• 제목/요약/키워드: Sidewall

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Current and Future Trends of Accelerators and Antidegradants for the Tire Industry

  • Hong, Sung-W.
    • Elastomers and Composites
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    • 제34권2호
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    • pp.156-176
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    • 1999
  • Rubber chemicals such as accelerators, antidegradants, vulcanizing agents, processing agents and retarders are very important to the production and protection of tires and rubber goods. The use of accelerators and antidegradants are evaluated in various tire components. This paper will focus on how to vulcanize tires economically and maintain the physical properties of each tire component without severe degradation due to oxygen, heat and ozone. Also, new non-nitrosoamine accelerators and non-staining antiozonants will be discussed. Lastly, the future requirements of antidegradants and accelerators in the tire industry will be reviewed. Tires have been vulcanized with Sulfenamides as primary accelerators and either Guamdine's or Thiurams as secondary accelerators to achieve proper properties at service conditions. However, interior components such as the carcass can be vulcanized with Thiazoles as a primary accelerator to cure faster than the external components. Using the combination of Sulfenamide with secondary accelerators in a tire tread compound and the combination of a Thiazole and Guanidine in a carcass compound will be presented with performance data. Uniroyal Chemical and another Rubber Chemical Manufacturer have developed, "Tetrabenzyl Thiuram Disulfide," (TBzTD) as a non-Nitrosoamine accelerator, which could replace Nitrosoamine generating Thiurams. This new accelerator has been evaluated in a tread compound as a secondary accelerator. Also, Flexsys has developed N-t-butyl-2-benzothiazole Sulfenamide (TBSI) as a non-Nitrosoamine accelerator which could replace 2-(Morpholinothio) -benzothiazole (MBS), a scorch delayed Sulfendamide accelerator. TBSI has been evaluated in a Natural Rubber (NR) belt skim compound vs. MBS. An optimum low rolling resistant cure system has been developed in a NR tread with Dithiomorpholine (DTDM). Also, future requirements for developing accelerators will be discussed such as the replacement of DTDM and other stable crosslink systems. Antidegradants are divided into two different types for use in tire compounds. Internal tire compounds such as apex, carcass, liner, wire breaker, cushion, base tread and bead compounds are protected by antioxidants against degradation from oxygen and heat due to mechanical shear. The external components such as sidewall, chafer and cap tread com-pounds are protected from ozone by antiozonants and waxes. Various kinds of staining and non-staining antioxidants have been evaluated in a tire carcass compound. Also, various para-phenylene diamine antiozonants have been evaluated in a tire sidewall compound to achieve the improved lifetime of the tire. New non-staining antiozonants such as 2, 4, 6-tris-(N-1, 4-dimethylpentyl-p-phenylene diamine) 1, 3, 5 Trizine (D-37) and un-saturated Acetal (AFS) will be discussed in the tire sidewall to achieve better appearance. The future requirements of antidegradants will be presented to improve tire performance such as durability, better appearance and longer lasting tires.

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반복인장주기가 PET 섬유의 미세구조와 물성에 미치는 영향 (Effect of Repeated Fatigue Frequency on The Fine Structure and Properties of PET fiber)

  • 이용관;이기환;조현혹
    • 한국섬유공학회:학술대회논문집
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    • 한국섬유공학회 2002년도 봄 학술발표회 논문집
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    • pp.367-370
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    • 2002
  • PET, 나일론 등과 같이 타이어코드용으로 사용되는 섬유는 타이어 내에서 계속적인 신장, 굽힘 및 압축변형을 받기 때문에 이들로 인하여 내피로성이 아주 중요한 의미를 가진다. 일반적으로 타이어는 Tread, Bead, Carcass, Sidewall, Belt 등으로 구성되어 있는데, 여기에서 타이어 코드용 섬유는 타이어의 뼈대를 이루는 것으로 타이어의 성능과 수명을 좌우하는 아주 중요한 소재인 것이다[1-2]. (중략)

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Modified Trench MOS Barrier Schottky (TMBS) Rectifier

  • Moon Jin-Woo;Choi Yearn-Ik;Chung Sang-Koo
    • KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications
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    • 제5C권2호
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    • pp.58-62
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    • 2005
  • A trench MOS barrier Schottky (TMBS) rectifier is proposed which utilizes the upper half of the trench sidewall as an active area. The proposed structure improves the forward voltage drop by 20$\%$ in comparison with the conventional one without degradation in breakdown voltage. An analytical model for the field distribution is given and compared with two-dimensional numerical simulations.

