We designed and fabricated a highly sensitive magnetotransistor which employes the emitter region as a Hall plate for inducing Hall voltage across the emitter. The Hall voltage modulates the emitter basic junction bias on both sides of the emitter so that a large collector current difference is resulted. The specially designed $p^+$ ring around the emitter enhances accumulation of drifted electrons in the emitter and thus the Hall voltage. A relative sensitivity of 240/tesla is measured by operating the device in the saturation mode.
The 2-dimensional silicon vertical Hall devices, which are sensitive to X,Y components of the magnetic field parallel to the surface of the chip, are fabricated using a modified bipolar process. It consists of the thin p-layer at Si-$SiO_2$ interface and n-epi layer to improve the sensitivity and influence of interface effect. Experimental samples are a sensor type K with and type J without $p^+$ isolation dam adjacent to the center current electrode. The results for both type show a more high sensitivity than the former's 2-dimensional vertical Hall devices and a good linearity. The measured non-linearity is about 0.8%. The sensitivity of type J and type K are about 66 V/AT and 200 V/AT, respectively. This sensor's behavior can be explained by the similar J-FET model.
The Hall factor in a two-dimensional device with indirect conduction valleys is calculated for several growth on various strain conditions. In the [001] or [111] growth direction, the two-dimensional constant energy surfaces of occupied valleys are shown to be isotropically distributed. However, in the [110] growth direction, the distribution of occupied valleys on the plane is not isotropic. This fact is the reason for the anisotropic Hall factor on the sample plane.
In the current development of magnetic sensors based on the Hall effect, the following two approaches can be distinguished. The first, one tries to build better sensor based on conventional Hall devices. The innovations come through a better understand of the details If the operating principle and secondary effects, and through the application If ever-improving microelectronics technology. In the second approach, one hopes to build better sensors by making use of the Hall effect in active devices, such as magneto-transistors and MAGFET. In this paper, we study magnetic properties of Hall device fabricated with series and parallel multilayers.
The Hall factor in a quantum well structure with X or L-type indirect conduction valleys is calculated for various strain conditions. The two-dimensional constant energy surfaces of occupied valleys are proven to be identical. As a result, the Hall factor depends on the relative direction of occupied valleys to the growth direction, regardless of the number of occupied valleys. This work is widely applicable to the two-dimensional structure with indirect conduction minima for any growth direction and under different strain conditions.
The vector control technique using low-resolution Hall-effect sensors has been widely used especially in consumer electronics. Due to electrical and/or mechanical unevenness related to binary-type Hall sensors, the calculated or estimated position information has discontinuities so called bumps, which causes the deterioration of vector control performance. In order to obtain a linearly changing position signal from low-precision Hall-effect sensors, this paper proposes a simple bumps in position signal removal algorithm that consists of a first-order observer with low-pass filtering scheme. The proposed algorithm has the feature of no needs for system parameters and additional estimation processes. The validity of the proposed method is verified through simulation and experimental results.
An anolmalous magnetoresistance effect has been theoretically studied at very low temperatures for composite normal metal conductors. This anomalous behavior is due to transverse Hall currents in the composite which would result in increased losses and higher effective resistance for the composite conductor. In this paper, transverse current flow and effective resistance with Cu-Al conductor configuration were analyzed using FEM(finite element method) for predicting the Hall losses to be resulted in anomalous magnetoresistance effect. And they are plotted three dimensionally to be visualized.
The electrical properties of $Si_{1-x}Ge_{x}$ samples have been investigated. The sample structures were grown by MBE (molecular geam epitaxy) with Ge mole-fraction of x=0.0, x=0.05, x=0.1, and x=0.2. To examine the influence of the thermal processing, the $O_{2}$ and N$_{2}$ process were performed at 800[.deg. C] and 900[.deg. C], respectively. After this thermal process, hall measurements have been done over a wide range of the ambient temperature between 320[.deg. K] and 10[.deg. K] to find the temperature dependence using the comparessed-He gas system. The Ge-rich layer has been formed at the $SiO_{2}$/SiGe interface and it has an effect on the hall mobility. And it has been found that hall mobility was increased by the $N_{2}$ annealing process comparing with dry oxidation process at both 800[.deg.C] and900[.deg. C].
Distribution of the local critical temperature and current density in YBCO coated conductors were analyzed using Low-temperature Scanning Laser and Hall Probe Microscopy (LTSLHPM). We prepared YBCO coated conductors of various bridge types to study the spatial distribution of the critical temperature and the current density in single and multi bridges. LTSLHPM system was modified for detailed linescan or two-dimensional scan both scanning laser and scanning Hall probe method simultaneously. We analyzed the local critical temperature of single and multi bridges from series of several linescans of scanning laser microscopy. We also investigated local current density and hysteresis curve of single bridge from experimental results of scanning Hall probe microscopy.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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