This paper, Al-doped ZnO(AZO) thin films for application as transparent conducting oxide films were deposited on the Corning glass substrate by using RF magnetron sputtering system. The effects of various Argon gas flow rates on optical and electrical characteristics of AZO films were investigate sputtering method. The Carrier Concentration is enhanced as Ar gas rate increases, and also the oxygen vacancy concentration. The figure of merit obtained in this study means that AZO films which deposited Ar gas rate of 75 sccm have the highest Carrier concentration and Hall mobility, which have the highest photoelectrical performance that it could be used as transparent electrodes.
We have investigated the effect of the substrate temperature and hydrogen flow rate on the characteristics of IGZO thin films for the TCO (transparent conducting oxide). For this purpose, IGZO thin films were deposited by RF magnetron sputtering at room temperature and 300℃ with various H2 flow rate. Experiments were carried out while varying the hydrogen gas flow rate from 0sccm to 1.0sccm in order to see how the hydrogen gas affects the IGZO thin films. IGZO thin films deposited at room temperature and 300℃ showed amorphous. The lowest resistivity value was 0.379×10-5 Ωcm when the IGZO film was deposited at 300℃ and set up at 1.0sccm. As the oxygen vacancy rate increased, the resistivity intended to decrease. In conclusion, Oxygen vacancy affects the IGZO thin film's electrical characteristic.
Objectives: For the field application of the dielectric barrier discharge plasma reactor, scale-up of the plasma reactor is needed. This study investigated the possibility of inactivation of microorganisms in sewage using pilot multi-plasma reactor. We also considered the possibility of degradation of total organic carbon (TOC) and nonbiodegradable matter ($UV_{254}$) in sewage. Methods: The pilot plasma reactor consists of plasma reactor with three plasma modules (discharge electrode and quartz dielectric tube), liquid-gas mixer, high voltage transformers, gas supply equipment and a liquid circulation system. In order to determine the operating conditions of the pilot plasma reactor, we performed experiments on the operation parameters such as gas and liquid flow rate and electric discharge voltage. Results: The experimental results showed that optimum operation conditions for the pilot plasma reactor in batch experiments were 1 L/min air flow rate), 4 L/min liquid circulation rate, and 13 kV electric discharge voltage, respectively. The main operation factor of the pilot plasma process was the high voltage. In continuous operation of the air plasma process, residual microorganisms, $UV_{254}$ absorbance and TOC removal rate at optimal condition of 13 kV were $10^{2.24}$ CFU/mL, 56.5% and 8.6%, respectively, while in oxygen plasma process at 10 kV, residual microorganisms, $UV_{254}$ absorbance and TOC removal rate at optimal conditions were $10^{1.0}$ CFU/mL, 73.3% and 24.4%, respectively. Electric power was increased exponentially with the increase in high voltage ($R^2$ = 0.9964). Electric power = $0.0492{\times}\exp^{(0.6027{\times}lectric\;discharge\;voltage)}$ Conclusions: Inactivation of microorganisms in sewage effluent using the pilot plasma process was done. The performance of oxygen plasma process was superior to air plasma process. The power consumption of oxygen plasma process was less than that of air plasma process. However, it was considered that the final evaluation of air and oxygen plasma must be evaluated by considering low power consumption, high process performance, operating costs and facility expenses of an oxygen generator.
본 실험에서는 활성탄소섬유에 산소플라즈마 처리를 실시하여 산소작용기 도입 함량에 따른 유독성 화학작용제의 모사 가스인 dimethyl methylphosphonate (DMMP) 감응특성에 대하여 고찰하였다. 산소플라즈마 처리 유량이 증가할수록 활성탄소섬유 표면에 산소가 6.90%에서 최대 36.6%까지 도입되어 DMMP 가스 감응특성에 영향을 미치는 -OH가 증가하였다. 그러나 유량이 증가할수록 산소플라즈마 처리 시 발생한 산소 활성종으로 인하여 활성탄소섬유 표면에 식각이 발생하여 비표면적은 감소하는 경향을 보였다. DMMP 가스센서의 저항변화율은 산소플라즈마 처리 유량이 증가함에 따라 4.2%에서 최대 25.1%까지 증가하였다. 이는 산소플라즈마 처리로 인하여 활성탄소섬유에 발달된 -OH와 DMMP 가스의 수소결합으로 인한 것이라 여겨진다. 따라서 산소플라즈마 처리는 상온에서 유독성화학작용제 가스를 감지하기 위한 중요한 표면처리 방법 중 하나라고 판단된다.
