RF Sputtering 법으로 제작한 강유전체 메모리의 하부전극용$RuO_2$ 박막의 특성에 관한 연구
(Properties of $RuO_2$ Thin Films for Bottom Electrode in Ferroelectric Memory by Using the RF Sputtering)
-
- 한국정보통신학회논문지
- /
- 제4권5호
- /
- pp.1127-1134
- /
- 2000