Surface properties of the plasma treated fabric were changed while maintaining its bulk properties. Surface of plasma treated fabric take charge of enhanced adhesion by surface etching, surface activity. The water repellency coating Poly(Ethylene Terephthalate) fabric was treated with atmospheric pressure plasma using various parameters such as Argon gas, treatment time, processing power. Morphological changes by atmospheric pressure plasma treatment were observed using field emmission scanning electron microscopy(FE-SEM) and the zeta-potential measurement, contact angle measurement equipment. At the atmospheric pressure plasma treatment time of 150 sec, the power of 800W, the best wettability and peel strength were obtained. And we confirmed the possibility of industrial application by using atmospheric plasma system.
In the previous study, the possibility of modifying the surface properties of base paper with plasma treatment was evaluated. It was shown that only the hydrophilic properties of the base paper surface was increased while there was no changes in physical and optical properties. Only the surface of the plasma treated side was modified. In this study, the effect of plasma treatment on binder migration was elucidated. The base paper was plasma treated with various voltage and then the plasma treated base papers were coated with varying coated weight. The surface strength of the coated paper (dry and wet pick) was increased with plasma treatment, which implies that the plasma treatment of base paper can inhibit the binder migration.
This study was a preliminary study to investigate the influence of surface morphology and characteristics on the self-cleaning of substrates. PI film was treated by $O_2$ plasma to modify the surface; in addition, AFM and Fe-SEM were employed to examine the morphological changes induced on a PI film treated by $O_2$ plasma and surface energies calculated from measured contact angles between several solutions and PI film based on the geometric mean and a Lewis acid base method. The surface roughness of PI film treated by $O_2$ plasma increased with the duration of the $O_2$ plasma on PI film due to the increased surface etching. The contact angle of film treated by $O_2$ plasma decreased with the increased treatment time in water and surfactant solution; in addition, the surface energy increased with the increased treatment times largely attributed to the increased portion on the polar surface energy of PI film. The coefficient of the correlation between surface roughness and surface polarity such as contact angle and surface energy was below 0.35; however, it was over 0.99 for the contact angle and surface energy.
We investigated the effect of oxygen plasma treatment of indium-tin oxide(ITO) surface on the performance of electroluminescence(EL) devices. ITO surface treated oxygen plasma has been analyzed using atomic force microscope(AFM) and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS), to investigate the relations between the properties of the ITO surface and the properties of the current-voltage-luminance(I-V-L) characteristics of the fabricated OLED with the structure of ITO(plasma treatment) / TPD / Alq$_3$/ Al. It is found that the oxygen plasma treatment of ITO anode improve the hole injection of the OLED due to the modification of the surface states. The treated ITO anode nay be low voltage with high luminance efficiency.
Graphene has attracted much attention due to its remarkable physical properties and potential applications in many fields. In special, the electronic properties of graphene are influenced by the number of layer, stacking sequence, edge state, and doping of foreign elements. Recently, many efforts have been dedicated to alter the electronic properties by doping of various species, such as hydrogen, oxygen, nitrogen, ammonia and etc. Here, we report our recent results of plasma doping on graphene. We prepared mechanically exfoliated graphene, and performed the plasma treatment using ammonia gas for nitrogen doping. The direct-current plasma system was used for plasma ignition. The doping level was estimated from the number of peak shift of G-band in Raman spectra. The upshift of G-band was observed after ammonia plasma treatment, which implies electron doping to graphene.
MOCVD is one of the major deposition techniques for Cu thin films and Ta-Si-N is one of promising barrier metal candidates for Cu with high thermal stability. Effects of hydrogen plasma pretreatment of the underlying Ta-Si-N film surface on the Cu nucleation in Cu MOCVD were investigated using scanning electron microscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and Auger electron emission spectrometry analyses. Cu nucleation in MOCVD is enhanced as the rf-power and the plasma exposure time are increased in the hydrogen plasma pretreatment. The optimal plasma treatment process condition is the rf-power of 40 Wand the plasma exposure time of 2 min. The hydrogen gas flow rate in the hydrogen plasma pretreatment process does not affect Cu nucleation much. The mechanism through which Cu nucleation is enhanced by the hydrogen plasma pretreatment of the Ta-Si-N film surface is that the nitrogen and oxygen atoms at the Ta-Si-N film surface are effectively removed by the plasma treatment. Consequently the chemical composition was changed from Ta-Si-N(O) into Ta-Si at the Ta-Si-N film surface, which is favorable for Cu nucleation.
