A CMOS Voltage-Controlled Oscillator(VCO) for application at temperature stable system is designed. The VCO consists of bandgap voltage reference circuit, comparator, and voltage-to-current converter and the VCO has a temperature stable characteristics. The difference between simulated and calculated values is less than about 5% in output characteristics when the input voltage range is from 1V to 3.25V. The CMOS VCO has error less than about $\pm$0.85% in the temperature range from $-25^{\circ}C$ to $75^{\circ}C$.
C 언어로 만든 VLSI 레이아웃 언어를 사용하여 CMOS PLA를 설계한다. PLA cell의 library를 만들고 Protector 회로의 제어논리로 사용되는 PLA를 NCR 설계법칙을 이용하여 설계하고 레이아웃 프로그램을 만든다. 관련되는 프로그램 기법을 논의하고 레이아웃을 display할 수 있도록 한다.
Purpose: To evaluate the diagnostic accuracy of occlusal and proximal caries detection using CCD, CMOS, PSP and film system. Materials and Methods : 32 occlusal and 30 proximal tooth surfaces were radiographed under standardized conditions using 3 digital systems; CCD (CDX-2000HQ, Biomedysis Co., Seoul, Korea), CMOS (Schick, Schick Inc., Long Island, USA), PSP (Digora/sup (R)/FMX, Orion Co./Soredex, Helsinki, Finland) and I film system (Kodak Insight, Eastman Kodak, Rochester, USA). 5 observers examined the radiographs for occlusal and proximal caries using a 5-point confidence scale. The presence of caries was validated histologically and radiographically. Diagnostic accuracy was evaluated using ROC curve areas (Az). Results: Analysis using ROC curves revealed the area under each curve which indicated a diagnostic accuracy. For occlusal caries, Kodak Insight film had an Az of 0.765, CCD one of 0.730, CMOS one of 0.742 and PSP one of 0.735. For proximal caries, Kodak Insight film had an Az of 0.833, CCD one of 0.832, CMOS one of 0.828 and PSP one of 0.868. No statistically significant difference was noted between any of the imaging modalities. Conclusion: CCD, CMOS, PSP and film performed equally well in the detection of occlusal and proximal dental caries. CCD, CMOS and PSP-based digital images provided a level of diagnostic performance comparable to Kodak Insight film.
Transient radiation is emitted during a nuclear explosion and causes fatal errors as upset and latch-up in CMOS circuits. This paper proposes the transient radiation SPICE models of NMOS, PMOS, and INVERTER based on the transient radiation analysis using TCAD (Technology Computer Aided Design). To make the SPICE model of a CMOS circuit, the photocurrent in the PN junction of NMOS and PMOS was replaced as current source, and a latch-up phenomenon in the inverter was applied using a parasitic thyristor. As an example, the proposed transient radiation SPICE model was applied to a CMOS NAND circuit. The CMOS NAND circuit was simulated by SPICE and TCAD using the 0.18um CMOS process model parameter. The simulated results show that the SPICE results were similar to the TCAD simulation and the test results of commercial CMOS NAND IC. The simulation time was reduced by 120 times compared to the TCAD simulation.
요즈음 CMOS 기술의 발전에 의해서 연속시간 신호시스템이 매우 각광을 받고 있다. 따라서 이 논문에서는 음성신호 처리영역에서 동작하는 CMOS floating 저항을 이용한저역통과 필터를 설계하였다. 특히 이 논문에서는 포화영역에서 동작하는 all CMOS floating 저항을 설계하였으며, $\pm$1V 영역에서 $\pm$0.04%의 선형성이 얻어졌다. 주파수 응답은10MHz를 초과하였으며 능동 RC회로의 집적화에 매우 유용할것으로 생각한다. 이 방법에 의해 설계도니 저역통과필터는 SC 필터보다 그 구조가 간단하므로 IC의 형태로 만들 때 칩 면적을 많이 줄일 수 있다. 설계된 필터의 특성은 pspice에 의해 시뮬레이션 하였으며, 그 특성이 우수함이 입증되었다.
