• 제목/요약/키워드: double i-layer

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응집영역모델을 이용한 섬유금속적층판 접착층의 모드 I, II 파괴 거동 물성평가 (Evaluation of Fracture Behavior of Adhesive Layer in Fiber Metal Laminates using Cohesive Zone Models)

  • 이병언;박으뜸;고대철;강범수;송우진
    • Composites Research
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    • 제29권2호
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    • pp.45-52
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    • 2016
  • 섬유금속적층판과 같은 하이브리드 소재는 여러 방향의 하중에 의한 접착층의 파괴로 인해 층간분리가 발생할 수 있다. 모든 하중은 수직 방향의 응력과 면내 두 방향의 전단 응력으로 분해할 수 있으며, 이러한 하중은 접착층의 모드 I, II, III 파괴를 일으킨다. 따라서 하중에 의한 층간분리 현상을 예측하기 위해, 접착층의 모드별 임계 에너지 해방률을 도출하는 것이 중요하다. 본 연구에서는 접착층의 모드 I 임계 에너지 해방률을 측정하기 위해 double cantilever beam 시험을 수행하였으며, 모드 II 임계 에너지 해방률을 측정하기 위해 end-notched flexure 시험을 수행하였다. 또한, 실험으로부터 도출한 임계 에너지 해방률을 ABAQUS의 응집영역모델에 적용하여 유한요소해석을 수행하였으며, 실제 실험 결과와의 비교를 통해 층간분리 현상에 대한 수치해석 기법 적용의 유효성을 입증하였다.

Ag가 도핑된 칼코게나이드 $As_{40}Ge_{10}Se_{15}S_{35}$ 박막의 광분해, 광확산특성 및 홀로그래픽 격자형성 (Photodissolution, photodiffusion characteristics and holographic grating formation on Ag-doped $As_{40}Ge_{10}Se_{15}S_{35}$ chalcogenide thin film)

  • 정홍배
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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    • 제55권10호
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    • pp.461-466
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    • 2006
  • In the present work, we investigated the photodissolution and photodiffusion effect on the interface of Ag/chalcogenide $As_{40}Ge_{10}Se_{15}S_{35}$ thin film by measuring the absorption coefficient, the optical density, the resistance change of Ag layer. It was found that the photodissolutioniphotodiffution ratio depends on the magnitude of photon energy absorbed in the chalcogenide thin film and the depth of photodiffution was proportional to the square root of the exposed time. Also, we have investigated the holographic grating formation with P-polarization states on chalcogenide $As_{40}Ge_{10}Se_{15}S_{35}$ thin film and $As_{40}Ge_{10}Se_{15}S_{35}/Ag$ double layer structure thin film. Holographic gratings have been formed using He-Ne laser (632.8 nm) which have a smaller energy than the optical energy gap, $E_g\;_{opt}$ of the film, i. e., an exposure of sub-bandgap light $(h{\upsilon} under P-polarization. As the results, we found that the diffraction efficiency on $As_{40}Ge_{10}Se_{15}S_{35}/Ag$ double layer structure thin film was more higher than that on single $As_{40}Ge_{10}Se_{15}S_{35}$ thin film. Also, we obtained that the maximum diffraction efficiency was 0.27 %, 1,000 sec on $As_{40}Ge_{10}Se_{15}S_{35}\;(1{\mu}m)/Ag$ (10 nm) double layer structure thin film by (P: P) polarized recording beam. It will offer lots of information for the photodoping mechanism and the analyses of chalcogenide thin films.

친환경 차폐물질을 이용한 이중구조 차폐체의 설계 (Design of Double Layer Shielding Structure using Eco-friendly Shielding Materials)

  • 박지군;최일홍;박형후;양승우;김교태;강상식
    • 한국방사선학회논문지
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    • 제10권8호
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    • pp.559-563
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    • 2016
  • 최근 납의 대체물질로서 연구되고 있는 바륨(Ba)과 요오도(I) 등은 차폐능은 우수하지만, 30 keV 근처의 에너지 영역에서 특성 X선이 방출되는 문제점이 있다. 본 연구에서는 황산바륨($BaSO_4$)과 산화비스무스(BiO)로 구성된 친환경 이중차폐체의 적용가능성을 검증하기 위한 선행연구로 몬테카를로 시뮬레이션을 통해 투과스펙트럼, 차폐율 등을 평가하였다. 평가결과, 0.6mm 두께의 Pb 단일층과 비교하여 0.1 mm 두께의 $BaSO_4$ 하부층에 BiO 층의 두께가 0.4 mm 와 0.5 mm에서는 각각 차폐율이 1.9 %, 3.9 % 높은 성능을 보였다. 뿐만 아니라, 상대적인 중량 또한 각각 34.5 %, 28 % 경량화가 가능하다는 것을 알 수 있었다.

