Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1999.05a
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pp.59-72
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1999
In this thesis, we measured the Barkhausen effect of CoFeSiB amorphous ribbon and then investigated its possibility to be used as a sensor material. We used a sample of composition $($Fe_{0.06}$$Co_{0.94}$)_${0.79}$$Si_{2.1}$$B_{18.9}$ with a thickness 12[pm1, width 2.5[rnml and length 5[cm], which was fabricated by a single roll method. In order to improve magnetic characteristics of the sample, we had carried on annealing in the magnetic field and in none magnetic field. And, experimented results to the magnetic characteristics show that the ribbon has large Barkhausen jump even in weak magnetic field below 0.5[0el. From the results, we confirmed that the sample can be used as an magnetic sensor material.
The ferroelectric properties of Pb(Zr,Ti)O$_3$[PZT] films degrade when the films with Pt top electrodes are annealed in hydrogen containing environment. This is due to the reduction activity of atomic hydrogen that is generated by the catalytic activity of the Pt top electrode. At the initial stage of hydrogen annealing, oxygen vacancies are formed by the reduction activity of hydrogen mainly at the vicinity of top Pt/PZT interface, resulting in a shift of P-E (polarization-electric field) hysteresis curve toward the negative electric field direction. As the hydrogen annealing time increases, oxygen vacancies are formed inside the PZT film by the inward diffusion of hydrogen ions, as a result, the polarization degrades significantly and the degree of P-E curve shift decreases gradually. The direction and the magnitude of the remnant polarization in the PZT film affect the motion of hydrogen ions which determines the degradation of polarization characteristics and the shift in the P-E hysteresis curve of the PZT capacitor during hydrogen annealing. When the remnant polarization is formed in the PZT film by applying a pre-poling voltage prior to hydrogen annealing, the direction of the P-E curve shift induced by hydrogen annealing is opposite to the polarity of the pre-poling voltage. The hydrogen-induced degradation behavior of the PZT capacitor is also affected by the internal field that has been generated in the PZT film by the charges located at the top interface prior to hydrogen annealing.
Local magnetization reversal in the exchange-biased NiFe/FeMn and $[Pd/Co]_5/FeMn$ multilayers with in-plane and out-of-plane magnetic anisotropy was achieved by using laser annealing. The local annealed NiFe/FeMn film under the opposite magnetic field shows a magnetoresistance (MR) curve having two symmetric peaks at the positive and negative exchange biasing field (${\pm}H_{ex}$). The intensity of the nucleated MR peak rises as the exposed area extends during the laser annealing process, and the peak disappears under the reverse magnetic field. In the case of [Pd/Co]/FeMn films, the local magnetization reversal increased gradually as the laser power increases. The locally reversed magnetization was restored under the opposite magnetic field.
The pinning direction, the spin flop behaviors and the magnetoresistive properties in top synthetic spin valve structure [NiFe/CoFe/Cu/CoFe (t$_{p2}$)/Ru/CoFe (t$_{p1}$)/IrMn] were investigated. The magnetoresistive and pinning characteristics of synthetic spin valves strongly depended on the differences in the two pinning layer thickness, ${\Delta}t(=t_{p2}-t_{p1})$. In contrast to the conventional spin valves, the pinning direction (P1) was canted off with respect to the growth field axis with ${\Delta}t$. We found that the canting angle ${\Phi}$ had different values according to the annealing field direction and ${\Delta}t$. When the samples were annealed at above the blocking temperature of IrMn with zero fields, the canted pinned layer could be set along the growth field axis. Because the easy axis which was induced by the growth field during deposition is still active in all ferromagnetic layers except the IrMn at $250{^{\circ}C}$, the pinning direction could be aligned along the growth field axis, even in 0 field annealing.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.05d
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pp.72-76
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2003
The $Sr_{0.7}Bi_{2.6}Ta_2O_9$(SBT) thin films are deposited on Pt-coated electrode(Pt/$TiO_2/SiO_2$/Si) using RF magnetron sputtering method. The structural and electrical properties of SBT capacitors were influenced with annealing atmosphere. In the XRD pattern, the SBT thin films in all annealed atmosphere had (105) orientation. In the SEM images, Bi-layered perovskite phase was crystallized in all annealing atmosphere and grains largely grew in oxygen annealing atmosphere. The maximum remanent polarization and the coercive electric field in oxygen annealing atmosphere are $12.40[{\mu}C/cm^2]$ and 30[kV/cm] respectively. The fatigue characteristics of SBT capacitors did not change up to $10^{10}$ switching cycles.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.16
