rf magnetron sputtering 방법을 이용한 반도체 메모리 소자용 NiCr/TaSiN/poly-Si 전극 구조의 특성평가 (Characteristics of NiCr/TaSiN/poly-Si Electrode Structure for Semiconductor Memory Device by rf magnetron sputtering)
-
- 한국재료학회:학술대회논문집
- /
- 한국재료학회 2002년도 춘계 학술발표강연 및 논문개요집
- /
- pp.133-133
- /
- 2002