Nanocrystalline CoFeHfO thin films have been fabricated by RF sputtering method. It is shown that the CoFeHfO thin films possess not only high electrical resistivity but also large saturation magnetization and anisotropy field. Among the composition investigated, $Co_{53}FE_{22}Hf_{10}O_{15}$ thin film is observed to exhibit good soft magnetic properties: coercivity ($H_{c}$) of 0.18 Oe; anisotropy fild ($H_{k}$) of 49.92 Oe; saturation magnetization ($4{\Pi}M_{s}$) of 15.5 kG. The frequency response of permeability of the film is excellent. The excellent magnetic properties of this film in addition of an extremely high electrical resistivity (r) of $185\;{\mu}cm$ make it ideal for uses in high-frequency applications of micromagnetic devices. It is the formation of a peculiar microstructure that resulted in the superior properties of this film.
The reduction of the Nb content in the $(Fe_{0.75}B_{0.20}Si_{0.05})_{96}Nb_4$ bulk metallic glass (BMG) has been studied. The glass-forming ability (GFA) is reduced by decreasing the Nb content, but it can be enhanced by replacing partially Fe by Co. Furthermore, the saturation magnetization of the $(Fe_{0.8}Co_{0.2})_{76}B_{18}Si_3Nb_3$ BMG is 1.35 T, being with 13% larger than that of the base alloy $(Fe_{0.75}B_{0.20}Si_{0.05})_{96}Nb_4$. $(Fe_{0.8}Co_{0.2})_{76}B_{18}Si_3Nb_3$ BMG exhibits slightly larger $B_{800}$ (the magnetic flux density at 800 A/m) and smaller core losses (20%-30%) compared with the commercial Fe-6.5 mass% Si steel.
정현파 자속밀도 조건에서 연자성 재료의 교류자기손실을 측정하기 위한 새로운 방법을 제시하였다. 본 방법은 입력전압파형을 결정짓기 위해 통상 이용하는 $H_i(B_i)$곡선대신 $V_{in}$(B)곡선을 이용함으로서 자기장, 자속밀도 그리고 입력전압간의 위상차를 고려할 필요가 없이 직접 입력전압파형을 얻을 수 있어 프로그램이 간편하게 되는 장점을 가지고 있었다. 개발된 측정방법의 유효성을 1 kHz, 10 kHz 주파수에서 페라이트 코어로 확인할 수 있었다.
0.30 mm thick and 90 mm wide thin foils made of Fe-6.5wt.%Si alloy were successfully fabricated by traditional rolling. The as-rolled sheets had good shapes and shining metal luster. The effects of annealing temperature on the magnetic properties of the sheets were investigated. Excellent Dc properties ($H_c$: 11.55 A/m, ${\mu}_m$: 23710, and $B_s$: 1.439 T) were obtained at an annealing temperature of 1453 K for 1.5 h. At low frequencies ($\leq$ 1 kHz), heat treatment temperature has little effect on iron loss which remained at the level of 9.8 W/kg. Annealing at 1273 K for 1.5 h is optimum for frequencies above 5 kHz.
자기 기록 시스템은 시간의 흐름에 따라 기록 밀도는 높아지고 있고 또한 기록 속도 역시 빨라지고 있다. 더욱 빠른 기록 속도의 요구 치로 인하여 자기 기록 헤드에 인가되어지는 기록 주파수 역시 높아져야 하고 또한 기록이 일어나는 기록 미디어의 회전 속도 역시 빨라져야 한다. 이와 같은 두 가지 요건은 헤드와 기록 미디어에서 와전류를 발생시키게 된다. 기록 헤드에서는 기록 주파수에 의해 발생되는 와전류가 존재한다. 그리고 기록 미디어에서는 기록 주파수에 의해 발생되는 와전류와 회전하는 미디어의 선속도에 의해 발생하는 와전류가 존재하게 된다. 본 논문에서는 비선형 3차원 유한 요소법을 이용하여 자기 기록 헤드에서 발생하는 와전류와 기록 미디어에서 발생하는 두 종류의 와전류의 분포를 분석하고 이와 같이 발생한 와전류가 자기 기록시스템에서 자기 기록 필드에 미치는 영향에 대해서 연구하였다.
