Combustion phenomena in a sub-millimeter scale combustor have been investigated. To evaluate scale effect on flame propagation characteristics, a cylindrical combustion chamber with variable depth was built in-house. The combustor was charged with premixed gas of hydrogen and air and ignited electronically. A piezo electric pressure transducer recorded transient pressure after the ignition. Measurements were made at different test conditions specified with chamber depth and initial pressure as parameters. Visual observation was made through a quartz glass window on top side of the combustion chamber using high speed digital video camera. From the pressure data, available work was estimated and compared with energy input required for stable ignition. The preliminary results suggested that the net thermal energy release is sufficient to generate power and enables a combustor of the size in the present study to be used as the energy source of a micro power devices .
$SiH_2Cl_2/H_2$ 기체혼합물을 원료로 사용하여 (100) Si 기판 위에 고온벽 화학기상증착법(hot-wall CVD)으로 에피 실리콘을 증착시켰다. 공정변수(증착온도, 반응기 압력, 입력 기체의 조성비($H_2/SiH_2Cl_2$)등)가 실리콘 증착에 미치는 영향을 조사하기 위해 열화학적 전산모사를 수행하였으며, 전산모사를 통해 얻은 공정조건의 범위를 바탕으로 실험한 결과, 전산모사의 결과와 실험이 잘 일치함을 알 수 있었다. 실험을 통해 얻은 최적 증착 조건은 증착온도가 850~$950^{\circ}C$, 반응기 압력은 2~5 Torr, $H_2/SiH_2Cl_2$비는 30~70 정도임을 알 수 있었고, 증착된 에피 실피콘은 두께 및 비저항의 균일도가 우수하고 불순물 함량이 낮은 양질의 박막임을 확인할 수 있었다.
Currently, extreme ultraviolet lithography (EUVL) is being investigated for next generation lithography. EUVL is one of competitive lithographic technologies for sub-22nm fabrication of nano-scale Si devices that can possibly replace the conventional photolithography used to make today's microcircuits. Among the core EUVL technologies, mask fabrication is of considerable importance due to the use of new reflective optics having a completely different configuration compared to those of conventional photolithography. Therefore, new materials and new mask fabrication process are required for high performance EUVL mask fabrication. This study investigated the etching properties of SnO2 (Tin Oxide) as a new absorber material for EUVL binary mask. The EUVL mask structure used for etching is SnO2 (absorber layer) / Ru (capping / etch stop layer) / Mo-Si multilayer (reflective layer) / Si (substrate). Since the Ru etch stop layer should not be etched, infinitely high selectivity of SnO2 layer to Ru ESL is required. To obtain infinitely high etch selectivity and very low LER (line edge roughness) values, etch parameters of gas flow ratio, top electrode power, dc self - bias voltage (Vdc), and etch time were varied in inductively coupled Cl2/Ar plasmas. For certain process window, infinitely high etch selectivity of SnO2 to Ru ESL could be obtained by optimizing the process parameters. Etch characteristics were measured by on scanning electron microscopy (SEM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analyses. Detailed mechanisms for ultra-high etch selectivity will be discussed.
본 논문에서는 음성으로 동작하는 십자말 게임을 구현하였다. 십자말 게임에 사용되는 문제의 배열은 본 논문에서 제안한 CAA(Cross Array Algorithm)에 의해 생성된다. CAA는 영역별 사전을 이용하여 십자말 배열을 매번 랜덤하게 자동으로 생성한다. CAA에 의한 배열 생성을 위해 본 논문에서는 7개 영역에 대한 사전을 구축하였다. 구현된 십자말 게임은 마우스나 키보드뿐만 아니라 음성으로 동작하도록 설계되었다. 음성에 의한 인터페이스는 음성인식 및 합성 기술이 사용되었으며, 사용자에게 보다 편리한 기능을 제공한다. CAA의 성능평가는 십자말 배열을 생성하는데 소요되는 연산시간의 측정과, 십자말 배열의 단어 생성율을 측정함으로써 수행되었다. CAA의 성능 평가 결과, 모든 창에 대하여 연산시간은 약 10ms 내외였으며, 단어 생성율은 약 50%를 보였다. 또한, 음성인식 실험 결과는 각 창의 크기가 "$7{\times}7$, "$9{\times}9$", "$11{\times}11$"일 때, 각각 98.5%, 97.6%, 96.2%의 인식률을 보였다., 97.6%, 96.2%의 인식률을 보였다.
일반적으로 무선 이동 채널은 협대역 스펙트럼을 갖는 복소 랜덤 프로세스로 모델링된다. 본 논문에서는 DSP 단일칩을 사용한 페이딩 신호의 실시간 발생에 대해 기술한다. 실시간 시뮬레이터는 단말기 이동 속도, 반송파 주파수, line-of-sight 성분과 다중 경로 성분의 비, 수신 전력의 분산과 같은 시뮬레이션 파라미터를 윈도우상에서 선택할 수 있도록 설계되었다. 최소화된 DSP 연산량으로 이상적인 페이딩 신호를 발생하기 위한 알고리즘과 필터 설계시의 trade-off가 고찰되었다. 실험으로 측정된 페이딩 채널 프로세스의 통계 특성은 이론치와 거의 일치함을 확인할 수 있었다.