Ignition of hydrogen and oxygen in the "third limit" is theoretically investigated in the stagnation point flow with activation energy asymptotics. With the steady-state approximations of H, OH, O and HO$_2$, a two-step reduced kinetic mechanism is derived for the regime lower than the crossover temperature T$_{c}$ at which the rates of production and consumption of all radicals are equal. Appropriate scaling of Damkohler number successfully provides the explicit relationship between pressure, temperature and strain rate at ignition. It is shown that, compared with those for the counterflow, ignition temperatures for the stagnation point flow are considerably increased with increasing the system pressure. This is because ignition in the "third limit" is characterized by the production of reduction of $H_2O$$_2$, which is reduced by wall effect. Strain rate substantially affects ignition temperature because key reaction rates of $H_2O$$_2$ are comparably with its transport rate, while the mixture temperature and the hydrogen composition do not significantly affect ignition temperature.e.
The $La_{0.7}Sr_{0.3}MnO_3$ was deposited on $SiO_2/Si$ substrate by RF magnetron sputtering. The oxygen gas flow rate was changed from 0 to 80 sccm and the substrate temperature was $350^{\circ}C$. The oxygen gas flow rate was changed to control the growth orientation and crystalline state of the film. Relatively high TCR (temperature coefficient of resistance) value (-2.33%/K) was obtained when comparing with the reported values of the films prepared by using high substrate anneal temperature. The decrease in the sheet resistance and TCR value were observed when grain size of the film increased with the increase of oxygen gas flow rate.
The reactions of triplet oxygen atom with halomethanes as a potential fire extinguisher were studied by a discharge flow-chemiluminescence imaging method. The experiments were carried out under second order conditions. The bimolecular atom-molecule reaction rate constants were determined in terms of the initial rate method. The initial concentration of oxygen atom was also determined under second order rate law instead of the pseudo-first order conditions with $[O(^3P)]_0{\ll}[sample]_0$. The second order conditions were more reliable than pseudo-first order conditions for the determinations of rate constants. The rate constants of the reactions $CF_3I\;+\;O(^3P)$, $CH_3PI\;+\'O(^3P)$, and $CHBrCl_2\;+\;O(^3P)$ were determined to be $5.0\;{\times}\;10^{-12}$ , $1.1\;×\;0^{-11}$ , and $1.9\;{\times}\;10^{-14}cm^3molecule^{-1}s^{-1}$, respectively.
Oxygen is a key substrate in animal cell metabolism and its consumption is thus a parameter of great interest for monitoring and control in animal cell culture bioreactor. The use of a gas-permeable membrane offered the possibility to provide the required quantity of oxygen into the culture. while avoiding problems of foaming or shear damage generally linked to sparging. For determining the optimum DO control strategy of this gas-permeable membrane aeration bioreactor, the oxygen transfer rate coefficient was measured with varying $N_2$ ratio in inlet air. The results showed that an increasing mass flow rate of nitrogen reduced the $K_La$ value. and 5% nitrogen in air did not result in any oxygen limitation.
극저온 유체를 사용하는 발사체는 극저온 유체의 자연순환회로를 이용하여 발사체의 엔진 입구를 냉각한다. 자연순환회로의 질량유량은 순환시스템을 구성하는 배관의 길이 및 직경과 시스템으로 들어오는 열유입에 의하여 결정된다. 극저온 유체의 자연순환회로의 순환 검증 및 질량유량 측정을 위하여 실험을 진행하였으며, 이론적 계산 결과와 비교하였다. 비교 결과 12%의 오차가 있음을 확인하였다. 이 결과를 바탕으로 발사체 상단에서 저중력 구간 및 가속 구간에서의 자연순환 질량유량을 예측한 내용을 포함한다. 가속구간에서는 산화제탱크가 100 kPa 내외로 유지하는 것이 자연순환유량 증가에 이로웠으며, 저중력구간에서는 중력가속도의 크기에 따른 최적 압력으로 조절해야 자연순환유량의 최고값을 유지할 수 있었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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