A study of wet cleaning to reduce etching damage on new metal electrode for nano-level Si semiconductor processing (나노-레벨 실리콘 공정에서 새로운 금속전극의 Etch 손상을 감소시킬 수 있는 습식세정에 관한 연구)
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- Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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- 2003.10a
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- pp.63-63
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- 2003