• 제목/요약/키워드: Roughness Effect

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플라스틱 기판상에 제작된 PCBM 박막 트랜지스터의 전기적 특성에 대한 유기 용매 최적화의 효과에 대한 연구 (Effect of Organic Solvent-Modification on the Electrical Characteristics of the PCBM Thin-Film Transistors on Plastic substrate)

  • 형건우;이호원;구자룡;이석재;김영관
    • 한국응용과학기술학회지
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    • 제29권2호
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    • pp.199-204
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    • 2012
  • 유기 박막 트랜지스터 (organic thin-film transistors; OTFTs)는 유기 반도체 그리고 디스플레이와 같은 분야에 그들의 잠재적인 응용 가능성 때문에 많은 주목을 받고 있다. 하지만 급격한 산화 혹은 낮은 전기 이동도와 같은 단점으로 인하여 n-형 물질은 p-형 물질에 비해서 상대적으로 많은 연구가 진행되지 못한 실정이다. 따라서 본 논문에서는 n-형 반도체 물질인 [6,6]-phenyl-C61-butyricacidmethylester (PCBM)과 Poly(4-vinylphenol) (PVP)을 유기 절연막으로 이용하여 o-dichlorobenzene, toluene and chloroform과 같은 다양한 유기 용매를 사용한 플라스틱 기판에 유기트랜지스터를 제작하였고 유기 용매가 ODCB 경우 전계 효과 이동도는 약 0.034 $cm^2/Vs$ 그리고 점멸비(on/off ratio)는 ${\sim}1.3{\times}10^5$ 으로 향상 되었다. 다양한 유기 용매의 휘발성에 따라서 PCBM TFT의 전기적 특성에 미치는 영향을 규명하였다.

폴리카보네이트 필름 표면 처리가 증착 SiOx 베리어층 접착에 미치는 영향 (Effect of Surface Treatment of Polycarbonate Film on the Adhesion Characteristic of Deposited SiOx Barrier Layer)

  • 김관훈;황희남;김양국;강호종
    • 폴리머
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    • 제37권3호
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    • pp.373-378
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    • 2013
  • 폴리카보네이트(PC) 필름을 유연기판으로 사용하기 위해서는 $SiO_x$ 증착에 의한 베리어 특성 개선이 필요하며 이때 베리어 층과 PC 계면 접착력이 매우 중요하다. 본 연구에서는 언더 코팅, UV/$O_3$ 및 저온 플라즈마와 같은 다양한 표면 처리 방법에 의하여 PC 필름 표면을 개질하여 표면의 물리적 화학적 변화가 증착된 베리어 층 계면 접착력에 미치는 영향을 살펴보았다. 표면 처리 전의 PC 필름은 표면 거칠기 및 표면 에너지가 매우 낮아 $SiO_x$ 베리어 층과의 접착력이 현저히 떨어짐을 알 수 있었다. PC 필름을 저온 플라즈마로 표면 처리한 결과, 표면의 거칠기 증가와 극성 관능기 생성에 의하여 극성 표면 에너지가 향상되는 반면 UV/$O_3$ 처리의 경우, 표면 거칠기 변화 없이 표면에 생성된 극성 관능기에 의해 극성 표면 에너지가 증가됨을 알 수 있었다. 이러한 표면의 변화는 베리어층과 PC 기판의 계면 접착력 증가에 기여함을 알 수 있었다. 표면 처리 방법으로 언더 코팅을 사용하는 경우 표면에 에너지를 가하지 않아도 코팅제의 아크릴산과 $SiO_x$의 접착력 향상에 의하여 PC 필름과의 계면 접착력이 증가되며 유무기 하이브리드 다층 구조에 의한 베리어 특성 개선이 함께 일어남을 알 수 있었다.