CZM(Cohesive Zone Model)을 이용한 철도차량용 직물 복합재의 모우드 I 층간파괴의 해석적 연구 (Finite Element Analysis and Validation for Mode I Interlaminar Fracture Behavior of Woven Fabric Composite for a Train Carbody Using CZM(Cohesive Zone Model))

  • 김승철;김정석;윤혁진;서승일
    • 한국철도학회논문집
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    • 제12권5호
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    • pp.719-724
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    • 2009
  • 본 연구에서는 직물 탄소/에폭시와 유리/에폭시의 DCB(double cantilever beam)시편을 제작하여 ASTM 5528-01에 준하여 모우드 I 층간파괴인성을 측정하고, 이와 동일한 조건의 유한요소해석을 수행하여 층간파괴거동을 해석적으로 평가하였다. 시험에 의하여 측정된 층간파괴인성은 탄소/에폭시는 평균 $845.7J/m^2$, 유리/에폭시는 $1,042J/m^2$였다. 유한요소 모델은 접착요소를 이용하여 층간파괴를 구현하였고, 측정된 층간파괴인성을 부여하였다. 해석 결과의 검증을 위하여 시험을 통하여 측정된 시편 끝단의 반력과 Timoshenko 빔 이론을 통하여 계산된 결과를 비교하였다. 측정된 결과와 해석결과는 유사하였다.

형광체 스크린 기반 평판형 X선 검출기 적용을 위한 요오드화수은 필름 광도전체 센서 설계 및 제작 (Design and Fabrication of HgI2 Sensor for Phosphor Screen based flat panel X-ray Detector)

  • 박지군;정봉재;최일홍;노시철
    • 전자공학회논문지
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    • 제51권12호
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    • pp.189-194
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    • 2014
  • 본 연구에서는 새로운 구조의 X선 영상 검출기로써 광민감 $HgI_2$ 층이 포함된 CsI:Na 형광층의 구조를 설계하였다. 이러한 구조에서 X선은 두꺼운 CsI:Na 층에서 가시광선으로 변환된 후 하부의 얇은 $HgI_2$ 층에서 전하로 변환된다. CsI:Na와 $HgI_2$로 구성된 복합구조의 두께를 최적화하기 각 층의 두께를 변화시켜 X선에 대한 흡수효율을 시뮬레이션 하였다. 현재 상용화된 a-Se 단일층의 검출기는 수십 kV의 고전압이 요구되고, CsI:Na/a-Si 구조의 간접변환 방식은 낮은 변환효율을 가지는 단점이 있다. 본 연구의 결과로 제시된 새로운 형태의 CsI:Na/$HgI_2$ 복층 구조의 x-ray 검출기는 고전압이 필요한 직접 변환방식의 단점과 간접 변환방식의 낮은 효율을 보완할 수 있을 것으로 생각된다.

RESURE LDMOS의 항복전압에 관한 이론적인 고찰 (A theoretical study on the breakdown voltage of the RESURF LDMOS)

  • 한승엽;정상구
    • 전자공학회논문지D
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    • 제35D권8호
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    • pp.38-43
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    • 1998
  • An analytical model for the surface field distribution of the RESURF (reduced surface field)LD(lateral double-diffused) MOS is presented in terms of the doping concentration, the thickness of the n epi layer, the p substrate concentration, and the epi layer length. The reuslts are used to determine the breakdown voltage due to the surface field as a function of the epi layer length. The maximum breakdown voltage of the device is found to be that of the vertical n$^{+}$n$^{[-10]}$ p$^{[-10]}$ junction. Analytical results of the breakdown voltage vs. the epi layer length agree well with the numerical simulation results using MEDICI.I.