견섬유와 폴리라틱산(PLA) 사이의 계면접착 특성을 향상시키기 위하여 천연섬유 표면을 아르곤과 에틸렌 플라즈마로 각각 처리하였다. 플라즈마 표면처리 후, 견섬유의 표면 모폴로지와 접착이 크게 변화하였다. 다음의 여러 플라즈마 처리조건이 본 연구에 사용되었다: 10, 25, 50 그리고 150 W의 전력, 1, 3, 5, 7 그리고 10분의 처리시간 및 10과 50 sccm의 가스흐름속도, 플라즈마 처리된 Silk/PLA 바이오복합재료의 계면전단강도는 단섬유 micro-droplet debonding 시험방법으로 측정하였다. 결과는 Silk/PLA 바이오복합재료의 계면접착을 향상시키기 위한 최적의 플라즈마 처리 조건을 제공하여 주었다.
In this study, the polycarbonate surface was treated by $O_2$/ Ar gases plasma for the enhancement of adhesion with Cu electrode. From the point of view of hydrophilicity and the functionality, the micro-roughness, new functional groups and oxygen content of the polycarbonate surface were increased by the $O_2$/ Ar gases plasma treatment. The Cu films deposited on the as-received polycarbonate were easily detached while, after the$ O_2$/ Ar gases plasma treatment the adhesive Cu films on polycarbonate could be obtained. These results can be explained that the polycarbonate had a hydrophilic surface with uniform micro-roughness and new functional groups by $O_2$/ Ar gases plasma treatment. Therefore,$O_2$/ Ar gases plasma treatment is a promising method for improvement of adhesion between polycarbonate and Cu electrode.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제7권1호
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pp.16-20
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2006
In this paper, we investigated the effects of short-term oxygen plasma treatment of semiconducting silicone layer to improve interfacial performances in joints prepared with a insulating silicone materials. Surface characterizations were assessed using contact angle measurement and x-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and then adhesion level and electrical performance were evaluated through T-peel tests and electrical breakdown voltage tests of treated semi-conductive and insulating joints. Plasma exposure mainly increased the polar component of surface energy from $0.21\;dyne/cm^2$ to $47\;dyne/cm^2$ with increasing plasma treatment time and then leveled off. Based on XPS analysis, the surface modification can be mainly ascribed to the creation of chemically active functional groups such as C-O, C=O and COH on semi-conductive silicone surface. This oxidized rubber layer is inorganic silica-like structure of Si bound with three to four oxygen atoms ($SiO_x,\;x=3{\sim}4$). The oxygen plasma treatment produces an increase in joint strength that is maximum for 10 min treatment. However, due to brittle property of this oxidized layer, the highly oxidized layer from too much extended treatment could be act as a weak point, decreasing the adhesion strength. In addition, electrical breakdown level of joints with adequate plasma treatment was increased by about $10\;\%$ with model samples of joints prepared with a semi-conducting/ insulating silicone polymer after applied to interface.
Kim, Jung-Woo;Kim, Nam-Hun;Kim, Hyoung-Sub;Jung, Dong-Geun;Chae, Hee-Yeop
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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pp.301-301
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2010
In order to enhance the efficiency of the organic solar cells, the effects of plasma surface treatment with using $CF_4$ and $O_2$ gas on the anode ITO were studied. The polymer solar cell devices were fabricated on ITO glasses an active layer of P3HT (poly-3-hexylthiophene) and PCBM ([6,6]-phenyl C61-butyric acid methyl ester) mixture, without anode buffer layer, such as PEDOT:PSS layer. The metallic electrode was formed by thermally evaporated Al. Before the coating of organic layers, ITO surface was exposed to plasma made of $CF_4$ and $O_2$ gas, with/without heat treatment. In order to identify the effect the surface treatment, the current density and voltage characteristics were measured by solar simulator and the chemical composition of plasma treated ITO surface was analyzed by using X-ray photoelectron spectroscopy(XPS). In addition, the work function of the plasma treated ITO surface was measured by using ultraviolet photoelectron spectroscopy(UPS). The effects of plasma surface treatment can be attributed to the removal organic contaminants of the ITO surface, to the improvement of contact between ITO and buffer layer, and to the increase of work function of the ITO.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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