology, conjunctive use of mechanistic models and data-driven models, and securing transparency in the water quality modeling process. These advances in the field of water quality modeling warrant joint research with modeling experts, statisticians, and ecologists, combined with active communication between policy makers and stakeholders.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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