DLTS를 이용한 $HfO_2/Al_2O_3/Si$ MOS의 계면 상태에 관한 연구
(Investigation of Interface States of $HfO_2/Al_2O_3/Si$ MOS System by Deep Level Trasient Spectroscopy)
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- 한국세라믹학회:학술대회논문집
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- 한국세라믹학회 2003년도 춘계총회 및 연구발표회 초록집
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- pp.35.1-35
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- 2003