We present terahertz optical properties of $GdBa_2Cu_3O_{7-x}$ (GdBCO) superconducting thin films. GdBCO films with a thickness of about 105 nm were grown on a $LaAlO_3$ (LAO) single crystal substrate using a conventional pulsed laser deposition (PLD) technique. Using an Ar ion milling system, the thickness of the GdBCO film was reduced to 58 nm, and its surface was also smoothened. Terahertz (THz) transmission spectra through two different GdBCO films are measured over the range between 0.2 and 1.5 THz using THz time domain spectroscopy. Interestingly, the THz transmission of the thinner GdBCO film has been increased to six times larger than that of the thicker one, while the thinner film is still maintaining its superconducting property at below 90 K.
Jung, J. H.;Lee, H. J.;Kim, K. W.;Kim, M. W.;Noh, T. W.;Wang, Y. J.;Kang, W. N.;Jung, C. U.;Lee, Sung-Ik
Progress in Superconductivity
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v.3
no.1
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pp.31-35
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2001
We investigated the temperature and magnetic field dependent optical properties of a$ MgB_2$ thin film in the far-infrared region. In the superconducting state, i.e. 5 K, we obtained the values of superconducting gap $2\Delta$ ~ 5.2 meV and $2\Delta$$_{k}$$B/T_{c}$ ~1.8. Although the value of$ 2\Delta$$B/T_{c}$ was nearly half of the BCS value, the $2\Delta$ seemed to follow the temperature dependence of the BCS formula. Under the magnetic field (H), the superconducting state became suppressed. Interestingly, we found that the normal state area fraction abruptly increased at low field but slowly increased at high field. It did not follow the H-dependences predicted for a s-wave superconductor (i.e. a linear dependence) nor for a s-wave one (i.e. $H^{1}$2/ dependence). We discussed the complex gap nature of $MgB_2$ in comparison with two gap and anisotropic s-wave scenarios.ios.
Superconducting quantum phenomena are getting attention from the field of metrology area. Following its first successful application of Josephson effect to voltage standard, piconewton force standard was suggested as a candidate for the next application of superconducting quantum effects in metrology. It is predicted that a micron-sized superconducting Nb ring in a strong magnetic field gradient generates a quantized force of the order of sub-piconewtons. In this work, we studied the design and fabrication of Nb superconducting quantum interference device (SQUID) on an ultra-thin silicon cantilever. The Nb SQUID and electrodes were structured on a silicon-on-insulator (SOI) wafer by dc magnetron sputtering and lift-off lithography. Using the resulting SOI wafer, we fabricated V-shaped and parallel-beam cantilevers, each with a $30-{\mu}m$-wide paddle; the length, width, and thickness of each cantilever arm were typically $440{\mu}m,\;4.5{\mu}m$, and $0.34{\mu}m$, respectively. However, the cantilevers underwent bending, a technical difficulty commonly encountered during the fabrication of electrical circuits on ultra-soft mechanical substrates. In order to circumvent this difficulty, we controlled the Ar pressure during Nb sputtering to minimize the intrinsic stress in the Nb film and studied the effect of residual stress on the resultant device.
Sung G.Y.;Choi, C.H.;Suh J.D.;Han, S. K.;Kang, K.Y.;Hwang, J.S.;Yoon, S.G.;Jung, K.R.;Lee, Y.H.;Kang, J.H.;Kim, Y.H.;Hahn, T.S.
Progress in Superconductivity
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v.1
no.1
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pp.31-35
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1999
We have fabricated and tested a simple circuit of the rapid single-flux-quantum(RSFQ) four-stage shift register using a single layer high-$T_c$ superconducting (HTS) $YBa_2Cu_3O_{7-x}$ (YBCO) thin film structure with 9 step-edge Josephson junctions. The circuit includes two read superconducting quantum interference devices(SQUID) and four stages. To establish a robust HTS RSFQ device fabrication process, we have focussed on the reproducible process of sharp and straight step-edge formation as well as the ratio of film thickness to step height, t/h. The spread of step-edge junction parameters was measured from each 13 junctions with t/h=1/3, 1/2, and 2/3 at various temperatures. We have demonstrated the simplified operation of the shift register at 65 K.
