In this paper, a fire resistance test was carried out in accordance with the change of the insulation conditions on the exposed side and unexposed side of a coaming to obtain the optimal insulation conditions for class H-120 insulation in connection with specimen1 of the preceding paper for an evaluation of the fireproof performance of fire dampers according to hydrocarbon fire conditions. In the test results, specimen2(88 mm, $171^{\circ}C$) met the class H-120 insulation conditions, but specimen3(76mm, $181^{\circ}C$) exceeded the thermal insulation acceptance criteria at 110 minutes. Therefore, specimen2(88 mm) represents the optimal insulation conditions as a possible lightweight materialas compared to specimen1. From a comparison of the test results, we concluded that the temperature increase of the coaming insulation surface was influenced by conductive heat from the bulkhead and that the coaming surface was influenced by radiant heat from the blade and coaming.
This research conducts CAE analysis of fire damper and design of damper controlling system. The prediction of the design heat transfer was done the answer of fire damper could be obtained by using continuity equation of damper controlling and orthogonal array. Through the design analysis of optimal offshore construction, new fire damper of H-120 class was designed. Accordingly, this equipment will be tested in actual offshore construction. Finally, we could obtain fire damper of optimal design with orthogonal array. With the CAE results of this research, The offshore plant will obtain eco-friendly fire damper with a method to select optimal condition of fire damper with orthogonal array.
나노급 다이아몬드는 최근 폭발법이나 증착법에 의한 신공정으로 100 nm 이하의 분말형태의 제조가 가능하다. 나노급 다이아몬드의 소결을 이용하면 이상적인 연마기기의 제작이 가능하다. 이러한 나노급 다이아몬드의 소결 공정에서 생기는 비이상적인 나노결정의 결정립성장과 다이아몬드 결합장애를 방지하기 위해서 나노급 무기물을 균일하게 코팅하는 공정개발이 필요하다. 본 연구에서는 나노급 다이아몬드의 소결 특성을 향상시키기 위해서 ALD(atomic layer deposition)을 이용하여 진공에서 $20{\sim}30\;nm$ 두께의 ZnO 박막을 코팅해 보았다. 나노급 다이아몬드 분말 전면에 경제적으로 ZnO ALD를 위해서 기존의 기계적 진동효과 또는 전용 fluidized bed reactor를 대치하여 새로이 20 mm 석영튜브 안에 다이아몬드 분말을 넣고 다공성 유리필터로 막은 후 펄스와 퍼지 공정시의 압력에 의한 다이아몬드의 부유를 이용한 변형된 fluidized bed 공정을 채용하였다. 다공성 유리필터로 양쪽이 막힌 석영튜브 안에 전구체 DEZn (diethylzinc : $C_4H_{10}Zn$)와 반응기체 $H_2O$를 사용하여 ZnO 박막을 캐니스터 온도 $10^{\circ}C$에서 원자층증착하였다. 공정 순서 및 반응물질 주입 시간은 DEZn pulse-0.1초, DEZn purge-20초, $H_2O$ pulse-0.1초, $H_2O$ purge-40초와 같이 설정하였으며, 이 네 단계를 1 cycle로 정의하여 100 cycle 반복 실시하였다. 다이아몬드 분말과 ZnO 박막이 증착된 다이아몬드 분말의 미세구조를 확인하기 위하여 투과전자현미경 (transmission electron microscope)을 이용하였다. TEM 측정결과, ALD 증착 전 나노급 다이아몬드 분말의 직경이 약 $70{\sim}120\;nm$이었고 사면체, 육면체 등의 다양한 형태를 보임을 확인하였다. ZnO 박막이 ALD코팅된 다이아몬드 분말의 직경은 약 $90{\sim}150\;nm$이었고, 다이아몬드 분말과 ZnO의 명암차이에 의해 약 $20{\sim}30\;nm$ 두께의 균일한 ZnO 박막이 다각형 형태의 다이아몬드 파우더 표면에 성공적으로 증착되었음을 확인하였다.