LDD MOSFET의 최적화에 관한 연구 (Study on the Optimization of LDD MOSFET)

  • Dal Soo Kim
    • 대한전자공학회논문지
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    • 제24권3호
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    • pp.478-485
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    • 1987
  • Optimization of the sub-micron N-channel MOSFET with the LDD(Lightly Doped Drain)structure has been investigated. LDD devices with various length of n-region, n-dose and n-implantation species were fabricated for this purpose. It will be shown that LDD devices have lower substrate current by an order of magnitude and higher breakdown voltage than the conventional devices with comparable channel length. Optimized LDD structure has been found when the sidewall thickness is 2500\ulcorner and n-region is phosphorus implantd with the dose of 1.0E13/cm\ulcorner It has been found that transconductance degradation is less than 20%.

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트렌치 측벽에 소오스를 형성하여 셀 피치를 줄인 수직형 전력 모오스 트렌지스터 (Reduced Cell Pitch of Vertical Power MOSFET By Forming Source on the Trench Sidewall)

  • 박일용
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2003년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1550-1552
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    • 2003
  • 고밀도의 트렌치 전력 MOSFET를 제작하는 데 있어서 새로운 소자의 구조와 공정을 제시하고 이차원 소자 및 공정 시뮬레이터를 이용하여 검증했다. 트렌치 게이트 MOSFET의 온-저항을 낮추기 위해 셀 피치가 서브-마이크론으로 발전할 경우 문제가 되는 소오스 영역을 확보하고자 p-base의 음 접촉을 위한 P+ 영역과 N+ 소오스 등이 트렌치의 측벽에 형성되고, 트렌치 게이트는 그 아래에 매몰된 구조를 제안했다. 시뮬레이션 결과는 항복전압이 45 V이고, 온-저항이 12.9m${\Omega}{\cdot}mm^2$로 향상된 trade-off 특성을 보였다.

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Sidewall Property of Deep Si Vias Etched for 3 Dimensional Interconnection

  • 임영대;이승환;유원종;정오진;한재원
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.57-58
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    • 2007
  • 본 연구에서는 실리콘 식각 공정 중 하나인 BOSCH 공정 이후 문제가 되는 scallops를 후처리 공정인 RCA 클리닝 공정, KOH와 IPA를 이용한 습식식각 공정을 이용하여 제거하는 방법을 개발하였다. 또한 Via-Hole 에칭 공정이후 전기적 절연을 위해 측벽에 증착된 TEOS 표면에 대하여 분석하였다.

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패턴 피치크기 및 밀도에 따른 Cu CMP 공정의 AFM 분석에 관한 연구 (Studies on the AFM analysis of Cu CMP processes for pattern pitch size and density after global planarization)

  • 김동일;채연식;윤관기;이일형;조장연;이진구
    • 전자공학회논문지D
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    • 제35D권9호
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    • pp.20-25
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    • 1998
  • 대면적 평탄화 및 미세패턴형성기술로 각광받고 있는 CMP(chemical mechanical polishing) 공정을 이용하여 SiO₂ trench 패턴의 피치크기와 밀도에 따른 Cu의 평탄화 과정과 평탄화 이후의 표면 profile을 AFM(atomic forced microscopy)으로 측정하고 분석하였다. 실험결과, 평탄화 초기 연마율은 패턴밀도가 높고 피치크기가 작을수록 연마율이 증가하였으며, 초기 평탄화 이후 연마율이 급속히 감소함을 알 수 있었다. 말기 평탄화 이후, 전체 패턴의 평균 rms roughness는 120Å이었다. 그러나, 패턴피치 크기가 2㎛ 이하이고, 50% 패턴밀도를 갖는 패턴의 경우에는 Cu의 일부분이 120∼330Å 정도의 깊이로 떨어져 나가는 현상과 SiO₂와 Cu의 경계면에 oxide erosion 현상이 나타났으며, 패턴 피치 크기가 10㎛ 및 15㎛에서는 Cu와 SiO₂경계면 부분에 Cu가 260∼340Å 정도로 trench 되어 있는 것을 볼 수 있었다. 또한, SiO₂와 Cu의 패턴내부 및 접합면에서 생기는 수백 Å이하의 peeling 및 deeping 현상의 원인과 해결방안에 대해 논의하였다.