Mock-up model can be applied to measure accurate performance data but difficult to apply the variables in experiment. There can be a slight experiment errors in Scale model, but various parameters can be applied for a objective experiment. This paper aims to compare the daylighting performance in 1, 1/5, 1/10 scale model of offices and analyze the experiment errors to certificate the influence of model experiment. To analyse daylighting performance, a comparison of a Mock-up model, sized $12.0m(w){\times}7.2m(l){\times}3.7m(h)$, designed for experimentation of daylighting systems and its 1:5, 1:10 scale model. It has an identical configuration of reference room and the test room. For the test room, the lightshelf system was designed as Micro-4 reflective material. To assess work plane illuminance and light factor, photometric sensors of each room were installed at work-plane(6 points) and exterior horizontal illuminance (1 point). And luminance of window, rare of the room was measured under clear sky. It is to be monitored by Agilent data logger, photometric sensor Li-cor and the Radiant Imaging ProMetric 1400. Comparisons with a light factor, increase-decrease ratio and luminance are discussed.
최근 본 연구그룹은 국소적인 종횡비 증가를 기반으로 수평 분리벽 없이 검체의 3 차원 집속을 구현하는 3 차원 유체역학 집속 미세유체 장치(3D-HFMD)를 제안한 바 있다. 본 논문에서는, 다양한 형상 및 유동 조건에 따른 3D-HFMD 의 3 차원 유체역학 집속 거동 영향에 대한 연구를 수행하였다. 이에 3 차원 전산유체역학(CFD) 시뮬레이션을 통해, 형상 및 유동 조건 변화에 대한 기존의 미세유체 장치와 본 연구 그룹이 제안한 3D-HFMD의 3 차원 유체역학 집속의 매개변수 연구를 수행하였다. 수행된 CFD 시뮬레이션 결과를 바탕으로 3 차원 집속을 위한 채널 형상 디자인 및 유동 조건을 제안하였다.
위성을 기반으로 하는 ATM 스위치에서 가장 중요하게 고려할 사항은 높은 수준의 셀 손실률을 만족함으로써 재전송을 피해야함과 on-board 프로세싱과 스위칭의 복잡도이다. ATM 스위치로 잘 알려진 스위치 중에 하나인 Knockout 스위치는 트래픽 성능 면에서 뛰어난 성능을 가지지만, 많은 스위치 구성요소와 버퍼를 필요로 한다. 이는 복잡도의 주요 원인이다. 제한된 입력단 버퍼의 추가는 만족할 만한 수준으로 셀 손실률과 복잡도를 줄이고 효과적인 위성 대역폭 사용에 기여할 수 있다. 본 논문에서는 기존에 제안된 스위치에 비하여 더 나은 셀 손실률을 가질 뿐만 아니라 더 적은 스위치 구성요소와 버퍼를 가짐으로써 복잡도를 낮춘다. 시뮬레이션을 한 결과, 제안된 구조는 기존에 제안되었던 스위치 구조에 비해 우수한 셀 손실률을 보여 주었으며, 스위치 구성요소를 최대 50%이상 줄이며 최대 50% 이상의 버퍼용량을 줄일 수 있다.
One of the most important factors in determining the quality of living environment is daylighting. Especially its influence in the psychological and biological life of human beings cannot be underestimated. Therefore, lots of researches have been given to develop a more efficient daylighting system. The sunlighting system, one of many developed systems, has been developed and applied in various ways. However, the high cost of sunlighting system has been the most difficult stumbling-block in making it commercial. However, as domestic apartment houses tend to be more luxury, life environment becomes a very important factor more than cost in building apartment house. Therefore, it would be possible to adopt sunlighting system in the non-window areas such as a restroom in an apartment house. This research is a preliminary work in order to measure a possibility of applying sunlighting system in an apartment house. In order to do so, I measure Sunlight Illuminance Ratio in various areas of apartment house. As a result, in case of a residential-commercial building, areas such as kitchen, restroom, and entrance are relatively weak-lighting areas. In case of a traditional apartment house, restroom and entrance are relatively weak-lighting areas. For that reason, a special lighting support is needed in these areas.
비순서화된 스트림은 윈도우 기반의 질의를 처리할 때 부정확하거나 지연된 결과를 유발할 수 있다. 기존의 방식에서는 일반적으로 버퍼를 이용하여 비순서화된 스트림을 정렬하며, 버퍼의 크기를 추정하기 위해 네트워크 지연의 최대값에 기반한 방식을 이용한다. 그러나 이러한 방식은 버퍼의 크기를 불필요하게 큰 값으로 추정할 수 있으며, 지연된 질의 결과를 발생시킬 수 있다. 본 논문에서는 네트워크 지연의 변화에 따라 적응적으로 버퍼의 크기를 추정하기 위한 확률론적인 접근 방법을 제안한다 제안하는 방법에서는 튜플의 생성이 포아송 분포를 따르며 네트워크 지연은 정규 분포를 따른다고 가정한다. 그리고 이러한 가정을 바탕으로 추정식을 유도한다. 추정식은 튜플의 손실율을 입력인자로 요구하며, 이는 실시간에 튜플의 손실에 있어서 허용 가능한 백분율을 나타낸다. 사용자는 손실율을 질의문에서 정의함으로써, 응용의 요구에 따라 질의 결과의 정확성이나 처리속도 중 원하는 특성에 중점을 둘 수 있다. 본 논문의 실험 결과는 제안한 추정식이 기존의 네트워크 지연의 최대값에 기반한 추정식에 비해 적응성이 우수함을 보인다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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