• 제목/요약/키워드: Thick film resistor

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고주파용 Termination 파워저항의 제작 (The fabrication of rf termination power resistor)

  • 류제천;김동진;강병돈;구본급;강전홍;유광민;유권상
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2002년도 하계학술대회 논문집 Vol.3 No.2
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    • pp.553-555
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    • 2002
  • We were fabricated of rf power resisotor on AlN substrates by thick film process. The characteristics of capacitance and microwave are measured by digital LCR meter and Network analyzer(HP8532D). The results are shown that capacitances are slight greater and microwave characteristics are good values.

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Ni-Cr 박막으로 제작한 attenuator에 대한 주파수 특성연구 (The study on frequency characteristics of attenuator fabricated by Ni-Cr thin films)

  • 김동진;류제천;구본급;강병돈;김규태;송양섭;유광민;김장환
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2000년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1637-1639
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    • 2000
  • Resister networks are used widely in many, high frequency applications for attenuators. In this paper we studied the frequency characteristics of attenuator using network analyzer and compared Ni-Cr thin film resistor with thick film resistor attenuator. Also from return loss, insertion loss and VSWR we obtained the maximum available frequency of these attenuators.

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LCR Network을 구성하는 Ru계 후막저항계의 거동 (The Behaviour of Ru Based Thick Film Resistor as a Comonent of LCR Network)

  • 박지애;이홍림;문지웅;김구대;이동아;손용배
    • 한국세라믹학회지
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    • 제34권3호
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    • pp.233-240
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    • 1997
  • LCR(Inductor Capacitor Resistor) network을 구성하기 위한 90$0^{\circ}C$소성용 Ru계 저항체를 제조하였다. 이 90$0^{\circ}C$동시소성용 저항 페이스트는 유리상 조성중 용융온도를 낮춰주는 PbO의 양을 감소시키고 Al2O3와 SiO2의 양을 증가시켜 제조하였다. 본 연구에서는 Alumina기판 위에 인쇄하고 소결한 저항체의 면저항과 Inductor와 Capacitor기판을 사용하여 제조한 저항체의 면저항 및 기판과 저항체간의 계면에 대한 관찰하였다. 또한 RuO2의 양을 달리하여 제조한 저항체의 저항값 변화에 대해서도 고찰하였다. 동시소성으로 소결한 경우, Alumina기판에서는 103~106$\Omega$/$\square$의 저항값을 얻을 수 있었으나, Inductor와 Capacitor기판에서는 저항값의 측정 범위를 벗어났다.

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반도성 산화물에 의한 $ RuO_2$ 후막저항체의 TCR조정 (TCR Adjustment of $ RuO_2$ Thick Film Resistor by Semiconducting Oxides)

  • 이병수;이준
    • 한국재료학회지
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    • 제2권1호
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    • pp.58-64
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    • 1992
  • $\textrm{RuO}_2$와 glass의 비가 20/80과 12/88인 두종류의 후막저항계에 NTCR 특성을 나타내는 여러종류의 산화물을 첨가하였을때 저항체의 TCR과 전기비저항이 어떻게 변화하는가에 대한 실험을 실시하였다. 첨가된 TCR modifier들이 NTCR특성을 갖는다고해서 저항체의 TCR이 창상 감소되지는 않으며 또한 어떠한 modifier가 모든 저항계에 항상 일정 방향으로만 TCR을 변화시키지는 않았다. 그러나 이들 TCR modifier들을 적당량 첨가함으로써 후막저항체의 TCR과 저항값을 원하는 바대로 얻을 수 있다는 가능성을 확인하였다. 두 종류의 이상의 TCR modifier를 동시에 첨가하였을때에 첨가된 TCR modifier들 각각의 TCR변화가 합해져서 결과로 나타남으로써 이들 사용된 TCR modifier들 간에는 상호작용이 없음을 알 수 있었다. TCR modifier의 첨가량은 2~3%내로 억제하는 것이 바람직함을 알 수 있었다.

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Characteristics of $\pi$-type attenuators using Ti(N) thin film resistors

  • Cuong, Nguyen Duy;Kim, Dong-Jin;Kang, Byoung-Don;Yoon, Soon-Gil
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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    • pp.50-50
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    • 2007
  • We report the effect of the film thickness on electrical properties of Ti(N) film resistors. The applications of titanium nitride thin film resistor in $\Pi$-type attenuators are also characterized. As film thickness decreases from 100 to 30 nm, temperature coefficient of resistance significantly decreases from -60 to -148 ppm/K, while sheet resistance increases from 37 to $270\;{\Omega}/{\square}$. The characterizations of 20dB-attenuators using thin film resistors are improved in comparison with those using thick film resistors. The $\Pi$-type attenuators using Ti(N) thin film resistors exhibit a attenuation of -19.94 dB and voltage standing wave ratio of 1.16 at a frequency of 2.7 GHz.

