Unlike a printing process, it is difficult to pattern organic thin films in the longitudinal (coating) direction using a coating process. In this paper, we have investigated the feasibility of patterning organic thin films using needles. To this end, we have slot-coated an aqueous poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(4-styrenesulfonate) (PEDOT:PSS) solution in the form of a fine stripe or large area and then applied the dual needle; one for discharging the main solvent of the underlying thin film and the other for sucking the dissolved thin film. We have found that the pattern width and depth increase as the moving speed of the plate decreases. However, it is observed that the sidewall slope is very gentle (the length of the slope is of the order of 200 ㎛) due to the fact that the discharged main solvent is widely spread and then isotropic etching occurs. With this scheme, we have also demonstrated that a fine stripe can be obtained by scanning the dual needle closely. To demonstrate its applicability to solution-processable organic light-emitting diodes (OLEDs), we have also fabricated OLED with the patterned PEDOT:PSS stripe and observed the insulation property in the strong light-emitting stripe.
In this study, we synthesize tungsten oxide thin films by electrodeposition and characterize their electrochromic properties. Depending on the deposition modes, compact and porous tungsten oxide films are fabricated on a transparent indium tin oxide (ITO) substrate. The morphology and crystal structure of the electrodeposited tungsten oxide thin films are investigated by scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD). X-ray photoelectron spectroscopy is employed to verify the chemical composition and the oxidation state of the films. Compared to the compact tungsten oxides, the porous films show superior electrochemical activities with higher reversibility during electrochemical reactions. Furthermore, they exhibit very high color contrast (97.0%) and switching speed (3.1 and 3.2 s). The outstanding electrochromic performances of the porous tungsten oxide thin films are mainly attributed to the porous structure, which facilitates ion intercalation/deintercalation during electrochemical reactions.
Agar was prepared from Gelidium amansii collected from Jeju Island, South Korea. This agar preparation has high gel strength and low sulfate content compared with G. amansii agar from Morocco. Accordingly, agarose was made from the Jeju agar through the consecutive refining processes of dimethyl sulfoxide (DMSO) extraction and ethylene diamine tetra acetic acid (EDTA) washing. The physicochemical properties of the resulting agarose were compared with those from agarose prepared using only DMSO extraction. Consecutive DMSO extraction and EDTA washing more strongly affected the physicochemical properties of the agarose (purified agarose) compared with the use of DMSO extraction alone. These properties were similar to those of commercial agarose used for electrophoresis. In DNA electrophoresis, the separation and movement speed of the purified agarose were similar to those of the commercial agarose. In a $^{13}C$ NMR analysis, the purified agarose exhibited the same carbon peak as the commercial agarose. When observed under scanning electron microscopy, the agar had an even and smooth surface without irregularities or pores, and the purified agarose had a wide surface area with a large number of pores; the commercial agarose had an irregular surface that would allow the solvent to easily permeate. These results illustrate that the physicochemical properties of agarose prepared from DMSO extraction and EDTA washing were more effective than those observed after DMSO extraction alone; thus, these processes used in succession will be useful in agarose industries.
A variety of surface pre-treatments have been advocated to prepare the dentin prior to placement of a bonding agent. The purpose of this study was to evaluate the effect of various dentin conditioners upon the degree of resin impregnation to the dentinal tubules and the shear bond strength of a new dentinal bonding agent (Scotchbond 2) used in conjunction with a visible light cured composite (Silux). The healthy eighty human molars extracted due to periodontal or orthodontic reasons were used and randomly divided into five groups. All the grinded dentin surfaces were conditioned with 3% $H_2O_2$, Cavity Cleanser (Columbus/Bayer), Dentin Conditioner (GC Inter. Corp.), Scotchprep (3M Co.) according to the manufacturer's directions. The specimens were then demineralized in 10% HCl for 20 sec. and 24 hrs. in order to observe the resin tags in Hitachi X-450 scanning electron microscope at 25KV. Also, shear strengths were obtained using an Instron Testing Machine with a cross head speed of 1 mm/min. The following results were obtained ; 1. In group treating with Dentin Conditioner and Scotchprep, the resin strings were formed on most of the surfaces and penetrated more than $50{\mu}m$ into the tubules. 2. The inner surface of resin treated with Cavity Cleanser, indicating the resin strings formed partly and penetrated about in depth of $30{\mu}m$. 3. In control and experimental group treated with 3% $H_2O_2$, the resin tags were not formed, if any, penetrated shortly. 4. Shear bond strengths in groups treating with Dentin Conditioner and Scotchprep were statistically significant increase than with 3% $H_2O_2$. (P<0.01). 5. The Scotchprep treatment group was significantly higher in shear strength than groups treated with no conditioning and Cavity Cleanser.(P<0.01) 6. Shear bond strengths evaluated were gradually increase in proportion to the tag length of resin impregnation.