본 논문에서는 아날로그/디지탈 회로 구성시 입출력부는 바이폴라 소자로 내부의 논리회로 부분은 CMOS 소자로 높은 내압을 요구하는 부분에는 DMOS 소자를 이용할 수 있는, BCDMOS 공정 기술개발을 하고자 하였다. BCDMOS 제작 공정은 폴리게이트 p-well CMOS 공정을 기본으로 하였고, 소자설계의 기본개념은 공정흐름을 복잡하지 않게 하면서 바이폴라, CMOS, DMOS 소자 각각의 특성을 좋게하는데 두었다. 실험결과로서 바이폴라 npn 트랜지스터의 $h_{FE}$ 특성은 320(Ib-$10{\mu}A$)정도이며, CMOS 소자에서는 n-채자에서는 항복전압이 115V이상의 특성을 얻을 수 있었다.
본 논문에서는 CMOS 및 domino CMOS 의 특징과 PLA등 array logic의 특징을 동시에 살리면서 동작특성이 좋고 집적도가 높으며 테스트 생성이 쉬운 domino CMOS NOR-NOR array logic의 설계방식을 제안하였다. 이 방식은 pull-down 특성을 개선하여 기생 커패시턴트의 문제점을 해결하며 간단한 부가회로를 사용하여 회로내의 모든 고정들을 검출할 수 있도록 한 testable design 방식이다. PLA의 적항군의 개념 및 특성 행렬을 이용한 테스트 생성 알고리듬과 절차를 제안하였고 이를 PASCAL 언어로 실현하였다. 또한 SPICE 및 P-SPICE를 이용하여 본 설계방식에 대한 검증을 행하였다.
Kim, Cheon-Soo;Park, Min;Kim, Chung-Hwan;Yu, Hyun-Kyu;Cho, Han-Jin
ETRI Journal
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제21권4호
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pp.1-8
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1999
Thick metal 0.8${\mu}m$ CMOS technology on high resistivity substrate(RF CMOS technology) is demonstrated for the L-band RF IC applications, and we successfully implemented it to the monolithic 900 MHz and 1.9 GHz CMOS LNAs for the first time. To enhance the performance of the RF circuits, MOSFET layout was optimized for high frequency operation and inductor quality was improved by modifying the technology. The fabricated 1.9 GHz LNA shows a gain of 15.2 dB and a NF of 2.8 dB at DC consumption current of 15mA that is an excellent noise performance compared with the offchip matched 1.9 GHz CMOS LNAs. The 900 MHz LNA shows a high gain of 19 dB and NF of 3.2 dB despite of the performance degradation due to the integrating of a 26 nH inductor for input match. The proposed RF CMOS technology is a compatibel process for analog CMOS ICs, and the monolithic LNAs employing the technology show a good and uniform RF performance in a five inch wafer.
본 논문에서는 패키지의 전기적 특성이 CMOS 디지틀 회로에 미치는 영향을 해석하고 패키지 특성을 고려한 새로운 CMOS It 패키지 설계방법을 보인다. 집적회로 내의 게이트들이 동시에 스위칭 할 때 패키지에 기인한 동시 스위칭 노이즈 (Simultaneous Switching Noise: SSN)가 시스템의 성능에 미치는 영향에 대하여 해석적으로 고찰하여 패키지의 전기적 특성에 의한 제약조건을 만족시키면서 집적회로 패키지를 설계 할 수 있는 새로운 설계 식을 유도하고 이들 식을 이용한 설계방법을 제시한다. 또한 제시된 패키지 설계방 법의 타당성을 검증하기 위하여 0.3㎛ CMOS 회로에 대하여 범용회로 시뮬레이터인 HSPICE 시뮬레이션 결과와 본 논문에서 제시한 해석적 설계 방법에 따른 결과가 일치한다는 것을 보인다.
In order to design SOI CMOS image sensors, SOI MOSFET model parameters were extracted using the equation of bulk MOSFET model parameters and were optimized using SPICE level 2. Simulated I-V characteristics of the SOI NMOSFET using the extracted model parameters were compared to the experimental I-V characteristics of the fabricated SOI NMOSFET. The simulation results agreed well with experimental results. A unit pixel for SOI CMOS image sensors was designed and was simulated for the PPS, APS, and logarithmic circuit using the extracted model parameters. In these CMOS image sensors, a nano-wire MOSFET photodetector was used. The output voltage levels of the PPS and APS are well-defined as the photocurrent varied. It is confirmed that SOI CMOS image sensors are faster than bulk CMOS image sensors.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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