무전해Ni도금에 의한 선택적 CONTACT HOLE 충진 (Selective Contact Hole Filling by Electroless Ni Plating)

  • 김영기;우찬희;박종완;이원해
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 1992년도 춘계학술발표회
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    • pp.26-27
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    • 1992
  • 반도체 기억소자 contact hole의 선택적 충진의 최적 조건을 연구하기 위하여 무전해Ni도금방법을 채택하여 실리콘의 활성화와 선택적 도금의 공정조건이 Contact Hole 도금피막의 제반 특성에 미치는 영향을 조사하였다. p형 실리콘 100 소지 표면의 활성화 처리는 RCA처리에 의해 먼저 표면을 세척한 다음 온도, PdCl$_2$농도, 시간. 교반의 영향을 조사하였다 전처리의 최적조건은 7$0^{\circ}C$, 0.5M HF, ImM PdCl$_2$, 2mM EDTA, 90second이었다. 무전해도금은 NiS0$_4$.6$H_2O$를 DMAB를 환원제로 하여 온도, DMAB 농도, pH, 도금시간의 영향을 조사하였다. 무전해 도금 피막은 비교적 우수한 접촉저 항을 나타냈다. 1$\mu$m의 도금막을 얻는 데 본 실험조건에서 DMAB의 농도가 8mM일 때 30 분이 소요되었다. 도금막의 표면은 온도가 낮을수록 pH가 높을수록 평활하였고,특히 온도 6$0^{\circ}C$와 pH6.8에서 가장 우수하였다. 미세경도는 600Hv 정도였으며, 결정립의 크기 가 증가할수록 저항과 미세경도가 감소하였다.

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$BCl_3$ 계열 유도결합 플라즈마를 이용한 사파이어 기판의 식각 특성 (Plasma Etching Characteristics of Sapphire Substrate using $BCl_3$-based Inductively Coupled Plasma)

  • 김동표;우종창;엄두승;양설;김창일
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
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    • pp.363-363
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    • 2008
  • The development of dry etching process for sapphire wafer with plasma has been key issues for the opto-electric devices. The challenges are increasing control and obtaining low plasma induced-damage because an unwanted scattering of radiation is caused by the spatial disorder of pattern and variation of surface roughness. The plasma-induced damages during plasma etching process can be classified as impurity contamination of residual etch products or bonding disruption in lattice due to charged particle bombardment. Therefor, fine pattern technology with low damaged etching process and high etch rate are urgently needed. Until now, there are a lot of reports on the etching of sapphire wafer with using $Cl_2$/Ar, $BCl_3$/Ar, HBr/Ar and so on [1]. However, the etch behavior of sapphire wafer have investigated with variation of only one parameter while other parameters are fixed. In this study, we investigated the effect of pressure and other parameters on the etch rate and the selectivity. We selected $BCl_3$ as an etch ant because $BCl_3$ plasmas are widely used in etching process of oxide materials. In plasma, the $BCl_3$ molecule can be dissociated into B radical, $B^+$ ion, Cl radical and $Cl^+$ ion. However, the $BCl_3$ molecule can be dissociated into B radical or $B^+$ ion easier than Cl radical or $Cl^+$ ion. First, we evaluated the etch behaviors of sapphire wafer in $BCl_3$/additive gases (Ar, $N_2,Cl_2$) gases. The behavior of etch rate of sapphire substrate was monitored as a function of additive gas ratio to $BCl_3$ based plasma, total flow rate, r.f. power, d.c. bias under different pressures of 5 mTorr, 10 mTorr, 20 mTorr and 30 mTorr. The etch rates of sapphire wafer, $SiO_2$ and PR were measured with using alpha step surface profiler. In order to understand the changes of radicals, volume density of Cl, B radical and BCl molecule were investigated with optical emission spectroscopy (OES). The chemical states of $Al_2O_3$ thin films were studied with energy dispersive X-ray (EDX) and depth profile anlysis of auger electron spectroscopy (AES). The enhancement of sapphire substrate can be explained by the reactive ion etching mechanism with the competition of the formation of volatile $AlCl_3$, $Al_2Cl_6$ or $BOCl_3$ and the sputter effect by energetic ions.