no.3
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pp.207-213
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2003
The Sr$\_$0.7/Bi$\_$2.6/Ta$_2$O$\_$9/(SBT) thin films are deposited on Pt-coated electrode(Pt/TiO$_2$/SiO$_2$/Si) using RF magnetron sputtering method. The structural and electrical properties of SBT capacitors were influenced with annealing atmosphere. In the XRD pattern, the SBT thin films in all annealed atmosphere had (105) orientation. In the SEM images, Bi-layered perovskite phase was crystallized in all annealing atmosphere and grain largely grew in oxygen annealing atmosphere. The maximum remnant polarization and the coercive electric field in oxygen annealing atmosphere are 12.40[${\mu}$C/cm$^2$] and 30[kV/cm] respectively. The dielectric constant and leakage current density of capacitors annealed oxygen atmosphere are 340 and 2.13${\times}$10$\^$-9/ [A/cm$^2$] respectively. The fatigue characteristics of SBT capacitors did not change up to 10$\^$10/ switching cycles.
The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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v.27
no.3A
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pp.284-289
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2002
In this paper, we propose the fast simulated annealing algorithm to decrease convergence rate in image segmentation using MRF. Simulated annealing algorithm has a good performance in noisy image or texture image, But there is a problem to have a long convergence rate. To fad a solution to this problem, we have labeled each pixel adaptively according to its intensity before simulated annealing. Then, we show the superiority of proposed method through experimental results.
Karimi, Gholam Reza;Verki, Ahmad Azizi;Mirzakuchaki, Sattar
ETRI Journal
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v.32
no.6
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pp.932-939
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2010
In this paper, a fast migration method is proposed. Our method executes local relocation on a model placement where an additional module is added to it for modification with a minimum number of displacements. This method is based on mean-field annealing (MFA), which produces a solution as reliable as a previously used method called simulated annealing. The proposed method requires substantially less time and hardware, and it is less sensitive to the initial and final temperatures. In addition, the solution runtime is mostly independent of the size and complexity of the input model placement. Our proposed MFA algorithm is optimized by enabling module rotation inside an energy function called permissible distances preservation energy. This, in turn, allows more options in moving the engaged modules. Finally, a three-phase cooling process governs the convergence of problem variables called neurons or spins.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.11
no.2
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pp.128-132
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1998
2/65/35 PLZT stock solution prepared by Sol-Gel processing was spin-coated on ITO coated glass and annealed by RTA(Rapid Thermal Annealing). The crystal structure of films was reported based on the observation of crystallization process and microstructure of the film fabricated at different fabrication condition. Films were crystallized into rhombohedral structure by annealing at $750^{\circ}C$ for 5 min. As the annealing temperature increased, the size of rosette structure of the films was grown up from $2.4{\mu}m$ to $15{\mu}m$, dielectric constant was increased, coercive field was decreased 33.82 kV/cm, remnant polarization was increased to 39.84 ${\mu}C/cm^2$ and Optical transmittance was decreased.
In this paper, the electrical characteristics of tunneling field effect transistor(TFET) was studied for different annealing conditions. The TFET samples annealed using hydrogen forming gas(4 %) and Deuterium($D_2$) forming gas(4 %). All the measurements were conducted in noise shielded environment. The results show that subthreshold slope(SS) decreased by 33 mV/dec after annealing process compared to before annealing. Under various temperature range, the noise is improved by average of 31.2 % for 10 atm Deuterium gas at $V_G=3V$ condition. It is also noticed that, post metal annealing with $D_2$ gas reduces the noise by average of 30.7 % at $I_D=100nA$ condition.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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