Traveling wave reactor atomic layer epitaxy(ALE) 방법으로 ZnS와 ZnS:Tb박막을 성장하고 성장 조건에 따른 박막 특성을 연구하였다. ZnS박막의 precursor로는 ZnCl2와 H2S를 이용하였으며, 기판 온도 400-$500^{\circ}C$범위에서 성장하였다. 본 연구 논문에서는 성장온 도에 따른 ZnS박막의 결정성의 변화와 precursor에 의한 Cl유입량의 변화를 살펴보고 투과 전자현미경과 주사형 전자현미경으로 ZnS박막의 표면 형상과 미세구조를 관찰하였다. 연구 결과에 의하면 ALE에 의하여 매우 균일하고 hexagonal 2H구조의 결정성이 향상되었다. 성 장온도 $400^{\circ}C$에서 약 9at.%, $500^{\circ}C$에서 약 1at.%의 Cl이 유입되었으며, 박막 내에 유입된 Cl 은 표면으로의 segregation현상을 나타내었다. 또한 electroluminescent 소자의 녹색 형광재 료인 ZnS:Tb을 Tb precursor로 tris(2,2,6,6-tetramethyl 3,5-heptandionato)terbium을 이용하 여 성장하고 박막 결정성과 박막 내 불순물이 유입되는 경향 등을 연구하였다. Auger electron spectroscopy분석 결과에 의하면 0.5at.%의 Tb이 표함된 AnS:Tb박막은 C은 거의 포함하고 있지 않았으나 O은 약 1at.%정도 포함되어 있었다. ZnS:Tb박막은 Tb과 소량의 O 을 함유하고 있음에도 불구하고 결정성은 우수한 hexagonal구조를 유지하고 있었다.
The intrinsic oxygen-vacancy defects in ZnO have prevented the preparation of p-type ZnO with high carrier concentration. Therefore, in this work, the effect of the concentration of H2O2 (used as an oxygen source) on the oxygen-vacancy concentration in ZnO prepared by atomic layer deposition was investigated. The results indicated that the oxygen-vacancy concentration in the ZnO film decreased by the oxygen-rich growth conditions when using H2O2 as the oxygen precursor instead of a conventional oxygen source such as H2O. The suppression of oxygen vacancies decreased the carrier concentration and increased the resistivity. Moreover, the growth orientation changed to the (002) plane, from the combined (100) and (002) planes, with the increase in H2O2 concentration. The passivation of oxygen-vacancy defects in ZnO can contribute to the preparation of p-type ZnO.
Iron-doped ZnO films or zinc-doped $Fe_2O_3$ films were prepared by ultrasonic spray pyrolysis. Iron cholide and zinc acetate were used as a precursor for Fe and Zn, respectively. XRD and SEM were carried out to study the crystallinity and morphology of the films. Atomic composition of the films were identified by EPMA ansd XPS. Resistivity variation with the composition rate was studied.
ZnO 나노 라드 위에 Quantum dot을 형성하고 최종적으로 TiO2를 Atomic Layer Deposition방법으로 증착하여, 그 passivation 효과가 solar cell의 효율에 미친 영향에 대한 실험을 진행하였다. 암모니아 솔루션을 이용한 Hydrothermal 방법으로 수직한 1차원 형태의 ZnO 나노라드를 TCO 기판 위에 성장시킨다. 여기에 잘 알려진 SILAR와 CBD 방법으로 CdS, CdSe 양자점을 증착한다. 그리고 amorphous TiO2로 표면을 덮는 과정을 거치는데, TiO2가 좁은 간격으로 형성된 ZnO라드 구조 위에서 균일하고 정밀하게 증착되도록 하기 위해 Atomic Layer Deposition을 이용하였다. 사용된 precursor는 Titanium isopropoxide와 H2O이며, 실험상에서 0~5 nm 두께의 TiO2 박막을 형성해 보았다. 다양한 분석 방법을 통해 TiO2/QDs/ZnO의 shell-shell-core 구조를 조사했다. (Scanning Electron Microscopy (SEM), Transmission Electron Microscopy (TEM), X-Ray Diffraction (XRD), and X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)). 이를 solar cell에 적용하고 I-V curve를 통해 그 효율을 확인하였으며, Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS)를 통해서 재결합 측면에서 나타나는 변화 양상을 확인하였다.
The important factors in sensors are sensitivity, selectivity, and response time. Oxide semiconductors are high sensitivity, fast response and the advantage of miniaturization. Zn-doped $SnO_2$ materials have been synthesized in order to improve the selectivity of the sensor. ZnO/$SnO_2$ crystals were prepared by a simple hydrothermal process and ultrasound pretreated hydrothermal process. ZnO/$SnO_2$ urchins were fabricated in the precursor solution with [$Zn^{2+}$]:[$Sn^{4+}$] ratio of 1:5 and rod structures were fabricated ratio of 1:1 and 1:3. Surface area ratio was increased by increasing the ratio of [$Sn^{4+}$]. The sensitivity of sensors were highest at the [$Zn^{2+}$]:[$Sn^{4+}$] ratio of 1:5 in ethanol, acetaldehyde, toluene, and nitric oxide.
