• 한국응용과학기술학회지
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• 제34권3호
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• pp.436-442
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• 2017

합성폐수 내의 유기물(COD), 질산성 질소, 인산이온을 제거하기 위한 폐수처리 시스템 개발을 위한 연구를 수행하였다. 먼저 COD는 HClO의 산화 반응에 의해 거의 100 % 제거되었으며 전기화학적 처리에 의해 질산성 질소가 암모니아성 질소로 환원되지만, 암모니아성 질소는 HClO 처리에 의해 질산성 질소로 재 산화 되었다. 암모니아성 질소는 가열 증발 처리에 의하여 거의 100% 제거 되었으며 HClO 처리를 하여도 재 산화되는 암모니아성 질소는 나타나지 않았다. 인산 이온은 pH에 따라 금속 착염을 형성함으로써 침전 처리에 의해 제거할 수 있었으며 전기화학적 처리와 HClO 처리를 통하여 COD 99.5 % 이상, 질소 97.3 %, 인 91.5 %의 제거 효율을 얻을 수 있었다.

• Nuclear Engineering and Technology
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• 제16권2호
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• pp.58-63
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• 1984

특별히 제작한 영동장치를 써서 8면체 구조의 (Ruc $l_{6}$)$^{3-}$ 를 여과지 전기영동 분리하였다. 자지전해질 용액은 다음과 같다. 0.1M-HCl $O_4$, 0.05M-HCl+0.09M-KCI, 0.1M-HCl, 5$\times$$10^{-3}$M-NTA, 0.01M-HCl, 0.01M-HCl $O_4$, 0.01M-시트르산, 0.01M-K $H_2$P $O_4$+0.01M-$Na_2$HP $O_4$, 0.05M-붕사, 0.025M-$Na_2$C $O_3$+0.025M-NaHC $O_3$, 0.01M-$Na_3$P $O_4$, 0.01M-NaOH, 0.1M-NaOH. (Ruc $l_{6}$)$^{3-}$ 은 2-4피크로 나타내며 다음 화학종으로 확인된다. (RuCl($H_2O$)$_{5}$ )$^{2+}$, cis- 및 trans-(RuC $l_2$($H_2O$)$_4$)$^{1+}$ , (RuC $l_3$($H_2O$)$_3$)$^{0}$ , (RuC $l_4$($H_2O$)$_2$)$^{1-}$, (RuC $l_{5}$ ($H_2O$))$^{2-}$ , (RuC $l_{6}$)$^{3-}$ . 리텐숀 값은 0.025M-$Na_2$C $O_3$+0.025M-NaHC $O_3$ 전해질 용액에서 가장 높다.

• 한국식품과학회지
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• 제42권1호
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• pp.8-13
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• 2010

캔제품 중 Biphenol A diglycidyl ether(BADGE), bisphenol F diglycidyl ether(BFDGE) 및 그 분해산물인 BADGE $H_2O$, BADGE $2H_2O$, BADGE HCl, BADGE 2HCl, BADGE HCl $H_2O$, BFDGE $H_2O$, BFDGE $2H_2O$, BFDGE HCl, BFDGE 2HCl, BFDGE HCl $H_2O$ 등의 HPLC/FLD와 HPLC/APCI-MS에 의한 정성 및 정량방법을 확립하고 133개 캔 제품을 사용하여 분석방법의 재현성을 검토하였다. 수용성 식품의 경우 BADGE $2H_2O$가 13개 제품에서 0.400-0.888 mg/kg, BADGE HCl $H_2O$가 1개 제품에서 0.566 mg/kg, BFDGE $H_2O$가 3개 제품에서 0.489-0.664 mg/kg, BFDGE $2H_2O$가 3개 제품에서 0.455-0.846 mg/kg, BFDGE HCl $H_2O$가 2개 제품에서 0.455-0.752 mg/kg의 농도로 검출되었다. 지용성 식품의 경우에는 BADGE가 3개 제품에서 0.093-0.486 mg/kg, BADGE $H_2O$가 1개 제품에서 0.183 mg/kg, BADGE HCl이 1개 제품에서 0.097 mg/kg, BADGE 2HCl이 7개 제품에서 0.200-0.452 mg/kg, BFDGE가 3개 제품에서 0.438-0.506 mg/kg, BFDGE $2H_2O$가 1개 제품에서 0.295 mg/kg, BFDGE HCl 및 BFDGE 2HCl이 1개 제품에서 0.324 mg/kg의 농도로 검출되었다. 분석방법의 재현성은 우수하였고, 모니터링 결과는 EU 수준과 유사하거나 안전한 수준으로 나타났다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제34권7호
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• pp.2176-2182
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• 2013