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Blocking layer 적용을 통한 HgI2 방사선 변환센서의 신호대 잡음비 향상에 관한 연구 (Study on Improvement of Signal to Noise Ratio for HgI2 Radiation Conversion Sensor Using Blocking Layer)

  • 박지군;윤인찬;최수림;윤주선;이영규;강상식
    • 한국방사선학회논문지
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    • 제5권2호
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    • pp.97-101
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    • 2011
  • 본 연구에서는 적충 구조를 이용하여 누설전류를 저감 시키는 기술을 적용하여 입자침전법을 이용한 방사선 영상 센서의 변환 물질을 개발하였다. 이는 디지털 방사선 영상 검출기의 두 가지 방식 중 하나인 직접방식에 사용되는 핵심 소자로 기존의 비정질셀레늄(a-Se)을 대체하여 더욱 효율이 높은 후보 물질들이 연구되어지는 가운데 태양전지와 반도체 분야에서 이미 많이 사용되어온 이종접합을 이용해 누설 전류를 저감 시키는데 그 목적이 있다. 본 연구에서 사용되는 입자 침전법 제조방법은 검출 물질 제작이 용이하고 높은 수율과 대면적의 검출기 제작에 적합하나 높은 누설 전류가 의료 영상에 있어서 문제가 되어 오고 있다. 이러한 단점을 보완하기 위해 적충 구조를 이용하여 누설 전류를 저감시킨다면 PIB법을 이용하여 간편하게 향상된 효율의 디지털 방사선 검출기를 제작 할 수 있다고 사료 되어 진다. 본 연구에서는 누설 전류와 민감도에 대한 전기적 신호를 측정하여 제작된 적충 구조의 방사선 검출 물질의 특성 평가가 이루어 졌다.

밀리미터파 PHEMT의 도핑층 설계에 따른 특성 변화 (The Effect of Doping Layer Structures on the Performance of Millimeter-wave PHEMT's)

  • 박훈;박진국;정지학;박현창
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 2000년도 하계종합학술대회 논문집(2)
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    • pp.286-289
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    • 2000
  • PHEMT's with three different doping structures, -SH(single-heterojunction), DH (double-heterojunction), and DC(doped-channel)-,were designed, fabricated and characterized to study the effect of doping layer structures on the performance of millimeter-wave PHEMT's. 0.25${\mu}{\textrm}{m}$ DH-PHEMT with below-channel doping of 1$\times$10$^{12}$ c $m^{-2}$ was superior to SH-PHEMT by 40% in $I_{dss}$, 20% in f/sib T/ and showed broador gm- $I_{D}$ characteristics which is advantageous to power applications DH-PHEMT showed similar DC and small-signal performance compared with DC-PHEMT. Taking the much higher carrier mobility into considerations, DH-PHEMT is believed to be the best candidate for millimeter-wave, low-noise and/or power applications.s.s.

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생산자동화 네트워크를 위한 MMS 프로토콜에 관한 연구 (A Study on the MMS Protocol for Factory Automation Network)

  • 강문식;고우곤;박민용;이상배
    • 전자공학회논문지A
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    • 제28A권10호
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    • pp.774-781
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    • 1991
  • A communication network protocol among programable devices built-i manufacturing field, MAP (Manufacturing Automation Protocol), has to provide the job transfer service carrying out a lot of jobs distributively, and the MMS( manufacturing message specification) defines the above application layer protocol. In this paper user software required in job transfer was implemented. So as to provide each service with compatibility and extension, each module was designed according to the functions. A method is selected in double-assigning their domain and program applicable even in complex process, which loads and proceeds several programs sequentially. In order to confirm the logical validity of the designed protocol, local applying test is accomplished for the application layer of response station. Modelling the job flow process, each serice module is verified with the I/O primitives.

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터널링 박막 두께 변화에 따른 부동 게이트 유기 메모리 소자 (Floating Gate Organic Memory Device with Tunneling Layer's Thickness)

  • 김희성;이붕주;신백균
    • 한국진공학회지
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    • 제21권6호
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    • pp.354-361
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    • 2012
  • 유기 메모리 절연막 제작을 위해 일반적으로 사용되어지는 습식법이 아닌 건식법 중 플라즈마 중합법을 이용하였다. 유기 절연 박막으로 사용된 단량체는 Styrene과 MMA을 사용하고, 터널링 박막은 MMA를 사용하며, 메모리 박막은 열기상증착법을 이용한 Au 박막을 사용하였다. 최적화된 소자의 구조는 Au의 메모리층의 두께를 7 nm, Styrene 게이트 절연막의 두께를 400 nm, MMA 터널링 박막의 두께를 30 nm로 증착하여 제작된 부동 게이트형 유기 메모리 소자는 40/-40 V의 double sweep시 27 V의 히스테리시스 전압을 얻을 수 있었다. 이 특성을 기준하여 유기 메모리의 전하 포집 특성을 얻을 수 있었다. 유기 재료 중 MMA 대비 Styrene의 전하 포집 특성이 좋은 것으로 보아 향후 부동 게이트인 Au 박막을 유기 재료인 Styrene으로 대체하여 플렉시블 소자의 가능성을 기대한다.