본 연구는 비육돈 사료내 구리와 아연의 수준별 급여가 생산성, 영양소 소화율, 육질 및 도체 특성에 미치는 영향을 알아보기 위해 실시하였다. 3원 교잡종$(Landrace{\times}Yorkshire{\times}Duroc)$ 비육돈 72두를 공시하였으며, 시험개시 시의 체중은 58.47 kg이었다. 시험설계는 $2{\times}3$ 요인설계(Cu $level{\times}Zn$ level)에 의해 6개 처리로 하여 처리당 3반복, 반복당 4두씩 완전임의 배치하였다. 본 연구에 사용된 구리와 아연의 공급원은 각각 Cu-methionine chelate와 Zn-methionine chelate 이었으며, 사료내 함량은 각각 10, 30 및 60 ppm과 80 및 120 ppm 이었다. 전체사양시험기간 동안 ADG와 ADFI에서는 구리 함량, 아연 함량 및 상호작용에 대한 유의한 효과가 나타나지 않았다. 사료효율에서는 유의한 상호작용이 나타났는데(p<0.05), 구리와 아연함량이 각각 30과 120 ppm일때 가장 높게 나타났다. 건물 소화율에서는 구리 함량(p<0.02), 아연 함량(p<0.01) 및 상호작용(p<0.04)에 대한 유의한 효과가 나타났는데, 구리함량이 감소할수록 증가하였고, 아연 함량은 증가할수록 증가하였으며, 구리와 아연 함량이 각각 30과 120 ppm일 때 가장 높게 나타났다. 질소 소화율에서는 아연 함량(p<0.01)과 상호작용(p<0.03)에서 유의한 효과가 나타났는데, 아연 함량이 증가할수록 증가하였고 구리와 아연 함량이 각각 30과 120 ppm일때 가장 높게 나타났다. 명도를 나타내는 $L^*-$값, 전단력, 가열감량 및 pH에서는 유의한 효과가 나타나지 않았다. 적색도를 나타내는 $a^*-$값 (p<0.04)과 황색도를 나타내는 $b^*-$값 (p<0.01)에서는 아연함량에 대한 효과가 나타났는데, 사료내 아연 함량이 감소할수록 증가하였다. 보수력에서는 유의한 상호작용이 나타났는데(p<0.01), 구리와 아연 함량이 각각 10과 120 ppm일 때 가장 높게 나타났다. 도체중, 등지방 두께, 도체등급에서는 유의한 효과가 나타나지 않았다. 도체율에서는 유의한 상호작용이 나타났는데(p<0.04), 구리와 아연 함량이 각각 30과 120 ppm일때 가장 높게 나타났다. 결론적으로 비육돈 사료내 구리와 아연의 함량이 각각 30 ppm과 120 ppm일때 사료효율, 영양소 소화율 및 도체율을 개선시켰으면 각가 10 ppm과 120 ppm일때 보수력을 개선시켰다.
강우량계는 기상관측 장비중 비가 온 양을 측정하기 위한 장비로 전도형, 저수형, 중량형, 로드셀형 등 다양한 종류의 강우량계가 있다. 전도형 우량계의 경우 단순한 측정방법 및 유지보수의 용이성, 접점방식에 의한 신호의 디지털화 적용성이 우수하기 때문에 가장 널리 사용되고 있다. 전도형 우량계는 분해능에 따라 0.1mm, 0.2mm, 0.5mm, 그리고 1.0mm급으로 분류며, 저수지 관리를 위해 사용되고 있는 우량계는 1.0mm 급을 주로 사용하고 있으며, 보다 정밀하게 측정하기 위하여 0.5mm 급 우량계도 사용하고 있다. 이러한 전도형 우량계의 정확도를 검정하기 위한 방법으로 수자원연구원에 질량측정에 의한 검 교정을 할 수 있는 표준교정시스템이 구축되어 있으며, 이 시스템을 이용하여 0.5mm 및 1.0mm 전도형 우량계에 대하여 강우강도를 20, 40, 60, 80, 100, 120, 140, 160, 180, 200 mm/h로 가변하면서 강우강도의 변화에 따른 분해능이 다른 우량계의 오차특성을 비교 분석하고자 한다.
