Purpose: To study changes in coating and lens materials after chemically etched different polymer based glass lenses in short-term and ambient condition using hydrofluoric acid. Methods: Vinyl ester polymer (Lens A) and thiourethane polymer (Lens B), both dyed in gray 70%, were etched in hydrofluoric acid solution for 5, 10, or 15 min. The mechanical properties, degrees of damages in hard coating, anti-reflection coating, and other coatings, rates of refractive index and light transmission of both polymer types were evaluated. Results: Rates of refractive index of both lens types were not changed significantly after chemical etching. However, anti-reflection coatings and hard coatings were removed and lens surfaces were damaged. As a results, UV light transmission of lenses increased and mechanical properties decreased. Chemical etching notably changed various properties of thiourethane polymer materials. Conclusions: Depending on types of polymer materials, chemical reactions by hydrofluoric acid were dissimilar. Thus, various properties of les materials were altered differently.
Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers
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v.21
no.4
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pp.532-540
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2012
In this study, some considerations have been suggested in developing on-site techniques to evaluate the sensitization of stainless steels. Electrochemical potentiokinetic reactivation (EPR) technique is known to be a candidate tool for field applications since it enables quantitative assessment in reasonable test time, compared to oxalic etching (ditch) technique. The on-site application of the test method imposes additional restrictions on the selection of the test method (for example, minimum surface preparation requirement, insensitivity to testing temperature, etc.). The EPR and etching techniques have been compared in order to sensitization of stainless steel structures. It has been widely reported that the maximum sensitivity in the welded structure of stainless steel is shown at heat-affected zone (HAZ) than weldments with cast structure. In this work, sectioned weldments and external surfaces were investigated to reveal the degree of sensitization by the etching and the results were compared with those of EPR test. The EPR test showed little sensitivity to surface roughness and test temperature.
The magnetic and structural properties of FINEMET (the Hitachi product name of the Fe-Si-B-Nb-Cu alloy) nanopowder with a composition of $Fe_{73.5}Si_{13.5}B_9Nb_3Cu_1$ atomic percent were investigated after annealing, chemical etching, and mechanical milling. The primary and secondary crystallization temperatures were 523 and $550^{\circ}C$, respectively. The grain size of the particles was adjusted by annealing time. Optimally annealed particles exhibited a homogenous microstructure composed of nanometer-sized crystalline grains. The grain boundary of the annealed particles was etched preferentially by chemical etching. Chemically etched particles were broken at the grain boundary by high-energy ball milling. As a result, a nanometer-sized FINEMET powder with a uniform size of crystalline grains was fabricated.
Jang, Woong-Ki;Jeon, Eun Chae;Choi, Doo Sun;Kim, Byeong Hee;Seo, Young Ho
Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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v.13
no.4
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pp.13-20
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2014
In this paper, the effects of a nonionic surfactant on the etch uniformity and the etch profile during the wet-etching process of high-purity aluminum were investigated for the fabrication of uniform micropattern arrays. To improve the surface roughness of a high-purity aluminum plate, a mechanical lapping process and an electrolytic polishing process were used. After electrolytic polishing process, the surface roughness, Ra, of the high-purity aluminum plate was improved from $1.25{\mu}m$ to $0.02{\mu}m$. A photoresist was used as an etching mask during the aluminum etching process, where the mixture of phosphoric acid, acetic acid, nitric acid, a nonionic surfactant and water was used as the aluminum etchant. Different amounts of the Triton X-100 nonionic surfactant were added to the aluminum etchant to investigate the effect of a nonionic surfactant during the wet-etching process of high-purity aluminum. The etch rate and the etch profile were measured by an optical interferometer and a scanning electron microscope.