스퍼터방식으로 제조한 FeZrCrN 미결정박막의 질소 유입량의 변화와 Cr 첨가량 변화에 따라 연자기특성과 내반응성 및 내식성을 조사하였다. 질소 유립량 증가에 따라 포화자속밀도는 감소하고 적 절한량(질소 유입량 3%)의 질소가 유입 되었을 때 열처리후에도 이방성 분산 감소효과 등에 의하여 우수 한 연자기특성이 출현 하였으며, 이때 보자력은 0.4 Oe, 투자율은 5 MHz에서 2600 정도를 나타내었다. FeZrN 박막에 Cr을 7.5 at.% 정도 첨가하였을때 포화자속밀도는 12.5kg까지 감소하였지만 양호한 연자기 특성이 그대로 유지되었고 Cr 첨가에 의해 현저한 내식성의 향상과 집합 glass와의 내반응성의 개선이 있었다.
복합타게트 방식의 고주파 2극 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여 Fe-Hf-C계 극미세 결정 연자성 박막을 제조하여 박막조성, 열처리 조건 및 기판과 그 하지층이 자기적 성질에 미치는 영향을 조사하였다. Fe-Hf-C계 초미세 결정 연자성 박막은 Hf 8-10at.%, C 14-18at.%의 조성범위에 서 비정질과 결정질의 경계에 가까운 조성일수록 연자성이 향상되었으며 포화자속밀도 16 kG, 1 MHz 에서의 실효투자율 4000 이상의 연자성을 나타내고 $600^{\circ}C$ 까지도 투자율 3000정도의 열적안정 성을 나타내었다. 기판 및 하지층에 따른 연자성 특성은 미세구조의 변화 보다는 기판/자성막 및 하지층/자성막간의 상호확산에 의해 주로 영향을 받는 것으로 나타났다.
CoFeNi 합금은 HDD, MEMS 분야에서 head core 재료로 쓰이는 permalloy(FeNi)합금보다 뛰어난 우수한 자기적 특성을 가진 재료로써 최근 많이 연구되어지고 있다. CoFeNi 합금의 조성과 전기도금 시 전류조건에 따른 미세구조와 결정학적 특성이 자기 특성에 미치는 영향을 조사하였으며, 높은 포화자화와 낮은 보자력을 갖는 CoFeNi 삼원계 합금을 전기도금 방식으로 제조하는데 성공하였다. 포화자화 1.9 T, 보자력 0.16 A/m를 갖는 대표적인 CoFeNi film의 조성은 $Co_{30}\;Fe_{34}\;Ni_{36}(at\%)$이며, 미세결정립과 ffc-bcc 상의 혼재가 낮은 보자력을 갖는 요인임을 XRD, TEM의 결과로부터 확인 하였다.
벌크 비정질 형성능과 큰 포화자속밀도를 가지는 FeBSiNb계 아몰퍼스 합금 리본을 22~102$\mu\textrm{m}$의 두께 범위에서 단롤형 액체 급냉법으로 제조하였다. 이 합금은 두께 증가에 따라 보자력이 감소하고 최대투자율 및 교류투자율이 증가하였으며, 자기이력곡선의 각형비가 감소하였다. 한편 전기 비저항은 두께와 상관없이 거의 일정한 값을 나타내었다. 또 지구 관찰 결과, 두께가 증가하면 내부 자기 이방성의 변화에 따라 자구가 미세화 되고 보다 복잡한 자구 구조를 갖는 것으로 나타났다. 두께 81$\mu\textrm{m}$인 합금의 경우, 24 mOe의 작은 보자력과 1KHz에서 12,000이상의 높은 실효투자율을 나타내어 일반적인 고 연자성 비정질 합금(두께 약 20$\mu\textrm{m}$)의 특성을 능가하였다. 이와 같은 두꺼운 FeBSiNb 비정질 합금의 우수한 연자성은 자벽이동에 대한 표면 고착 효과의 감소 및 수직자기이방성 성분의 출현과 미세화 된 자구 구조에 그 원인이 있는 것으로 평가되었다.
이온빔 증착법으로 제작한 코닝유리(Corning glass)/Ta(5 nm)/(Permalloy, Conetic)/Ta(5 nm) 박막에 대한 연자성의 특성에 대해 연구하였다. 퍼멀로이(Permalloy; NiFe)층과 코네틱(Conetic; NiFeCuMo)층을 증착하여 인가 자기장 방향에 용이축과 곤란축의 자기저항곡선으로부터 얻은 보자력과 포화자기장에 대해 각각 비교하였다. 두께가 10${\sim}$15 nm인 코네틱 박막의 표면저항값은 퍼멀로이 박막보다 2배 정도 높았으나 보자력과 포화자기장은 1/3배 정도 낮았으며, 자화율은 2${\sim}$3배 정도 높은 초연자성의 특성을 가졌다. 퍼멀로이 박막보다 연자성의 특성이 높은 코네틱 박막을 이용한 스핀밸브나 터널접합의 소자를 개발할 수 있는 가능성을 확인하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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