본 연구에서는 수지상균근균(AMF)의 형태적 및 분자 생물학적 특징을 바탕으로 문안산에 분포하는 수지상균근균의 종 다양성을 분석하였다. AMF 시료는 생강나무(Lindera obtusiloba), 국수나무(Stephanandra incisa), 쪽동백(Styrax obassis), 노린재나무(Symplocos sawafutagi)의 뿌리와 뿌리 부근의 토양에서 채취하였으며, 수수(Sorghum bicolor)를 숙주식물로 사용하여 포자를 배양하였다. 추출된 포자들의 형태 형질과 염기서열을 분석한 결과 Acaulospora longula, A. mellea, Ambispora leptoticha, Gigaspora margarita, Paraglomus occultum 등 4속 5종이 동정되었으며, 숙주식물에 따른 수지상균근균의 분포는 수종에 따라서 다른 경향을 보였다. 생강나무에서는 A. longula가, 국수나무, 쪽동백나무, 노린재나무에서는 A. leptoticha가 우점종이었다.
In this study, we have investigated the effects of Mn dopant on the bulk trap levels and grain boundary characteristics of $Bi_2O_3$-based ZnO (ZB) varistor using admittance spectroscopy and dielectric functions (such as $Z^*,\;Y^*,\;M^*,\;\varepsilon^*$, and $tan\delta$). Admittance spectra and dielectric functions show two bulk traps of $Zn_i^{..}$ (0.20 eV) and $V^{\bullet}_o$ (0.29~0.33 eV) in ZnO-$Bi_2O_3-Mn_3O_4$ (ZBM). The barrier of grain boundaries in ZBM could be electrochemically single type. However, its thermal stability was slightly disturbed by ambient oxygen because the apparent activation energy of grain boundaries was changed from 0.79 eV at lower temperature to 1.08 eV at higher temperature. The grain boundary capacitance $C_{gb}$ was decreased slightly with temperature as 1.3~1.8 nF but resistance $R_{gb}$ decreased exponentially. The relaxation time distribution can result from the heterogeneity of the barriers constituting the varistor. It is revealed that Mn dopant in ZB reduced the heterogeneity of the barrier in grain boundaries and stabilized the barrier against the ambient temperature.
Marasmius scorodonius secretes an extracellular laccase in potato dextrose broth, and this enzyme was purified up to 206-fold using $(NH_4)_2SO_4$ precipitation and a Hi-trap Q Sepharose column. The molecular mass of the purified laccase was estimated to be ~67 kDa by SDS-PAGE. The UV/vis spectrum of the enzyme was nontypical for laccases, and metal content analysis revealed that the enzyme contains 1 mole of Fe and Zn and 2 moles of Cu per mole of protein. The optimal pH for the enzymatic activity was 3.4, 4.0, and 4.6 with 2,2'-azino-bis(3-ethylbenzothazoline-6-sulfonate) (ABTS), guaiacol, and 2,6-dimethoxy phenol as the substrate, respectively. The optimal temperature of the enzyme was $75^{\circ}C$ with ABTS as the substrate. The enzyme was stable in the presence of some metal ions such as $Ca^{2+}$, $Cu^{2+}$, $Ni^{2+}$, $Mg^{2+}$, $Mn^{2+}$, $Ba^{2+}$, $Co^{2+}$, and $Zn^{2+}$ at a low concentration (1 mM), whereas $Fe^{2+}$ completely inhibited the enzymatic activity. The enzymatic reaction was strongly inhibited by metal chelators and thiol compounds except for EDTA. This enzyme directly decolorized Congo red, Malachite green, Crystal violet, and Methylene green dyes at various decolorization rates of 63-90%. In the presence of 1-hydroxybenzotriazole as a redox mediator, the decolorization of Reactive orange 16 and Remazol brilliant blue R was also achieved.