We have fabricated solution processed oxide semiconductor active layer for thin film transistors (TFTs). The oxide semiconductor layers were prepared by ink-jet printing the sol-gel precursor solution based on doped-ZnO. Inorganic ZnO-based thin films have drawn significant attention as an active channel layer for TFTs applications alternative to conventional Si-based materials and organic semiconducting materials, due to their wide energy band gap, optical transparency, high mobility, and better stability. However, in spite of such excellent device performances, the fabrication methods of ZnO related oxide active layer involve high cost vacuum processes such as sputtering and pulsed laser deposition. Herein we introduced the ink-jet printing technology to prepare the active layers of oxide semiconductor. Stable sol-gel precursor solutions were obtained by controlling the composition of precursor as well as solvents and stabilizers, and their influences on electrical performance of the transistors were demonstrated by measuring electrical parameters such as off-current, on-current, mobility, and threshold voltage. Microstructure and thermal behavior of the doped ZnO films were investigated by SEM, XRD, and TG/DTA. Furthermore, we studied the influence of the ink-jet printing conditions such as substrate temperature and surface treatment on the microstructure of the ink-jet printed active layers and electrical performance. The mobility value of the device with optimized condition was about 0.1-1.0 $cm^2/Vs$ and the on/off current ratio was about $10^6$. Our investigations demonstrate the feasibility of the ink-jet printed oxide TFTs toward successful application to cost-effective and mass-producible displays.
Well aligned $SnO_2$-doped ZnO nanorods were prepared by single step or 2-step electrochemical depositions in a mixture solution of zinc nitrate hexahydrate, ammonium hydroxide solution and 0.1 M tin chloride pentahydrate. The morphologies of electrochemically deposited $SnO_2$-doped ZnO were transformed from plain (or network) structures at low reduction potential to needles on hills at high reduction potential. Well aligned ZnO was prepared at intermediate potential ranges. Reduction reagent and a high concentration of Zn precursor were required to fabricate $SnO_2$ doped ZnO nanorods. When compared to results obtained by single step electrochemical deposition, 2-step electrochemical deposition produced a much higher density of nanorods, which was ascribed to less potential being required for nucleation of nanorods by the second-step electrochemical deposition because the surface was activated in the first-step. Mechanisms of $SnO_2$ doped ZnO nanorods prepared at single step or 2-step was described in terms of applied potential ranges and mass-/charge- limited transfer.
The preparation and photoluminescence properties of $ZnGa_2O_4$ : Mn phosphor are presented. Under 254 nm excitation $Zn_1-_xMn_xGa_2O_4$ exhibits the green emission band at 506 nm wavelength and maximum intensity where x=0.005. The manganese activated $ZnGa_2O_4$ phosphor prepared by the polymerized complex method shows a remarkable increase in the emission intensity and is smaller particle size than that prepared by conventional method. Also, electron paramagnetic resonance study on $ZnGa_2O_4$ : Mn powders indicates that the increase in emission intensity after firing treatment in mild hydrogen reducing atmosphere is due to the conversion of the higher valent manganese to $Mn^{2+}$.
In this study, (GaN)1-x(ZnO)x solid solution nanoparticles with a high zinc content are prepared by ultrasonic spray pyrolysis and subsequent nitridation. The structure and morphology of the samples are investigated by X-ray diffraction (XRD), field-emission scanning electron microscopy, and energy-dispersive X-ray spectroscopy. The characterization results show a phase transition from the Zn and Ga-based oxides (ZnO or ZnGa2O4) to a (GaN)1-x(ZnO)x solid solution under an NH3 atmosphere. The effect of the precursor solution concentration and nitridation temperature on the final products are systematically investigated to obtain (GaN)1-x(ZnO)x nanoparticles with a high Zn concentration. It is confirmed that the powder synthesized from the solution in which the ratio of Zn and Ga was set to 0.8:0.2, as the initial precursor composition was composed of about 0.8-mole fraction of Zn, similar to the initially set one, through nitriding treatment at 700℃. Besides, the synthesized nanoparticles exhibited the typical XRD pattern of (GaN)1-x(ZnO)x, and a strong absorption of visible light with a bandgap energy of approximately 2.78 eV, confirming their potential use as a hydrogen production photocatalyst.
A co-spray deposition technique has been developed to bypass a fundamental limitation in the conventional spray deposition technique, i.e., the deposition of metal oxides from incompatible precursors in the starting solution. With this technique, ZnO films codoped with F and Al have been successfully synthesized, in which F is incompatible with Al. Two starting solutions were prepared and co-sprayed through two separate spray heads. One solution contained only the F precursor, $NH_4F$. The second solution contained the Zn and Al precursors, $Zn(O_2CCH_3)_2$ and $AlCl_3$. The deposition was carried out at $500^{\circ}C$ on soda-lime glass in air. A minimum sheet resistance, $55.4{\Omega}/{\square}$, was obtained for Al and F codoped ZnO films after vacuum annealing at $400^{\circ}C$, which was lower than singly-doped ZnO with either Al or F. The transmittance for the codoped ZnO samples was above 90% in the visible range. This co-spray deposition technique provides a simple and cost-effective way to synthesize metal oxides from incompatible precursors with improved properties for photovoltaic applications.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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