한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)

한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
권호 표지

나노-레벨 실리콘 공정에서 새로운 금속전극의 Etch 손상을 감소시킬 수 있는 습식세정에 관한 연구

A study of wet cleaning to reduce etching damage on new metal electrode for nano-level Si semiconductor processing

  • 변재호 (울산대학교 청정기술(박막공정 연구실)) ;
  • 송용화 (울산대학교 청정기술(박막공정 연구실)) ;
  • 천희곤 (울산대학교 청정기술(박막공정 연구실))
  • 발행 : 2003.10.01
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