We have investigated the electrical transport properties of polycrystalline tantalum nitride (TaNx) films. Various compositions of tantalum (nitride) thin films have been deposited on SiO2 substrates by reactive DC magnetron sputtering while changing the ratio of nitrogen partial pressure. The substrate temperature was maintained at 283 K during deposition. X-ray diffraction analyses indicated the presence of α-Ta and β-Ta phases in the Ta film deposited in pure argon atmosphere, while fcc-TaNx phases appeared in the sputtering gas mixture of argon and nitrogen. The N/Ta atomic ratio in the film increased ranging from 0.36 to 1.07 for nitrogen partial pressure from 7 to 20.7%. The superconducting transition temperatures of the TaNx thin films were measured to be greater than 3.86 K with a maximum of 5.34 K. The electrical resistivity of TaNx thin film was in the range of 177-577 𝜇Ωcm and increased with an increase in nitrogen content. The upper critical filed at zero temperature for a TaN0.87 thin film was estimated to exceed 11.3 T, while it showed the lowest Tc = 3.86 K among the measured superconducting TaNx thin films. We try to explain the behavior of the increase of the residual resistivity and the upper critical field for TaNx thin films with the nitrogen content by using the combined role of the intergrain Coulomb effect and disorder effect by grain boundaries.
Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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2003.05a
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pp.518-521
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2003
Bi$_2$Sr$_2$Ca$_{n-1}$Cu$_{n}$O$_{x}$ superconducting thin films have been fabricated by atomic layer-by-layer deposition using IBS(Ion Beam Sputtering) method. During the deposition, 90 mol% ozone gas of typical pressure of 1~9 $\times$ 10$^{-5}$ Torr are supplied with ultraviolet light irradiation for oxidation. XRD and RHEED investigations reveal out that a buffer layer with some different compositions is formed at the early deposition stage of less than 10 units cell and then Bi-2201 oriented along the c-axis is grown.grown.
We have fabricated $FeSe_x$ superconducting thin films at much different substrate temperatures of 430 and $610^{\circ}C$ on $Al_2O_3$(0001) substrates by using a pulsed laser deposition (PLD) technique. Superconducting transitions for both films were shown around 10 K, but their transition width and growth directions of grains were different. We found that superconducting tetragonal FeSe phases and non-superconducting hexagonal FeSe phases were coexisted in the sample grown at the low temperature of $430^{\circ}C$, whereas the hexagonal FeSe phase was decreased with increasing fabrication temperatures.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.15
no.11
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pp.997-1002
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2002
BSCCO thin films are fabricated by an ion beam sputtering method, and sticking coefficients of the respective elements are evaluated. The sticking coefficient of Bi element in BSCCO film formation was observed to show a unique temperature dependence; it was almost a constant value of 0.49 below about 730$^{\circ}C$ and decreased linearly over about 730$^{\circ}C$ In contrast, Sr and Ca, displayed no such remarkable temperature dependence. This behavior of the sticking coefficient was explained consistently on the basis of the evaporation and sublimation processes of Bi$\sub$2/O$\sub$3/. It was concluded that Bi(2212) thin film constructs from the partial melted Bi(2201) phase with the aid of the liquid phase of Bi$\sub$2/O$\sub$3/.
According to the rapid growth of transmission power, fault current level approaches to the maximum capacity of circuit breaker. This paper has been proposed a superconducting current limiter (SCL) to reduce the fault current to appropriate level. Superconductor for SCL has been examined and design criterion of each triggering method has been shown. Superconducting current limiter was fabricated using thin film and switching characteristics were shown, where thermal and current triggering were adopted.
We have studied fabrication of $MgB_2$ thin film on $SrTiO_3$ (001) and r-cut $A1_2$$O_3$ substrates by rf magnetron sputtering method using and $ MgB_2$ single target and two targets of Mg and B, respectively. Based on P -T phase diagram of $MgB_2$ and vapor pressure curves of Mg and B, a three-step process was employed. B layer was deposited at the bottom to enhance the film adhesion to the substrate. Secondly, co-sputtering of Mg and B was done. Finally, Mg was sputtered on top to compensate fur the loss of Mg during annealing. Subsequently, $MgB_2$ films were in-situ annealed in various conditions. The sample fabricated using the three-step process showed $T_{c}$ of 24 K and formation of superconducting $MgB_2$ phase was confirmed by XRD spectra. In case of co-sputtering deposition, $T_{c}$ depended on annealing time and argon pressure. However, those made by single-target sputtering showed non-superconducting behavior or low transition temperature, at best.est.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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