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임플랜트 표면처리가 생체활성에 미치는 영향 (EFFECT OF DIFFERENT SURFACE TREATMENTS TO INCREASE BIOCOMPATIBILITY OF DENTAL IMPLANT)

  • 이호진;송광엽;윤태호
    • 대한치과보철학회지
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    • 제44권5호
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    • pp.594-605
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    • 2006
  • Statement of problem: Modification of titanium implant surface has potential to ensure clinically favorable performance that several surface modification technologies have been introduced. Among the methods. anodizing method and sol-gel hydroxyapatite coating method have gained much interest due to its roughness and chemical composition of the coating layer, but more of its biocompatibility result is required. Purpose : The purpose of this study was to compare bone-implant interface shear strength of four different surface treated implants as time elapsed. Resonance frequency analysis(RFA) and removal torque measurement methods were employed to measure implant stability at one week and six week after implantation. Material and method: A total of 80 screw-shaped implant [20 machined, 20 resorbable media blasted(RBM), 20 anodized, and 20 anodized+hydroxyapatite sol-gel coated] were prepared, and one of each group was implanted in the tibia of a New Zealand white rabbit that total 20 of them were used. In order to test the implant stability and implant-tissue interface contact changing in the bone bed, each 10 rabbit were sacrificed 1 week and 6 week later while resonance frequency and removal torque were measured. One-way analysis of variance and the Tukey test were used for statistical analysis. Results : The results were as follows. 1. There was no statistically significant difference of implant stability quotients(ISQ) value in RFA between individual groups after 1 week of implantation and 6 weeks(p>0.05). But, there was statistically significant increase of ISQ value in 6 weeks group compared to 1 week group(p<0.05). 2. There was no statistically significant difference in removal torque analysis between individual groups after 1 week of implantation and 6 weeks(p>0.05). but there was statistically significant increase in all 4 groups after 6 weeks compared to 1 week later(p<0.05). 3. There was no statistically significant difference in removal torque analysis between anodized group and HA coating after anodic oxidation 6 weeks later(p>0.05), but significant difference was appeared in both groups compared to RBM group and smooth-machined group(p<0.05). Conclusions : It can be suggested that changes in surface characteristics affect bone reactions. Anodized and anodized+hydroxyapatite sol-gel coating showed significantly improved bone tissue response to implants, but further study on the effect of hydroxyapatite dissolution is needed.

Effect of denture cleansers on Candida albicans biofilm formation over resilient liners

  • Huh, Jung-Bo;Lim, Younghun;Youn, Hye-In;Chang, Brian Myung;Lee, Jeong-Yol;Shin, Sang-Wan
    • The Journal of Advanced Prosthodontics
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    • 제6권2호
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    • pp.109-114
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    • 2014
  • PURPOSE. The purpose of this study was to analyze the effect of denture cleansers on Candida albicans biofilm formation over resilient liners and to evaluate compatibility between resilient liners and denture cleansers. MATERIALS AND METHODS. Acrylic resin (Lucitone 199$^{(R)}$) and 3 resilient liners (COE-SOFT$^{TM}$, GC RELINE$^{TM}$ and SOFRELINER TOUGH TOUGH$^{(R)}$) were incubated in denture cleansers (Polident$^{(R)}$ and Cleadent$^{(R)}$) for 8 hours a day and in unstimulated saliva for 16 hours a day (n=25/gp) for 60 days. Two-way and three-way repeated measures ANOVA were performed to compare the surface roughness (Ra), pH and C. albicans binding level by radioisotope (${\alpha}$=0.05). The statistical significance of the relation between Ra and adhesion was evaluated by correlation analysis. RESULTS. The degree of Ra was significantly decreased in the following order: COE-SOFT$^{TM}$, acrylic resin, GC RELINE$^{TM}$ and SOFRELINER TOUGH$^{(R)}$. The immersion in denture cleansers significantly increased Ra of resilient liners, except for SOFRELINER TOUGH$^{(R)}$ in Cleadent$^{(R)}$. No significant differences in pH curves were observed among groups immersed in distilled water and denture cleansers. The binding levels of C. albicans were significantly decreased in the following order: COE-SOFT$^{TM}$, GC RELINE$^{TM}$, SOFRELINER TOUGH$^{(R)}$, and acrylic resin. The immersion in Cleadent$^{(R)}$ seemed to decrease C. albicans binding level on GC RELINE$^{TM}$ and SOFRELINER TOUGH$^{(R)}$. CONCLUSION. Based on the C. albicans binding levels results, it is not recommended to immerse COE-SOFT$^{TM}$ in denture cleansers, and GC RELINE$^{TM}$ and SOFRELINER TOUGH$^{(R)}$ should be immersed in Cleadent$^{(R)}$.