This study was performed to evaluate the effect of resin and filler type on the fracture toughness of light-activated composites. Experimental composites were prepared using urethane tetramethacrylate(UTMA) and bisphenol glycidylmethacrylate(Bis-GMA) monomers and five different types of silica fillers. Fracture toughness was measured by a single edge V-notched beam(SEVNB) method, which was discussed from ASTM E399-78. Rectangular bars of $2.5{\times}5{\times}26mm$ were prepared with experimental composites and a notch about 2.25mm deep was carved at the center of the long axis of the specimen using a dental diamond disk driven by a dental micro engine. The flexural test was carried out at a crosshead speed of 0.05mm/min and fracture surfaces were observed under scanning electron microscope. The results obtained were summarized as follows: 1. The fracture toughness values of UTMA-based composites were relatively higher than those of Bis-GMA-based composites. 2. The highest fracture toughness value was observed in the UTMA-based composite containing the $1.5{\mu}m$-spherical fillers. 3 Aging in the distilled water at $37^{\circ}C$ for 10 days showed the increase of fracture toughness, which was severer in the Bis-GMA-based composites than those of UTMA-based composites. 4. The AE amplitude occurring during the fracture toughness tests was the highest at the point of macroscopic fracture.
Light-cured orthodontic composite resin has been widely advertised recently for use in bonding brackets. However, the curability of light-cured resin when light waves are diffused through metal brackets in questionable. The purposes of this study were to evaluate shear bond strength and failure patterns of visible light-cured resin(Lightbond) and chemically cured-resin(Mono-Lok 2), and to determine the relative value of light-cured resin as an alternative to conventional chemically cured resin. Each of the two resins was tested on twenty extracted human first premolars. Standard edgewise metal brackets were bonded to the teeth in accordance with the manufacturers' recommendation. After bonding, the teeth were stored for 24 hours at $37^{\circ}C$, 100% humidity. The shear bond strength was tested with a universal testing machine(Instron 4302), at 0.5mm/min crosshead speed. After debonding, brackets and enamel surfaces were examined with a scanning electron microscope and a stereoscopic microscope. The results were as follows : 1. Metal brackets bonded with Lightbond showed statistically higher shear bond strength than metal brackets bonded with Mono-Lok2. 2. The predominant failure site in Lightbond was the enamel-resin interface, and in Mono-Lok 2 it was the resin itself. 3. Enamel cracks were not found in any specimen. The above results suggest that direct bonding of metal brackets to enamel with light-cured resin bonding agent can be used effectively in clinics.
This study was to evaluate shear bond strength of fluoride-releasing sealant and nonfluoride releasing sealant to enamel surface of bovine tooth. 80 extracted bovine teeth were randomly assigned to four groups, and four kinds of sealants including Teethmate-A(Kuraray Co.), Teethmate-F(Kuraray Co.), Helioseal(Vivadent Co.), Helioseal-F(Vivadent Co.) were bonded to exposed enamel surfaces using silicon plate. Shear bond strength was determined in an instron universal testing machine at a crosshead speed of 1mm/min. Then, the fracture surfaces of test specimens were investigated with scanning electron microscope. The obtained results were as follows; 1. The shear bond strength decreased in the following order : Teethmate-A(18.31MPa), Teethmate-F(11.90MPa), Helioseal (11.74 MPa), Helioseal-F(10.64MPa). 2. The shear bond strength of Teethmate-A showed significantly higher than that of Teethmate-F(P<0.05), but Helioseal and Helioseal-F didn't showed statistically different(P<0.05). 3. According to the SEM, Teethmate-A group showed cohesive failure, and Teethmate-A group & Helioseal group showed mixed pattern of cohesive and adhesive failure and Helioseal-F group showed adhesive failure.
