Reverse osmosis (RO) membranes have been widely used for desalination as well as water and wastewater treatment facilities. Cleaning process is important to maintain stable operation as well as prevention of membrane fouling. Purpose of this research is to analyze electrostatistic and chemical characteristics after cleaning of RO membrane against $SiO_2$ scale. Four RO membranes of polyamide are used and examined about effect of chemical cleaning. EDTA (ethylene diamine tetraacetic acid) and SDS (sodium dodecil sulfate) and NaOH are applied for cleaning process after operation in synthetic water. Then, cleaning was performed with chemicals such concentration as 6hr, 12hr and 24hr, respectively. As a result, transmittances of FT-IR of four membranes are compared at each cleaning concentration. Ta/Tv shows difference of chemical composition between new membrane and cleaning membrane after cleaning. Type B of RO membrane is turned out to be most vulnerable to cleaning among four membranes. In terms of zeta potential, new membrane has -16 mV to +6 mV on pH while scaled membrane has -18 mV to 2 mV. However, it changed -23mV to 0.9 mV after cleaning. In comparison with existing salt rejection of RO membranes after cleaning, the rejection of the membranes goes down 0.7% maximum. Though cleaning changes the characteristics of membrane surface, it does not greatly affect salt rejection. pH is a critical factor to flux change in PA (polyamide) membrane.
A present semiconductor cleaning technology is based upon RCA cleaning technology which consumes vast amounts of chemicals and ultra pure water(UPW) and is the high temperature Process. Therefore, this technology gives rise to the many environmental issues, and some alternatives such as functional water cleaning are being studied. The electrolyzed water was generated by an electrolysis system which consists of anode, cathode, and middle chambers. Oxidative water and reductive water were obtained in anode and cathode chambers, respectively. In case of NH$_4$Cl electrolyte, the oxidation-reduction potential and pH for anode water(AW) and cathode water(CW) were measured to be +1050mV and 4.8, and -750mV and 10.0, respectively. AW and CW were deteriorated after electrolyzed, but maintained their characteristics for more than 40 minutes sufficiently enough for cleaning. Their deterioration was correlated with CO$_2$ concentration changes dissolved from air. It was known that AW was effective for Cu removal, while CW was more effective for Fe removal. The particle distributions after various particle removal processes maintained the same pattern. In this work, RCA consumed about 9$\ell$chemicals, while EW did only 400$m\ell$ HCI electrolyte or 600$m\ell$ NH$_4$Cl electrolyte. It was hence concluded that EW cleaning technology would be very effective for eliminating environment, safety, and health(ESH) issues in the next generation semiconductor manufacturing.
Membrane bioreactors (MBRs) employ a process of biological treatment that is based on a membrane that has the advantages of producing high-quality treated water and possessing a compact footprint. However, despite these advantages, the occurrence of "fouling" during the operation of these reactors causes the difficulty of maintenance. Hence, in this study, three physical cleaning methods, namely, backwashing, air scrubbing, and mechanical cleaning ball was performed to identify optimum operating conditions through laboratory scale experiments, and apply them in a pilot plant. Further, the existing MBR process was compared with these methods, and the field applicability of a combination of these physical cleaning methods was investigated. Consequently, MCB, direct control of cake fouling on the membrane surface was found to be the most effective. Moreover, as a result of operating with combination of the physical cleaning process in a pilot plant, the TMP increasing rate was found to be - 0.00007 MPa/day, which was 185% higher than that obtained using the existing MBR process. Therefore, assuming fouling only by cake filtration, about one year of operation without chemical cleaning is considered to be feasible through the optimization of the physical cleaning methods.
When NaOCl was generated and put into sea-water cooling machine in order to overcome the biological hindrances against sea-water cooling machine, it was converted into metallic ion, particularly Ca and Mg, as a hydrate in sea-water and is to stick to electrolyte as a side reaction. This phenomena make the distance between the electrolytes narrow to decrease the flow rate, which induces the local vortex flow which erodes the pole plate. Moreover, this increases the resistance of the electrolyte as well as voltage to decrease the electrolytic efficiency, which has curtailed a chlorine yield and caused a pole plate cut. We are able to overcome these problems by chemical cleaning and intend to extend the life-time of electrolyte and to increase output of the sea-water electrolysis facilities by studying optimal policy regarding chemical cleaning of electrolytic cell. Cleaning time of electrolytic facilities is determined when both increase in electrolytic efficiency and decrease in pole-plate voltage are 10%. At this time as operating current of electrolytic facilities is high, operating time is diminished. Whereas, parameter of end point determination according to cleaning is Mg ionic concentration in solution. When we use Cleaner as a 7wt% HCl, cleaning time is about 80min proper. We are able to maintain pole plate performance by protecting against pole plate cut by means of electrolytic by-product, improve operating rate of facilities, and cut down on maintenance expenditure after acidic cleaning.
