• 제목/요약/키워드: Return loss (S$_{11}$)

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4개의 Post 형태 기생소자를 추가한 광대역 슬리브 모노폴 안테나 설계 (Design of Wide-band Sleeve Monopole Antenna that 4 PCS of Post Type Parasitic Element is Added)

  • 이상우;김갑기
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제11권1호
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    • pp.7-13
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    • 2007
  • 본 논문은 Top-loading한 슬리브 모노폴에 4개의 Post 형태 기생소자를 추가함으로써, 기존의 상용 이동통신 시스템의 주파수를 하나로 통합 할 수 있는 소형이면서, 광대역 특성을 갖는 모노폴 안테나를 설계 및 제작하였다. 각 소자의 Parameter 변화에 따른 반사손실 특성을 관찰하였고, 제안된 안테나의 광대역 특성을 확인하기 위하여 PCS, W-CDMA, WiBro, W-LAN, S-DMB 대역에서의 복사 특성을 살펴보았다. 제안된 안테나는 수평면내 무지향성, 수직면내 8자형의 지향성을 가지며 $1.67{\sim}3.55\;GHz$ 주파수 대역($B/W{\fallingdotsep}72%$) 에서 Return loss$Return\;loss{\leq}-10\;dB$의 양호한 반사손실과 $1.14{\sim}3.66\;dBi$의 이득을 얻을 수 있었다.

Comparison of Resonance Characteristics in FBAR Devices by Thermal Treatments

  • Mai Linh;Song Hae-il;Yoon Giwan
    • Journal of information and communication convergence engineering
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    • 제3권3호
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    • pp.137-141
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    • 2005
  • The paper presents some methods to improve characteristics of film bulk acoustic resonator (FBAR) devices. The FBAR devices were fabricated on Bragg reflectors. Thermal treatments were done by sintering and/or annealing processes. The measurement showed a considerable improvement of return loss $(S_{11})$ and quality factor $(Q_{s/p}).$ These thermal treatment techniques seem very promising for enhancing FBAR resonance performance.

Thin Film Bulk Acoustic Resonators for RF Applications

  • Linh, Mai;Lee, Jae-Young;Yoon, Gi-Wan
    • Journal of information and communication convergence engineering
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    • 제4권3호
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    • pp.111-113
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    • 2006
  • A new thin film deposition technique of piezoelectric ZnO film and its successful application for film bulk: acoustic resonator (FBAR) devices are presented. The two-step deposition used seems to be able to deposit ZnO film with a highly preferred orientation. The FBAR devices with the ZnO films show an excellent return loss of $35{\sim}50$ dB at $1.5{\sim}2$ GHz.

초고주파용 필터설계를 위한 결합행렬 합성법 (Coupling Matrix Synthesis Methods for RF/Microwave Filter Design)

  • 최동묵;김채영
    • 한국통신학회논문지
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    • 제32권12A호
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    • pp.1346-1353
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    • 2007
  • 본 논문에서는 필터함수의 감쇄극점(poles)과 반사손실(Return Loss)로부터 전송계수($S_{21}$)와 반사계수($S_{11}$)를 도출하고, 이 값들로부터 대역통과필터 설계를 위한 결합계수행렬 계산법을 제시하였다. 계산된 결합계수행렬에 유사변환을 적용하여서 결합계수행렬을 접힌 표준형 필터 구조의 커플링계수 행렬로 변환하였다. 그 결과를 이용하여 접힌 표준형 필터를 설계하였다.

고효율 전력 증폭기를 위한 재구성성이 있는 전력 분배기 (A Reconfigurable Power Divider for High Efficiency Power Amplifiers)

  • 김승훈;정인영;정진호
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제20권2호
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    • pp.107-114
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    • 2009
  • 본 논문에서는 저출력에서의 효율을 높이기 위한 전력 증폭기 시스템과 이 시스템에 필요한 재구성성이 있는 전력 분배기를 제안한다. 저출력에서의 효율을 높이게 되면, 무선 통신용 선형 전력 증폭기의 평균 효율을 높일 수 있다. 제안한 전력 분배기는 출력의 크기에 따라 고출력 모드와 저출력 모드로 동작한다. 각 모드에서 신호의 경로가 재구성되고 임피던스 정합도 이루어진다. 이러한 재구성성이 있는 전력 분배기는 두 개의 $\lambda/4$ 결합 선로(coupled line)와 두 개의 스위치로 구성된다. 제작된 전력 분배기는 중심주파수 0.9 GHz에서 고출력 모드일 때 반사손실($S_{11}$)과 삽입손실($S_{21}$)이 각각 -16.49 dB와 -0.83 dB, 저출력 모드일 때 반사 손실($S_{11}$)과 삽입손실($S_{31}$)이 각각 -16.28 dB와 -0.73 dB였다. 이 결과를 통해 각 모드에서 신호의 경로가 재구성되며 임피던스 정합이 이루어지는 것을 확인하였다.