A novel sol-gel method was implied to prepare CuO-doped ZnO nanoparticles. XRD and SEM techniques were used to characterize the CuO-doped ZnO sample. The photocatalytic degradation of Lidocaine HCl was investigated by two methods. The degradation was studied under different conditions such as the amount of photocatalyst, pH of the system, initial concentration, presence of electron acceptor, and presence of anions. The results showed that they strongly affected the photocatalytic degradation of Lidocaine HCl. The photodegradation efficiency of drug increased with the increase of the irradiation time. After 6 h irradiation with 400-W mercury lamp, about 93% removal of Lidocaine HCl was achieved. The degree of photodegradation obtained by Taguchi method compatible with the trial-and-error method showed reliable results.

• 분석과학
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• 제20권4호
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• pp.302-307
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• 2007

$TiO_2$ 나노분말 제조시 HCl과$NH_4OH$의 첨가량에 따른 반응양상과 pH의 영향을 고찰하였다. Titanium tetra-isopropoxide의 가수분해 반응을 이용하여 nanosize의 $TiO_2$ 분말를 합성하였고, 촉매로 HCl과$NH_4OH$를 사용하였다. 촉매의 첨가량에 따른 반응양상과 생성된 $TiO_2$ 분말의 특성 변화를 조사하였다. 염기성 촉매인$NH_4OH$를 사용하였을 경우에 균질한 형상의 분말 형태의 $TiO_2$를 합성할 수 있었으며, 산성 촉매인 HCl을 사용하여 pH가 5.04 이하일 경우에는 괴상이나 과립의 형태로 생성되었다. 사용한 촉매의 종류와 양에 따라 저온의 결정상인 anatase의 생성속도와 보다 안정한 rutile 상으로의 상전이 속도가 영향을 받았다.

• 청정기술
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• 제23권2호
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• pp.172-180
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• 2017

HCl에 의한 원소수은의 염화수은으로의 산화반응에 대한 열역학적 검토 결과 수십 ppm 수준의 HCl이 존재하는 경우에 SCR 반응 온도범위에서 원소수은의 염화수은으로의 전환은 100% 가능한 것으로 확인하였다. SCR공정 운전 온도범위에서 Cu, Fe, Mn의 염화물이 담지된 $V_2O_5-WO_3/TiO_2$ 촉매가 우수한 NO 제거 활성을 보였다. $NH_3-TPD$ 측정결과 $NH_3$의 흡착강도를 나타내는 탈착온도가 높은 촉매가 우수한 NO 제거활성을 나타내었다. 반응가스에 HCl을 공급할 경우 원소수은의 산화반응이 촉진되는 결과를 얻을 수 있었다. 그러나, NO와 함께 $NH_3$가 존재하는 SCR반응 조건에서는 촉매표면에 강하게 흡착되는 $NH_3$에 의해 촉매표면에 HCl의 흡착이 방해를 받기 때문에 HCl에 의한 원소수은의 염화수은으로의 산화반응 활성이 억제되는 것으로 나타났다. SCR반응 조건에서 금속염화물이 담지된 $V_2O_5-WO_3/TiO_2$ 촉매가 금속염화물이 담지되지 않은 $V_2O_5-WO_3/TiO_2$ 촉매에 비해 우수한 수은 산화활성을 보이는데 이는 촉매 표면에 존재하는 금속염화물의 염소기가 수은 산화반응에 참여하여 활성을 증가시키기 때문으로 판단된다.