본 논문은 LCD등에 사용되는 유리기판 가공 과정에서 표면에 발생하는 이물질을 제거하기 위한 세정 시스템을 제안한다. 이 세정 공정 시스템은 알카리 전해수의 화학적 세정과 과열 수증기 시스템의 물리적 세정방법을 사용한 세정, 린스, 건조 공정으로 구성된다. 또한 세정 시스템에서 사용되는 알카리 전해수의 화학적 세정효과를 실험을 통해, 알카리 전해수의 세정 효과와 과열 수증기 시스템의 제거효과를 보인다.
This paper presents the development of the underwater cleaning robot platform for a higher efficiency in manufacturing industry. Human operators directly go into the cistern and clean sludge after drainage of the water so far. It is sometimes dangerous because of the harmful chemical materials from the product making process. In addition, it takes long time for water drainage and supplying it back. However, the robot cleaning operation does not need to drain water so that it could be applied to the sludge cleaning work at any time without the plant pause. Moreover, it can prevent the safety accidents because human operators are not necessary to enter directly the sludge cisterns. This paper shows the performance of cleaning work that can be applied in the industrial field through the design and development of underwater cleaning robot platform. And these results demonstrate that the developed underwater cleaning robot has great possibilities to clean other industrial water cisterns.
본 연구에서는 선박에서 발생하는 대기오염물질을 처리하기 위해 사용되는 습식 스크러버를 이용한 배기가스 세정시스템(EGCS: Exhaust Gas Cleaning System)에서 발생되는 폐수를 재이용 할 수 있는 순환시스템을 개발하기 위해 진행되었다. 선박 배기가스 DePM, DeSOx 순환처리장치 (Recycle system)의 세정수의 입자성물질과 분산유를 효과적으로 제거할 수 있는 수 처리 시스템을 개발한 결과 원심분리형 Purifier만으로는 미세한 분산유의 처리가 어렵다는 결과가 도출되어 원심분리형 Purifier 후처리로 유수분리 경사 분리판을 이용한 유수분리기의 일종인 Coalescer를 본 시스템에 적용하였다. Coalescer는 2차 분산 상태의 에멀젼화 된 미세 기름입자를 합착시켜 분리하는 기술이다. 선박 배기가스 DePM, DeSOx 순환처리장치 (Recycle system)에서 배출되는 세정수를 Purifier와 Coalescer를 이용하여 처리한 결과 입자성물질은 55% 분산유는 유입수 대비 99%이상 처리되는 것을 확인하였다. 따라서 선박 대기오염 저감을 위한 습식세정탑 시스템에 본 세정수 처리시스템을 도입하면 세정수로서 재사용이 가능하다고 판단된다.
A semiconductor cleaning technology has been based upon RCA cleaning which consumes vast amounts of chemicals and ultra pure water. This technology hence gives rise to many environmental issues, and some alternatives such as electrolyzed water are being studied. In this work, intentionally contaminated Si wafers were cleaned using the electrolyzed water. The electrolyzed waters were obtained in anode and cathode with oxidation reduction potentials and pH of -1050mV and 4.8, and -750mV and 10.0, respectively. The electrolyzed water deterioration was correlated with $CO_2$ concentration changes dissolved from air. Overflowing of electrolyzed water during cleaning particles resulted in the same cleanness as could be obtained with RCA clean. The roughness of patterned wafer surfaces after EW clean maintained that of as-received wafers. RCA clean consumed about $9\ell$ chemicals, while electrolyzed water clean did only $400m\ell$ HCl or $600m\ell$$NH_4$Cl to clean 8" wafers in this study. It was hence concluded that electrolyzed water cleaning technology would be very effective for releasing environment, safety, and health(ESH) issues in the next generation semiconductor manufacturing.ring.
As next generation display, TFT LCD gets into the spotlight, and the bigger glass size is required. Currently, its display size is 1500 mm by 1870 mm at the six generation comparing with 300mm by 400 mm at the first one and the size is increasing continuously, which cause the difficulties to apply the cleaning operation including the general brush cleaning. In this study, water-jet cleaning operation has been introduced, which spent the less water them other cleaning methods. Throughout the experiment, is has been found the possible damage of the declined cell and the variation of the tilt bias angle depending upon the increasing time. In addition, the simulation predicts the glass bending of the display.
The paved areas in nonpoint source are highly polluted landuses because of high imperviousness and pollutant mass emissions, such as sand, cereals, and dust from vehicle activities. Most of them in highways are collected by cleaning trucks or discharged to the adjacent soil and water system through the drain ditch in stormwater. Therefore, it is necessary to investigate the relationship between water concentration and total pollutant loadings from the paved areas. From the experiment, CODcr concentration of the cleaning wastewater was 17 times greater than that of the stormwater runoff. Also, concentrations of heavy metals (Cu, Fe, Zn) were 1.3 to 1.5 times higher when compared to the stormwater runoff. While total discharged loadings was insignificant in the cleaning wastewater. In conclusion, these results provide some evidence that the stormwater runoff may be managed carefully to the aspect of total pollutant loadings and the cleaning wastewater may be handled cautiously with the pollutant concentrations in highways.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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