In this study, the light addressable potentiometric sensors (LAPS) with $Si_{3}N_{4}/SiO_{2}/Si$, and $Ta_{2}O_{5}/SiO_{2}/Si$ structures were fabricated. The penicillinsae was immobilized on the devices to hydrolyze the penicillin using self-assembled monolayer (SAM) method. Then response characteristics according to the penicillin concentrations were measured and compared. The measuring system was simplified by using LabVIEW. The pH response characteristics of fabricated devices are 56 mV/pH ($Si_{3}N_{4}$ sensing membrane) and 61 mV/pH ($Ta_{2}O_{5}$ sensing membrane). The sensitivity of sensor by enzyme reaction result of the enzyme reaction were 60 mV/decade and 74 mV/decade for $Si_{3}N_{4}/SiO_{2}/Si$ and $Ta_{2}O_{5}/SiO_{2}/Si$ structure, respectively, in the range of $0.1\;mM{\sim}10\;mM $of the penicillin concentration.
산마늘 에탄올 추출물과 각종 유기용매 분획물에 대하여 항돌연변이원성과 세포독성을 검토하였다. 시료자체는 돌연변이원성이 없는 것으로 나타났다. 직접 변이원인 MNNG에 대한 항돌연변이 효과에서 S. typhimurium TA100 균주에 대해 산마늘 에탄올 추출물(200$\mu\textrm{g}$/plate)에서 88.2%의 억제효과를 나타내었다. 동일 시료 농도에서 4NQO에 대해서는 S. typhimurim TA98과 TA100 두 균주 모두에서 각각 76.4%와 83.0%의 비교적 높은 억제효과를 나타내었다. 암세포 성장 억제 효과를 검토한 실험에서는 에탄올 추출물이 다른 분획물보다 높은 억제활성을 나타내었다. 시료농도의 증가와 함께 억제활성도 증가하는 경향을 나타내었으며 시료농도 50 $\mu\textrm{g}$/plate에서 A549가 74.2%, MCF-7이 71.3% 그리고 KATOIII에 대하여 67.4%의 암세포 성장억제효과를 나타내었다.
1W급의 DC-DC converter에 탑재하기 위해 FeTaN 연자성 자성박막을 이용한 박막형 인덕터를 제조하여 특성을 평가하였다. 자심부분은 2$\mu\textrm{m}$ 두게의 F $e_{78.81}$T $a_{8.47}$$N_{12.71}$ 연자성 박막을 사용하였으며 코일부분은 100$\mu\textrm{m}$ 두게의 Cu를 사진공정과 전기도금공정을 이용하여 제조하였다. 제조된 박막 인덕터의 디자인은 상호인덕턴스를 효율적으로 증가시킬 수 있는 double rectangular spiral형태였으며 측정된 특성은 DC-DC converter의 작동주파수인 1 MHz에서 인덕턴스 980nH, 저항 1.7 $\Omega$Q 값은 3.55였다.다.
This paper reports on the fabrication process and characteristics of a ceramic thin-film pressure sensor based on Ta-N strain-gauges for harsh environment applications. The Ta-N thin-film strain-gauges are sputter-deposited on a thermally oxidized micromachined Si diaphragms with buried cavities for overpressure tolerance. The proposed device takes advantage of the good mechanical properties of single-crystalline Si as a diaphragm fabricated by SDB and electrochemical etch-stop technology, and in order to extend the temperature range, it has relatively higher resistance, stability and gauge factor of Ta-N thin-films more than other gauges. The fabricated pressure sensor presents a low temperature coefficient of resistance, high-sensitivity, low non-linearity and excellent temperature stability. The sensitivity is 1.21 ~ 1.097 mV/V.kgf/$\textrm{cm}^2$ in temperature ranges of 25~ $200^{\circ}C$ and a maximum non-linearity is 0.43 %FS.
This study was performed to examine the antimutagenic and cytotoxic effects of potato vinegar and commercial vinegars(cider, brown rice, persimmon vinegars) on Salmonella typhimurium TA98, TA100 and cancer cell lines using Ames test and cytotoxicity assay, respectively. In Ames test, all vinegars did notexhibit any mutagenicity , but showed substantial inhibitory effects against N- methyl - N -nitro - N- nitrosog -uanidine(MNNG) , 4-nitroquinoline-1-oxide(4NQO), 3-amino-1,4-dimethyl-5H-pyrido(4,3-b)indol(Trp-P-1)and benzo( $\alpha$ )pyrene(B( $\alpha$ )P). The number of revertants per plate decreased significantly when these vinegars(80 ug/plate) were added to the assay system using TA100 strain. Especially, potato vinegar(80 ug/plate) showed high inhibition rate of 69.9% against mutagenicity of B( $\alpha$ )P on TA100 strain. In the cytotoxicity assay, these vinegars also showed prominent cytotoxic activity against human cancer cell lines. Potato vinegar(10 ug/well) showed the strongest cytotoxic effect against HT1080 (fibrosacoma cell) andK562 ( myelogenous leukemia) at the same concentration when compared with other vinegars.
