[ $NH_3$ ] Pulse Plasma Treatment for Atomic Layer Deposition of W-N Diffusion Barrier
(암모니아 펄스 플라즈마를 이용한 원자층 증착된 질화텅스텐 확산방지막 특성)
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- Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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- v.11 no.4 s.33
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- pp.29-35
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- 2004