본 개발은 중간 크기 미만의 외형 결함을 검출함에 있어 X-Ray 광원을 사용하는 비파괴 장비이다. 본 연구개발물의 차별성은 X-Ray광원을 이용 중소형 생산제품들의 외부결함 유무를 실시간 검사할 수 있으며 표면 방사선 누설선량에 있으면서 검사 속도제어가 가능하다. 이를 소프트웨어로 해결하였다. 또한 작업 중 작업자 안전을 위해 도어 차단이 가능하고 동시에 장비 내부 구동 영상의 획인이 가능하다는 점이다. 이런 원리로 현재는 중소형 부품에서부터 크게는 컨테이너와 같은 검사시스템의 기반 기술로 활용이 가능하다. 본 연구는 자동차 산업 외에 다른 다양한 비파괴 시장 산업에 큰 영향을 미칠 것이다. 마지막으로 개발된 비파괴 장비는 $0.2Sv{\mu}$ 하에서 제어된다는 사실은 아주 중요한 사실이다.
Aliyu, A;Abdulkareem, AS;Kovo, AS;Abubakre, OK;Tijani, JO;Kariim, I
Carbon letters
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제21권
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pp.33-50
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2017
In this study, Fe-Ni bimetallic catalyst supported on kaolin is prepared by a wet impregnation method. The effects of mass of kaolin support, pre-calcination time, pre-calcination temperature and stirring speed on catalyst yields are examined. Then, the optimal supported Fe-Ni catalyst is utilised to produce multi-walled carbon nanotubes (MWCNTs) using catalytic chemical vapour deposition (CCVD) method. The catalysts and MWCNTs prepared using the optimal conditions are characterized using high resolution transmission electron microscope (HRTEM), high-resolution scanning electron microscope (HRSEM), electron diffraction spectrometer (EDS), selected area electron diffraction (SAED), thermogravimetric analysis (TGA), Brunauer-Emmett-Teller (BET), and X-ray diffraction (XRD). The XRD/EDS patterns of the prepared catalyst confirm the formation of a purely crystalline ternary oxide ($NiFe_2O_4$). The statistical analysis of the variance demonstrates that the combined effects of the reaction temperature and acetylene flow rate predominantly influenced the MWCNT yield. The $N_2$ adsorption (BET) and TGA analyses reveal high surface areas and thermally stable MWCNTs. The HRTEM/HRSEM micrographs confirm the formation of tangled MWCNTs with a particle size of less than 62 nm. The XRD patterns of the MWCNTs reveal the formation of a typical graphitized carbon. This study establishes the production of MWCNTs from a bi-metallic catalyst supported on kaolin.
Dimension of a transistor has rapidly shrunk to increase the speed of device and to reduce the power consumption. However, it is accompanied with several problems like direct tunneling through the gate dioxide layer and low conductivity characteristic of poly-Si gate in nano-region. To cover these faults, study of new materials is urgently needed. Recently, high dielectric materials like $Al_2O_3$, $ZrO_2$, and $HfO_2$ are being studied for equivalent oxide thickness (EOT). However, poly-Si gate is not compatible with high-k materials for gate-insulator. Poly Si gate with high-k material has some problems such as gate depletion and dopant penetration problems. Therefore, new gate structure or materials that are compatible with high-k materials are also needed. TiN for metal/high-k gate stack is conductive enough to allow a good electrical connection and compatible with high-k materials. According to this trend, the study on dry etching of TiN for metal/high-k gate stack is needed. In this study, the investigations of the TiN etching characteristics were carried out using the inductively coupled $BCl_3$-based plasma system and adding $Cl_2$ gas. Dry etching of the TiN was studied by varying the etching parameters including $BCl_3$/Ar gas mixing ratio, RF power, DC-bias voltage to substrate, and $Cl_2$ gas addition. The plasmas were characterized by optical emission spectroscopy analysis. Scanning electron microscopy was used to investigate the etching profile.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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