Effects of RF Power, Substrate Temperature and Gas Flow Ratio on the Mechanical Properties of WCx Films Deposited by Reactive Sputtering (반응성 스퍼터링법에서의 RF전력, 기판온도 및 가스유량비가 WCx막의 기계적 특성에 끼치는 효과)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.15 no.10
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- pp.621-625
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- 2005