RF-MEMS 소자를 위한 저손실 웨이퍼 레벨 패키징

  • 박윤권;이덕중;박흥우;송인상;김정우;송기무;박정호;김철주;주병권
    • 한국마이크로전자및패키징학회:학술대회논문집
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    • 한국마이크로전자및패키징학회 2001년도 추계 기술심포지움
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    • pp.124-128
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    • 2001
  • We apply for the first time a low cost and loss wafer level packaging technology for RF-MEMS device. The proposed structure was simulated by finite element method (FEM) tool (HFSS of Ansoft). S-parameter measured of the package shows the return loss (S11) of 20dB and the insertion loss (S21) of 0.05dB.

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기판의 유전율 및 전기적 두께가 X-벤드용 마이크로스트립 패치 안테나의 특성에 미치는 영향에 관한 연구 (A study of characteristics of X-band microstrip patch antenna affected b permittivity and electrical thickness of the substrate)

  • 박성교;김준현;박종배
    • 전자공학회논문지A
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    • 제33A권3호
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    • pp.65-81
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    • 1996
  • In this study forty-five X-bnd rectangular microstrip patch antennas fed by microstrip line using ${\lambda}$/4 transformer were fabricated on teflon substrates with low high permittivities and varous thickness (substrate thickness : 0.6 ~ 2.4 mm, permittivities : 2.15 ~ 10.0), and effects of permittivity and electrical thickness on antenna characteristics were studied with measured return loss (1/S$_{11}$) and resonant frequencies. When substrate electrical thickness was greater than 0.060 ${\lambda}_{0}$return loss was very good and genrally more than 20 dB, but resonance characteristics was somewhat unstable. The more than 0.088 ${\lambda}_{0}$ the thickness was, the more unstable it was. As a result, in the rest range except 12, 13 GHz we had very good mesured return loss iwth greater than 20 dB, and in the range 7 to 9 GHz resonant frequencies were within $\pm$2 % error, on ${\epsilon}_{r}$=5.0, height = 2.4 mm substrate.

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Effects of Thermal Treatments on Resonance Characteristics of FBAR Devices

  • Mai, Linh;Song, Hae-Il;Tuan, Le Minh;Su, Pham Van;Yoon, Gi-Wan
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2005년도 춘계종합학술대회
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    • pp.376-380
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    • 2005
  • The paper presents some methods to improve characteristics of film bulk acoustic resonator (FBAR) devices. The FBAR devices were fabricated on Bragg reflectors. Thermal treatments were done by sintering and/or annealing processes. The measurement showed a considerable improvement of return loss (S$_{11}$) and quality factor (Q$_{s/p}$). These thermal techniques seem very promising for enhancing FBAR resonance performance.

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The Improvements of FBAR Devices performances by Thermal Annealing Methods

  • Mai, Linh;Song, Hae-Il;Le, Minh-Tuan;Pham, Van-Su;Yoon, Gi-Wan
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2005년도 추계종합학술대회
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    • pp.311-315
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    • 2005
  • In this paper, we emphasize the advantage of thermal annealing treatments for improvement characteristics of film bulk acoustic resonator (FBAR) devices. The FBAR devices were fabricated on multi-layer thin films, namely, Bragg reflectors. Sintering and/or annealing processes were applied in our experiments. The measurements confirm once again a considerable improvement of return loss $(S_{11})$ and quality factor $(Q_{s/p})$. these thermal treatment techniques are really promising for enhancing performance of FBAR resonators in industry fabrication of RF devices.

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A New Technique to Improve ZnO-based FBAR Device Performances

  • Mai, Linh;Lee, Jae-Young;Pham, Van Su;Yoon, Gi-Wan
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2007년도 춘계종합학술대회
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    • pp.437-440
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    • 2007
  • This paper presents the improvement of the resonance characteristics of film bulk acoustic-wave resonator (FBAR) devices fabricated on multilayer Bragg reflectors (BRs) based on inserting ultra-thin chromium (Cr) adhesion layers into BRs and post-annealing processes. The measurements show excellent improvement of return loss $(S_{11})$ and Q-factor by the combined use of Cr adhesion layers and thermal treatments particularly for 120 minutes at $200^{\circ}C$.

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