N-channel metal-ferroelectric-insulator-semiconductor field-effect-transistors (MFISFET's) by using $SrBi_2Ta_2O_9$/Silicon Nitride/Si (100) structure were fabricated. The fabricated devices exhibit comfortable memory windows, fast switching speeds, good fatigue resistances, and long retention times that are suitable for advanced ferroelectric memory applications. The estimated switching time and polarization ($2P_r$) of the fabricated FET measured at applied electric field of 376 kV/cm were less than 50 ns and about 1.5 uC/$\textrm{cm}^2$, respectively. The magnitude of on/off ratio indicating the stored information performance was maintained more than 3 orders until 3 days at room temperature. The $I_DV_G$ characteristics before and after being subjected to $10^11$ cycles of fatigue at a frequency of 1 MHz remained almost the same except a little distortion in off state.
Phase transition, dielectric properties, and leakage current characteristics of Ta2O5 thin film fabricated by sol-gel process with tantalum penta-n-butoxide were studied as a function of annealing temperature in O2 atmoshpere. Although Ta2O5 thin film annealed at temperatures below 700$^{\circ}C$ for 1 hr was amorphous, it was crystallized to ${\beta}$-Ta2O5 of orthorhombic phase by annealing at temperatures higher than 750$^{\circ}C$. With increasing annealing temperature from 500$^{\circ}C$ to 900$^{\circ}C$, dielectric constant of sol-gel processed Ta2O5 thin film was changed from 17.6 to 15.3 due to the increase of SiO2 thickness at Ta2O5/Si interface. For Ta2O5 thin film annealed at 500$^{\circ}C$ to 800$^{\circ}C$ for 1 hr in O2 atmosphere, leakage current was remarkably reduced and breakdown strength was increased with higher annealing temperature. For Ta2O5 film annealed at 800$^{\circ}C$, breakdown did not occur even at electric field strength of 30${\times}$105V/cm and leakage current was maintained lower than 10-8A/$\textrm{cm}^2$.
The Tantalum nitride has attracted wide at attention as issues related to the toxicity of Cd-related materials. But in the titration process of Ta$Cl_5$ solution with $NH_4$OH, $NH_4$Cl, as a by product, was remained in the prepared Tantalum precursor. The tantalum precursor with $NH_4$Cl was nitrided by ammonolysis. The red color tone of $Ta_3N_5$ was reduced by the residual $NH_4$Cl reduce. Therefore, amorphous Tantalum precursor was prepared by filtering process with as hydrous ethanol to remove the $NH_4$Cl. In the case of using Tantalum precursor without $NH_4$Cl, we successfully synthesized the Tantalum nitride with good red color. The value of red color tone was improved from $a^*$=36.8 to $a^*$=53.0. The synthesized powder was characterized by XRD, SEM, the Nitrogen / Oxygen Determinator, TG-DTA, and the CIE $L^*a^*b^*$ colorimeter.
Ta(TaC) 필라멘트를 이용한 HF-CVD 법에 의하여 $Si_3N_4$, SiC, WC, $Al_2O_3$를 기판으로 다이아몬드 박막을 증착하고, 그 밀착특성을 평가하였다. 로내의 $CH_4$농도를 10%로 높게 하였을 경우에는 막중에 graphitic(amorphous) carbon이 생성됨을 확인할 수 있었다. 박막을 $12\mu\textrm{m}$ 정도까지 두껍게 하면, WC기판에서는 부분적 박리형상이 관찰되었으나, $Si_3N_4$를 기판으로 하였을 경우에는 안정한 박막을 얻을 수 있었다. Indentation test 결과로부터 grainding에 의한 기판표 처리가 밀착성 향상에 효과적이라는 것을 알 수 있었다. 또 compression topple test에서는 박막의 두께는 밀착성과 반비례의 관계를 가지는 것을 알 수 있었다. 수 있었다.
The effect of nitrogen doping on the mechanical and tribological performance of single-layer tetrahedral amorphous carbon (ta-C:N) coatings of up to $1{\mu}m$ in thickness was investigated using a custom-made filtered cathode vacuum arc (FCVA). The results obtained revealed that the hardness of the coatings decreased from $65{\pm}4.8GPa$ to $25{\pm}2.4GPa$ with increasing nitrogen gas ratio, which indicates that nitrogen doping occurs through substitution in the $sp^2$ phase. Subsequent AES analysis showed that the N/C ratio in the ta-C:N thick-film coatings ranged from 0.03 to 0.29 and increased with the nitrogen flow rate. Variation in the G-peak positions and I(D)/I(G) ratio exhibit a similar trend. It is concluded from these results that micron-thick ta-C:N films have the potential to be used in a wide range of functional coating applications in electronics. To achieve highly conductive and wear-resistant coatings in system components, the friction and wear performances of the coating were investigated. The tribological behavior of the coating was investigated by sliding an SUJ2 ball over the coating in a ball-on-disk tribo-meter. The experimental results revealed that doping using a high nitrogen gas flow rate improved the wear resistance of the coating, while a low flow rate of 0-10 sccm increased the coefficient of friction (CoF) and wear rate through the generation of hematite (${\alpha}-Fe_2O_3$) phases by tribo-chemical reaction. However, the CoF and wear rate dramatically decreased when the nitrogen flow rate was increased to 30-40 sccm, due to the nitrogen inducing phase transformation that produced a graphite-like structure in the coating. The widths of the wear track and wear scar were also observed to decrease with increasing nitrogen flow rate. Moreover, the G-peaks of the wear scar around the SUJ2 ball on the worn surface increased with increasing nitrogen doping.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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