Kim, Seong-Hyok;Kim, Yong-Kweon;Lee, Jae-Ho;Huh, Jin
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.49
no.6
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pp.367-374
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2000
This paper presents a method to fabricate freestanding structures by (100) silicon anisotropic etching and nickel electroless plating. The electroless plating process is simpler than the electroplating, and provides good coating uniformity and improved mechanical properties. Furthermore, the (100) silicon anisotropic etching in KOH solution with being aligned to <100> direction provides vertical (100) sidewalls on etched (100) surface. In this paper, the effects of the nickel electroless plating condition on the properties of electroless plated metal structures are investigated to apply fabrication of micro structures and then various micro structures are fabricated by nickel electroless plating. And then, the structures are released by silicon anisotropic etching in KOH solution with a large gap between the structure and the substrate. The fabricated cantilever structures are $210\mum$. wide, $5\mum$. thick and $15\mum$. over the silicon substrate, and the comb structure has the comb electrodes which are $4\mum$. wide and $4.3\mum$. thick separated by$1\mum$. It is released by silicon anisotropic etching in KOH solution. The gap between the structure and the substrate is $2.5\mum$.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.21
no.1
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pp.22-31
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1997
The grain boundary etching method as a method for assessing degradation of structural materials has received much attention because it is simple, inexpensive and easy to apply to real components. In this study, the effectiveness of the method is verified by successfully applying the technique to in-service components of aged fossil power plants such as main steam pipes, boiler headers an turbine rotors. A new degradation parameter, intersecting number ratio (N$_{1}$/N$_{0}$), is employed. The intersecting number ratio (N$_{1}$/N$_{0}$) is defined as the ratio of intersection number (N$_{1}$) obtained from 5-minute picric acid etched surface to the number (N$_{0}$) obtained from nital etched surface. Two kinds of test materials, 2.25Cr-1Mo steel and 1Cr-1Mo-0.25V steel, were artificially thermal-aged at 630.deg. C in different levels of degradation., (N$_{1}$/N$_{0}$) were measured. And, correlations between the measured values and LMP values calculated from aging temperature and aging time were sought. To check the validity of the correlations obtained in laboratory, similar data were measured from service components in four old Korean fossil power plants. These on-site measurement data were in good correlation with those obtained in the laboratory.oratory.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.11
no.6
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pp.458-464
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1998
This paper gives characterization of substrate and PZT(53/47) thin film deposited by metalorganic decomposition, which is concerned in deposition process and device fabrication process, to fabricate micro electro mechanical system (MEMS) device with piezoelectric material. The PZT thin films deposited by MOD at 700^{\circ}C$ for 30 minutes had a polycrystallinity, that is, no substrate dependence, while different interface were developed depending on the bottom electrodes. Such a structural variation could influence on not only the properties of the PZT film but also etching process for fabricating MEMS devices. Therefore the electrode structure is a very important factor in the deposition of the PZT film during etching process by HF acid for MEMS device with piezoelectric material. Piezoelectric coefficients of the PZT films on the different substrates were 40 and 80 pm/V at an applied voltage of 4V. Based in these results, it was possible for deposition of the PZT film by MOD to apply MEMS device fabrication process based on piezoelectricity after selection of proper bottom electrode.
Recently, due to the development of MEMS technology, researches for the production of effective micro structures and shapes have been actively conducted. However, the process technology based on chemical etching has a number of problems such as environmental pollution and time problems due to multi-process. Various processes to cope with this process are being studied, and one of the mechanical etching processes is the powder blasting process. This process is a method of spraying fine particles, which has the advantage of being an effective process in manufacturing hard brittle materials. However, it is also a process that adversely affects the material surface roughness and material properties due to the impact of the injection of fine particles. In this study, after fabricating micro-channels in fused silica glass with excellent optical properties among the hard brittle materials, we used the nano indentation system to analyze the micro parts using nano-particles as well as machinability and surface roughness analysis of the processed surface. The analysis was performed for the effective processing of powder blasting.
The structure and mechanical properties of TiN and TiCN thin films deposited on STD61 steel substrates by the RF-sputtering methods has been studied by using XPS, XRD, micro-hardness tester, scratch tester, and wear-resistance tester. XPS results showed that the TiCN thin film formed with chemical bonding state. The TiN thin films grew with (111) orientation having the lowest strain energy by compressive stress, whereas the TiCN thin films grew with both (111) and (200) orientation, but (200) orientation having the lowest surface energy becomes dominant as carbon contents increase. The pre-etching treatment of substrate did not affect on the preferred orientation of thin films, but it played an important role in improving mechanical properties of thin films such as the hardness, adhesion and wear- resistance. Especially, the TiCN thin films showed the superior wear resistances due to high hardness and low friction coefficient compared with TiN thin films.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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