임하호 유입지천에 서식하는 어류에 미치는 탁수의 영향 (Effect of Turbid Water on Fishes in the Streams of Imha Reservoir)

  • 유삼환;김정숙;신명자;이종은;서을원
    • 생명과학회지
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    • 제19권10호
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    • pp.1410-1416
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    • 2009
  • 본 연구는 탁수가 어류에 미치는 영향을 분석하기 위하여 임하호 유입지천인 탁수수계(영양군 화매천)와 비탁수수계(청송군 신흥천)의 수질, 토양성분 및 어류의 조직 생리적 변화를 조사하였다. 임하호 유입지천의 수질은 탁수수계에서 pH, DO, SS 및 탁도가 높았으며, 토양성분은 vermiculite (V), illite (I)와 같은 점토광물이 높은 것으로 보아 점토광물이 강우시 쉽게 유출되어 탁수에 영향을 줄 것으로 생각된다. 탁수수계에 서식하는 어류는 이차새변의 간격이 일정하지 않고, 상피세포의 분리와 부종 및 곤봉 형태가 관찰되었다. 또한 아가미 표면이 매끄럽지 못하며 다량의 이물질이 존재하였고, 신장 조직에서는 보우먼주머니 안의 사구체 크기가 수축되어 보우만 공간이 넓은 형태를 나타냈다. 이러한 조직학적 변화가 장기간 지속될 경우 어류의 2차 병변의 원인이 될 수 있으며, 더 나아가 어류의 건강상에 영향을 줄 것으로 사료된다. 항산화효소의 활성은 탁수수계에서 높은 활성을 보이며, GR은 항산화효소의 활성중 가장 낮은 활성을 나타냈다. 또한 탁수수계의 근육과 신장조직에서는 SOD, CAT, GPX, GST가 비탁수수계 보다 높은 활성을 보였다. 이는 활성산소가 많이 발생하는 탁수수계의 어류 체내에서는 유해한 라디칼을 제거하기 위해 항산화효소의 활성이 증가한 것으로 생각된다.

시판중인 구강양치용액의 법랑질 표면의 착색과 침식에 미치는 영향 (Erosive Effect and Color of Mouthrinsing Solutions on Enamel Surface)

  • 정경이;이혜진;박영남
    • 치위생과학회지
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    • 제11권5호
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    • pp.397-404
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    • 2011
  • 최근 구강관리에 대한 관심이 증가하면서 시판되고 있는 구강양치용액의 종류도 다양해지고 있고 휴대가 간편하여 쉬운 사용방법으로 활용이 급진적으로 증가하고 있다. 본 연구에서는 시판 중인 구강양치용액의 pH를 측정하여 고유 산도가 법랑질 표면의 색조변화, 미세경도, 미세구조 변화, 거칠기 측정 등에 관한 실험방법을 통하여 구강양치용액의 효과를 평가하였다. 1. 색조변화는 Nextcare와 Listerine에서 light-dark를 나타내는 $L^*$값은 0에 가깝게 어두워졌으며 yellow-blue를 나타내는 $b^*$값은 초기값과 비교하여 채도가 낮아졌다. 특히 Listerine에서 ${\Delta}L^*$, ${\Delta}b^*$ 각각 -6.70, -7.20으로 가장 큰 변화를 보였다. 2. 표면경도 측정에서는 Nextcare와 Listerine에서 모두 통계적으로 유의한 감소를 보였다(p<0.05). 또한 표면의 형상과 거칠기에서도 Nextcare와 Listerine에서 다른 실험군과 비교하여 법랑질 표면의 붕괴 및 침식양상과 함께 거칠기가 매우 높아졌음을 알 수 있었다. 결론적으로, 현재 시판 중인 구강양치용액의 pH를 측정하여 고유 산도가 치아 경조직에 미치는 영향에 대해 알아본 결과, 산성의 pH를 가진 구강양치용액을 장기간 사용시 치면 착색 및 법랑질 표면의 영향을 줄 수 있으므로 적절한 사용법을 숙지하여 단기간 사용하는 것이 안전할 것으로 사료된다.