Osteoclasts are bone-resorbing multinucleated cells derived from the monocyte/macrophage lineage. The differentiation of osteoclasts are regulated by osteoblastic cells expressed RANKL, which is the most critical molecule for osteoclast differentiation. In this study, we found that water extracts of cuscuta inhibited RANKL-mediated osteoclast differentiation by direct action on bone marrow macrophages (BMMs) without cytotoxicity. In BMMs, water extracts of cuscuta inhibited the mRNA expression of c-Fos, NFATc1, TRAP, and OSCAR. Also, the protein expression of c-Fos and NFATc1 was inhibited by water extracts of cuscuta treatement. Water extracts of cuscuta inhibited the phosphorylation of p38, ERK, and JNK in BMMs treated with RANKL. However, water extracts of cuscuta did not inhibit RANKL-induced I-${\kappa}B$ activation. Water extract of cuscuta failed to inhibit bone resorption by osteoclasts cultured on hydroxyapatite plates. These results suggest that cuscuta may be a promising drug for use against bone disorders such as osteoporosis and rheumatoid arthritis.
국내 사과원에서 복숭아순나방붙이 발생여부를 조사하기 위하여 성페로몬트랩을 이용하여 조사하였다. 복숭아순나방붙이는 연간 4세대 발생을 보였으며, 월동성충 발생은 5월 상순, 제 1세대는 6월 하순~7월 상순, 2세대는 7월 하순~8월 중순, 3세대는 8월하순~9월이었다. 복숭아순나방붙이의 초기 월동성충 밀도는 높았으나 점차 감소하였다가, 7월 이후 발생밀도가 증가하였다. 성페로몬 조성성분이 비슷한 복숭아순나방과 복숭아순나방붙이 성페로몬트랩에 두 종이 혼재하여 유살되는지를 확인한 결과, 복숭아순나방 성페로몬 트랩에는 복숭아순나방이 98.8% 복숭아순나방붙이가 1.2% 유살되었으며, 복숭아순나방붙이 트랩에는 복숭아순나방붙이가 99.7%, 복숭아순나방이 0.3%로 유살되었다. 심식충류에 의해 피해를 받은 과실에서 유충을 우화하여 동정한 결과, 33.3%가 복숭아순나방붙이였다. 이상의 결과를 종합해 볼 때 복숭아순나방붙이가 사과원의 새로운 주요 과실가해 해충으로 확인되었다.
Effects of 1.0 mol% CoO addition on sintering and the electrical properties of ZnO-Bi2O3-Sb2O3(ZBS) varistor system with 3.0 mol% co-addition of Sb2O3 and Bi2O3 at various Sb/Bi ratio (0.5, 1.0, and 2.0) were investigated. Cobalt had little influence on the liquid-phase formation and the pyrochlore decomposition temepratures of ZBS, while densification was mainly dependent on Sb/Bi ratio: when Sb/Bi=0.5, excess Bi2O3 irrelevant to the formation of pyrochore(Zn2Sb3Bi3O14) forms eutectic liquid at ~75$0^{\circ}C$ which promotes densification and grain growth; with Sb/Bi=2.0, the second phase Zn7Sb2O12 formed by excess Sb2O3 irrelevant to the formation of the pyrochlore retards densification up to ~100$0^{\circ}C$. These phases caused the coarsening and uneven distribution of the second phase particles on the grain boundaries of ZnO above the pyrochlore decomposition temperature(~105$0^{\circ}C$), which led to broad size dist-ribution of ZnO; the specimen with Sb/Bi=1.0 showed homogeneous microstructure compared with the others, which enabled improved varistor characteristics. Doping of Co increased the nonlinearity and the potential barrier height of ZBS, which is thought to stem from improved sintering behavior such as homogenized microstructure due to size reduction and even distribution of the second phase and suppressed volatility of Bi2O3, as well as the improvement in the potential barrier structure via increased donor and interface electron trap densities.
Perfluorinated compounds (PFCs) have a wide range of domestic and industrial applications, but they are persistent in the environment. Perfluorooctanoic acid (PFOA) and perfluorooctanesulfonate (PFOS) are among the metabolites of PFCs and occur at high concentration in the environment. Korea is the largest importer of PFC compounds in the world, therefore, the accumulation of these compounds is possible. In this study, the concentrations of PFOS and PFOA were determined in water samples taken from sewage treatment plants (STPs) and the Han River in Seoul, Korea. After extraction with a HLB cartridge, PFCs in the samples were analyzed by HPLC with an ion trap mass spectrometry in electrospray negative mode. Limits of detection was between 1 and 1.6 ng/l. The result showed that the concentrations of PFOS and PFOA in effluent and influent of the four STPs in Seoul were 60~570 ng/l, and not detected (nd)~254 ng/l, respectively. The levels of PFOS and PFOA were higher in the effluents which passed through the treatment process than in influent water samples which was against expectation. The concentration of PFOA and PFOS in the Han River was 60~570 ng/l and nd~254 ng/l, respectively. PFOA was detected in every sample, but PFOS was only detected in the downstreams of the Han River. This result indicates that there is comprehensive contamination of PFCs in the aquatic environment in Korea.