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$RuO_2$ 후막 전력 저항기의 고장 메커니즘 (Failure Mechanism of $RuO_2$ Thick Film Power Resistor)

  • 최성순;이관훈
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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    • pp.311-312
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    • 2008
  • $RuO_2$ 계열의 후막재료를 사용한 저항의 신뢰성시험을 실시하고 주요 고장 메커니즘을 확인하였다. 사용된 소자의 기판은 AlN 세라믹 기판이며, 후막재료로 $RuO_2$ paste를 프린팅하고 소결시킨 구조의 고주파용 저항(RF Termination)이다. 주요 고장 메커니즘은 후막(Thick Film)의 특성변화, 기판의 특성변화, 전극-후막 간의 접촉특성변화, Trimming 부위의 열화, 열팽창계수 차이에 의한 기계적 파손 등으로 알려져 있으며, 본 실험에서는 고장모드 분석을 위해 과부하시험, 고온동작시험 등을 포함한 신뢰성 환경시험과 수명시험을 실시하였다. 각 시험 결과 수명시험 후 전극-후막 간의 접합부 파괴가 관찰되었고, 열충격 시험 결과 후막의 crack이 관찰되었다.

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산화루테늄계 후막 저항기의 과도한 전류잡음에 관한 고찰 (Study on the Excessive Current Noise in $RuO_2$ Thick Film Resistors)

  • 김지호;김진용;임한조;신철재;박홍이
    • 전자공학회논문지A
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    • 제29A권3호
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    • pp.79-86
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    • 1992
  • The cause of excess current noise which appears some times in RuO$_2$ thick film chip resistors and the process to reduce such noise are investigated. We observed that too large thermal expansion coefficients of resistor paste and electrode metal paste can induce the mechanical stress and microcracks in the contact region of the two sintered materials. Such microcracks result in the reduction of conduction paths in the sintered electrode and this provokes the increase of the resistance value and the current noise. Such excessive current noise induced by microcracks could be reduced or even eliminated by using an enlarged overcoat patterns in the plating process or by adding an additional annealing process before plating.

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열처리조건에 따른 VO2 후막 급변온도센서의 특성연구 (Characterization of VO2 thick-film critical temperature sensors by heat treatment conditions)

  • 송건화;유광수
    • 센서학회지
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    • 제16권6호
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    • pp.407-412
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    • 2007
  • For $VO_{2}$ sensors applicable to temperature measurement by using the nature of semiconductor to metal transition, the crystallinity, microstructure, and temperature vs. resistance characteristics were investigated systematically as a function of the annealing condition. The starting materials, vanadium pentoxide ($V_{2}O_{5}$) powders, were mixed with vehicle to form paste. This paste was screen-printed on $Al_{2}O_{3}$ substrates and then $VO_{2}$ thick films were heat-treated at $450^{\circ}C$ to $600^{\circ}C$, respectively, for 1 hr in $N_{2}$ gas atmosphere for the reduction. As results of the temperature vs. resistance property measurements, the electrical resistance of the $V_{2}O_{5}$ sensor in phase transition range was decreased by $10^{3.9}$ order. The presented critical temperature sensor could be used in fire-protection and control systems.

$RuO_2$계 후막저항체의 교류 임피던스특성 (A.C. Impedance Properties on $RuO_2$-Based Thick Film Resistors.)

  • 구본급;김호기
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1990년도 하계학술대회 논문집
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    • pp.215-220
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    • 1990
  • A.C. impedance properties of $RuO_2$ based thick film resistors which having different resistivity value (DuPont 1721 : $100{\Omega}$/ sq., 1741 : $10K{\Omega}$/sq.) were investigated using by impedance analyzer. In case of lower resistivity 1721 system, the complex impedance was composed nearly R component for all speciman sintered at above $600^{\circ}C$, and the frequency dependancy on impedance was not affected very much up to 5MHz and again gradually increase with increasing the frequency. In case of higher resistivity 1741 resistor system, impedance properties were very depandant on sintering temperature. When sintering temperature was $600^{\circ}C$, the complex impedance plot shows a vertical line, which correspond to lone capacitance equivalant circuit, and the impedance linearly decreased with increasing frequency. In case of speciman sintered at $700-900^{\circ}C$, the complex impedance plot shows semi-circular are correspond to a lumped RC combination, and the impedance shows constant value to 5MHz, again decreased with increasing frequency. But the complex impedance behavior of speciman sintered at $1000^{\circ}C$ was shows the equivalent circuit correspont to parallel combined LCR component, and the impedance was not varied with frequency.

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$SiO_2$ barrier에 따른 $SnO_2$ : Sb 투명전도막의 특성고찰 (Properties Evaluation of $SnO_2$ : Sb transparent conductive films by $SiO_2$ barrier)

  • 김범석;김창열;임태영;오근호
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2003년도 춘계학술발표강연 및 논문개요집
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    • pp.190-190
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    • 2003
  • 여러원소 (Sb, F 등)를 도핑한 SnO$_2$ 투명전도막은 여러 가지 훌륭한 특성으로 Solar cell, heat mirrors, gas sensors, liquid crystal displays, thick film resistor 등과 같이 넓은 범위에서 응용되고 있다. 본 연구에서는 Sb 도핑된 Tin Oxide films이 Sol-gel dip coating법에 의해 준비되었다. SnO$_2$:Sb 용액은 SnC1$_2$ 와 SbC1$_3$ Power를 알코올에 용해하여 Ethylene glycol 와 Citric acid를 첨가하여 합성하였다. 막의 상형성은 XRD와 SEM(Scanning electron microscope)에 의해서 분석되었으며, 특성분석은 투과율(UV/VIS Spectrophotometer)과 표면전기저항(four point probe)으로 분석되었다. SiO$_2$ barrier이 SnO$_2$:Sb 막의 특성에 미치는 영향을 확인하기 위하여 XPS(X-ray photoelectron spectroscopy) 분석이 적용되었다.

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