고성능 PMOSFET을 위한 Ni-silicide와 p+ source/drain 사이의 barrier height 감소 (Reduction of Barrier Height between Ni-silicide and p+ source/drain for High Performance PMOSFET)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
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- pp.157-157
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- 2008