• 자원환경지질
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• 제46권1호
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• pp.21-28
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• 2013

저항성 황화광물 정광으로부터 금 용출을 최적화시키기 위하여 HCl-NaClO-$FeCl_3$ 용액과 다양한 변수를 유일광산 소성정광에 적용하였다. 유일광산의 gold는 용출시키기 어려운 비가시성 gold로 산출되었다. 다양한 변수를 이용하여 용출실험을 수행한 결과, 소성온도 $550^{\circ}C$, 첨가량 2.0 M, 광액농도 1.0% 그리고 용출온도 $70^{\circ}C$에서 최대의 gold 용출율을 얻었다. HCl-NaClO-$FeCl_3$ 용액은 황화광물 정광으로부터 금과 은을 친환경적으로 용출시킬 수 있는 시안 대체 용매제 일 것으로 사료된다.

• 한국펄프종이공학회:학술대회논문집
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• 한국펄프종이공학회 1999년도 춘계학술발표논문집
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• pp.78-83
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• 1999

In this paper the extinction coefficients of molecule chlorine ($Cl_2$), chlorine dioxide (ClO$_2$), hypochlorous acid (HClO), chlorous acid ($HClO_2$$_2$) were determined using a PDA UV-VIS spectrophotometer. Based on these, the concentrations of $Cl_2$, $ClO_2$, and HClO in general chlorine dioxide bleaching liquor can be measured. The concentrations of $Cl_2$, $ClO_2$ and $HClO_2$ produced during the generation of methanol based chlorine dioxide generator can also be determined use the same method. The method was thought to be able to give more information in chlorine dioxide bleaching chemistry if combine its use with titration and ion chromatography.

• 한국결정성장학회지
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• 제32권1호
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• pp.40-44
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• 2022

35 % 농도의 염산 용액을 이용하여 α-Ga₂O₃ epitaxy 박막의 습식 식각을 수행하였다. 35 % 염산 용액의 온도가 증가함에 따라 α-Ga₂O₃ epitaxy 박막의 식각 속도가 증가하였고, 본 연구에서 시도한 가장 높은 온도인 75℃에서 119.6 nm/min의 식각 속도를 나타내었다. 식각 반응의 활성화 에너지는 0.776 eV로 계산되었고, HCl 용액에서의 습식 식각은 reaction-limited 반응 기구에 의해 지배됨을 확인하였다. 각 온도에서 식각된 표면들의 AFM 분석결과 식각 용액의 온도가 증가함에 따라 식각된 표면의 표면조도가 증가함을 알 수 있었다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제35권4호
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• pp.1195-1201
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• 2014

Atomic layer deposition (ALD) of $TiO_2$ thin film from $TiCl_4$ and $H_2O$ has been intensively studied since the invention of ALD method to grow thin films via chemical adsorptions of two precursors. However the role of HCl which is a gaseous byproduct in ALD chemistry for $TiO_2$ growth is still intriguing in terms of the growth mechanism. In order to investigate the role of HCl in $TiO_2$ ALD, HCl pulse and its purging steps are inserted in a typical sequence of $TiCl_4$ pulse-purge-$H_2O$ pulse-purge. When they are inserted after the first-half reaction (chemisorption of $TiCl_4$), the grown thickness of $TiO_2$ becomes thinner or thicker at lower or higher growth temperatures than $300^{\circ}C$, respectively. However the insertion after the second-half reaction (chemisorption of $H_2O$) results in severely reduced thicknesses in all growth temperatures. By using the result, we explain the growth mechanism and the role of HCl in $TiO_2$ ALD.