콜라겐 펩타이드 및 GABA 복합물의 섭취가 피부 및 수면장애 개선에 미치는 영향 (Beneficial Effect of Collagen-Peptide Mixture with GABA on Improvement Skin and Sleep Quality)

  • 김정기;임성환;김완기;조창희;하재현;서대방
    • 대한화장품학회지
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    • 제44권3호
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    • pp.277-284
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    • 2018
  • 콜라겐 펩타이드(collagen peptide)는 단백질의 가수 분해물로서 주름 완화, 보습력 증대, 탄력 개선 등의 특정 피부 효능을 나타낼 수 있어 화장품 혹은 피부 개선 기능식품으로서 활용되고 있다. ${\gamma}-aminobutyric$ acid (GABA)는 척추 동물의 뇌, 척수에 존재하는 신경전달 물질로서 수면의 질과 양을 개선해 준다고 알려져 있다. 본 연구에서는 콜라겐 펩타이드와 GABA의 복합물이 수면 장애가 있는 여성에게 8주 경구 섭취를 통해서 수면 및 피부 상태를 개선할 수 있는가에 관하여 확인하였다. 복합물(J85091900)은 8주간 연속적으로 섭취 시, 수면장애지수(PSQI)가 유의적으로 감소하였으며, 수면 시간을 7% 증가시켰다. 또한, 피부 거칠기, 눈가 주름 및 피부 수분량(capacitance)을 유의적으로 개선하였다. 이상의 결과에서 콜라겐과 GABA의 복합물은 복합 수면 장애에 따른 피부의 노화 현상으로부터 피부를 보호할 수 있음을 확인하여 먹는 화장품의 핵심 소재로 활용 가능함을 확인하였다.

가스 조성이 저유전상수 a-C:F 층간절연막의 특성에 미치는 영향 (Effect of gas composition on the characteristics of a-C:F thin films for use as low dielectric constant ILD)

  • 박정원;양성훈;이석형;손세일;오경희;박종완
    • 한국진공학회지
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    • 제7권4호
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    • pp.368-373
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    • 1998
  • 초고집적 회로의 미세화에 따라 다층배선에서 기생저항(parasitic resistance)과 정전 용량의 증가는 RC시정수(time constant)의 증가로 인하여 소자의 동작속도를 제한하고 있 다. 이로 인하여 발생되는 배선지연의 문제를 해결하기 위하여 매우 낮은 유전상수를 갖는 층간 절연물질이 필요하다. 이러한 저유전상수 층간절연물질로서 현재 유기계 물질중의 하 나인 a-C:F이 주목받고 있는 물질이다. 본 연구에서는 ECRCVD를 이용하여 a-C:F박막과 Si기판사이의 밀착력을 향상시키기 위하여 a-C:H박막을 500$\AA$증착한 후 a-C:F을 증착전력 500W에서 원료가스의 유량비($C_2F_6, CH_4/(C_2F_6+CH_4)$))를 0~1.0까지 변화시키면서 상온에서 증착하 였다. a-C:F박막의 특성은 SEM, FT0IR, XPS, C-V meter와 AFM등을 이용하여 두께, 결 합상태, 유전상수, 표면형상 및 표면 거칠기를 관찰하였다. a-C:F박막에서 불소함량은 가스 유량비가 1.0일 경우에는 최대 약31at.%정도 검출되었으며, 가스 유량비가 증가됨에 따라 증 가하였다. 또한 유전상수는 a-C:H의 유전상수 $\varepsilon$=3.8에서 $\varepsilon$=2.35까지 감소하였다. 이는 영 구 쌍극자 모멘트가 1.5인 C-H결합은 감소하고 영구 쌍극자 모멘트가 0.6, 0.5인 CF, CF2결 합이 증가하였기 때문이다. 하지만 $400^{\circ}C$에서 질소분위기로 1시간 동안 furnace열처리 후에 가스유량비가 1.0인 a-C:F박막에서 불소의 함량이 감소하여 C-F결합이 줄어들었다. 이로 인하여 유전상수가 열처리전의 2.7에서 열처리후 3.2까지 상승하였다.

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