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Survey of Radiation Shielding Design Goals and Workload Based on Radiation Safety Report: Tomotherapy Vault

  • Cho, Kwang Hwan;Jung, Jae Hong;Min, Chul Kee;Bae, Sun Hyun;Moon, Seong Kwon;Kim, Eun Seog;Cho, Sam Ju;Lee, Rena
    • 한국의학물리학회지:의학물리
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    • 제29권1호
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    • pp.42-46
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    • 2018
  • The purpose of this study was to perform a survey of the radiation shielding design goals (P) and workload (W) based on the radiation safety reports concerned with structural shielding design for the IMRT treatment technique in Tomotherapy vaults. The values of the P and W factors as well as of a verified concrete thickness of the ceiling, bottom, sidewalls (sidewall-1 and sidewall-2), and door have been obtained from radiation safety reports for a total of 16 out of 20 vaults. The recommended and most widely used report for P values was the NCRP No. 151 report, which stated that the P factor in controlled and uncontrolled areas was 0.1 and 0.02 mSv/week, respectively. The range of the W factor was 600~14,720 Gy/week. The absorbed dose delivered per patient was 2~3 Gy. The maximum number of patients treated per day was 10~70. The quality assurance (QA) dose was 100~1,000 Gy/week. Fifteen values of the IMRT factor (F) were mostly used but a maximum of 20 values was also used. The concrete thickness for primary structures including the ceiling, bottom, sidewalls, and door was sufficient for radiation shielding. The P and W factors affect the calculation of the structural shielding design, and several parameters, such as the absorbed dose, patients, QA dose, days and F factor can be varied according to the type of shielding structure. To ensure the safety of the radiation shielding, it is necessary to use the NCRP No. 151 report for the standard recommendation values.

RPUM과 유리섬유 파이프로 막장을 보강한 토사터널의 변형거동 (The deformation behavior of soil tunnels reinforced with RPUM and fiberglass pipes)

  • 남기천;허영;김치환;유광호
    • 한국터널지하공간학회 논문집
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    • 제4권3호
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    • pp.185-193
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    • 2002
  • 본 연구에서는 풍화토층에 굴착된 지하철 터널의 변형거동과 종방향 지보재의 보강효과가 3차원 유한차분해석에 의해 조사되었다. 굴착방법이 터널 변형거동에 미치는 영향을 조사하기 위해서 반단면 및 전단면의 2가지 굴착방법이 고려되었다. 또한, 우산형 막장보강법 (RPUM) 및 유리섬유 파이프의 보강효과가 비교되었다. 터널 변형거동을 분석하기 위해 막장변위, 내공변위, 선행변위 및 측벽변위가 조사되었고, 굴착방법 및 종방향 지보재의 효과가 지표침하량를 사용하여 분석되었다. 해석 결과, 반단면 굴착이 전단면 굴착 보다 더 큰 내공변위, 선행변위, 측벽변위를 야기시키며, 반면 막장변위는 전단면 굴착이 반단면 굴착에 비해 더 크게 발생됨을 알았다. 또한, 같은 굴착방법에서는 RPUM만이 사용되었을 때가 RPUM이 유리섬유 파이프와 같이 사용되었을 때 보다 모든 변위가 더 켜졌다.

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터널내 탄성파 탐사의 3차원 구조보정기법 개발 및 현장적용 (Development and application of 3D migration techniques for tunnel seismic exploration)

  • 최상순;한병현;김재권;이인모
    • 한국터널지하공간학회 논문집
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    • 제6권3호
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    • pp.247-258
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    • 2004
  • 본 연구에서는 터널내 탄성파 탐사로부티 터널막장 전방 파쇄대를 예측하기 위한 두 가지의 3차원 구조보정 기법을 제안하였다. 첫 번째 해석기법은 타원체의 원리에 기초한 것으로 터널 양쪽 벽면에서 각각 독립적으로 탄성파 탐사를 수행하여 얻은 2차원 해석 결과를 이용하여 3차원 구조보정을 수행할 수 있다. 두 번째 해석기법은 파전파 평면의 개념을 도입한 것으로 터널내 탄성파탐사를 터널 한쪽 벽면에서만 송신을 수행한 반면, 수진기는 양쪽 벽면에 설치한 경우에 적용할 수 있는 기법이다. 새로운 구조보정 기법을 현장 터널내 탄성파 탐사 자료에 적용해 보았다. TSP 시험자료를 이용하여 3차원 구조보정을 수행한 후, 그 결과를 터널 굴착과정 중 조사된 지질정보와 비교해 보았다. 그 결과 제안된 구조보정 기법을 통하여 불연속면의 형상을 비교적 정확히 예측할 수 있음을 확인하였다.

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