Characterization and Comparison of Doping Concentration in Field Ring Area for Commercial Vertical MOSFET on 8" Si Wafer (8인치 Si Power MOSFET Field Ring 영역의 도핑농도 변화에 따른 전기적 특성 비교에 관한 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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- v.26 no.4
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- pp.271-274
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- 2013