In this paper, the $(SrPb)(CaMg)TiO_3$-xBi_2O_3{\cdot}3TiO_2$ ceramics with paraelectric properties were fabricated by the mixed oxide method. In order to investigate the behavior of charged particles, the characteristics of electrical conduction and thermally stimulated current were measured respectively. As a result on characteristics of the electrical conduction, the leakage current was increased as measuring temperature was increased. At room temperature, the conduction current was divided into the three steps as a function of DC electric field. The first step was Ohmic region due to ionic conduction, below 15[kV/cm]. The second step was showed a saturation which seems to be related to a depolarizing field occuring in field-enforced ferroelectric phase, between 15[kV/cm] and 40[kV/cm]. The third step was attributed to Child's law related to spare charge which injected from electrode, above 40[kV/cm]. Thermally stimulated currents(TSC) spectra with various biasing fields exhibited three distinguished peaks that were denoted as ${\alpha}$, ${\alpha}'$ and ${\beta}$ peak, each of which appeared at nearby -30, 20 and 95[$^{\circ}C$] respectively. It is confirmed that the a peak was due to trap electron trapped in the grainboundary, and ${\alpha}'$ peak that was observed above only 1.5[kV/mm] was attributed to field-enforced ferroelectric polarization. The origin of ${\beta}$ peak was identified as ion migration which caused the degradation.
The silicon dioxide ($SiO_2$) was deposited using various gas as oxygen and nitrous oxide ($N_2O$) in nowadays. In order to improve electrical characteristics and the interface state density ($D_{it}$) in low temperature, It was deposited with carbon dioxide ($CO_2$) and silane ($SiH_4$) gas by inductively coupled plasma chemical vapor deposition (ICP-CVD). Each $D_{it}$ of $SiO_2$ using $CO_2$ and $N_2O$ gas was $1.30{\times}10^{10}cm^{-2}{\cdot}eV^{-1}$ and $3.31{\times}10^{10}cm^{-2}{\cdot}eV^{-1}$. It showed $SiO_2$ using $CO_2$ gas was about 2.55 times better than $N_2O$ gas. After 10 years when the thin film was applied to metal/insulator/semiconductor(MIS)-nonvolatile memory(NVM), MIS NVM using $SiO_2$($CO_2$) on tunneling layer had window memory of 2.16 V with 60% retention at bias voltage from +16 V to -19 V. However, MIS NVM applied $SiO_2$($N_2O$) to tunneling layer had 2.48 V with 61% retention at bias voltage from +20 V to -24 V. The results show $SiO_2$ using $CO_2$ decrease the $D_{it}$ and it improves the operating voltage.
In this study, we fabricated an amorphous InGaZnO pseudo-MOS transistor (a-IGZO ${\Psi}$-MOSFET) with a stacked $Si_3N_4/SiO_2$ (NO) gate dielectric and evaluated reliability of the devices with various thicknesses of a $SiO_2$ buffer layer. The roles of a $SiO_2$ buffer layer are improving the interface states and preventing degradation caused by the injection of photo-created holes because of a small valance band offset of amorphous IGZO and $Si_3N_4$. Meanwhile, excellent electrical properties were obtained for a device with 10-nm-thick $SiO_2$ buffer layer of a NO stacked dielectric. The threshold voltage shift of a device, however, was drastically increased because of its thin $SiO_2$ buffer layer which highlighted bias and light-induced hole trapping into the $Si_3N_4$ layer. As a results, the pseudo-MOS transistor with a 20-nm-thick $SiO_2$ buffer layer exhibited improved electrical characteristics and device reliability; field effective mobility(${\mu}_{FE}$) of 12.3 $cm^2/V{\cdot}s$, subthreshold slope (SS) of 148 mV/dec, trap density ($N_t$) of $4.52{\times}1011\;cm^{-2}$, negative bias illumination stress (NBIS) ${\Delta}V_{th}$ of 1.23 V, and negative bias temperature illumination stress (NBTIS) ${\Delta}V_{th}$ of 2.06 V.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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