In this study, we have been examined nano Injection Molding process which can improve transcription of 100nm-level pattern. We changed the various parameter (temperature of injection mold, clamp force, temperature of nozzle) which can be influence for improving transcription. And we measured and analyzed shapes of 100nm-level pattern by Automic Force Microscope for proving transcription. We made the Blu-ray Disc sample for proving transcription. And we measured HF-Signal and jitter. As a result, when the temperature of mold is more than $120^{\circ}C$ and the clamp force is more than 10 ton, We reached over 95 percent of transcription compared with stamper pattern. And we reached in-spec. value for HF-Signal and Jitter. Then we reached over 95 percent of transcription compared with stamper pattern.
본 시험은 4가지의 유도환우 방법을 이용한 환우 후의 산란계의 생산성을 비교 검토하기 위해 수행하였다. 공시계는 산란율 80% 이상, 평균 체중 $16{\pm}0.3\;kg$의 62주령 White Leghorn 120수를 공시하였다. 4가지 환우 방법은 ; 1) 환우 시험 개시 후 10일째까지 절식, $11{\sim}13$일째 제한 급이, 14일째부터 고에너지 사료 자유 급이 (FW1), 2) 저에너지 사료 자유 급이 (FW2), 3) 환우용 사료를 26일째까지 일일 수당 60 g, 27일째부터 28일째까지 일일 수당 90 g씩 제한 급이(NFW1), 4) 환우용 사료 자유 급이. 처리구는 4종류의 환우 방법에 대조구를 포함하여 총 5처리구를 설정하였으며, 처리구당 2반복, 반복당 12수씩 완전임의 배치하였다. FW1과 FW2 처리구는 환우 처리 후 $3{\sim}4$일째에 산란이 완전정지하였으며, NFW1과 NFW2 처리구는 $16{\sim}18$일째에 산란의 거의 정지하였다. 산란율의 회복은 NFW2구가 28일, NFW1구가 30일부터 재 산란이 시작되고, 각각 38일과 41일째에 산란이 50%에 이르렀으며, 54일, 62일째에 각각 산란율 80% 이상을 유지하였다. 이것과 비교하여 환우 처리 후, 저에너지 사료 급이구 FW1와 고에너지 사료 급이구 FW2구는 산란율의 회복이 FW1구가 28일, FW2구가 26일부터 재 산란이 시작되고, 각각 47일과 41일째에 산란율이 50%에 이르렀으며, 70일, 64일째에 각각 산란율 80% 이상을 유지하였다. 환우 14일째간의 무게는 27.6과 32.2 g, 난포수란관의 무게는 22.0과 24.9 g으로 환우처리구에서 무게가 크게 감소하였다(P<0.05). 환우 후 계란 품질은 환우 처리구에서 난중, 난각 두께, 난각 강도 및 하우유니트가 개선되었으나(P<0.05), 난황색은 차이가 없었다(P>0.05).
Hydrogenated amorphous silicon(a-Si : H) layers, 120 nm and 50 nm in thickness, were deposited on 200 $nm-SiO_2$/single-Si substrates by inductively coupled plasma chemical vapor deposition(ICP-CVD). Subsequently, 30 nm-Ni layers were deposited by E-beam evaporation. Finally, 30 nm-Ni/120 nm a-Si : H/200 $nm-SiO_2$/single-Si and 30 nm-Ni/50 nm a-Si:H/200 $nm-SiO_2$/single-Si were prepared. The prepared samples were annealed by rapid thermal annealing(RTA) from $200^{\circ}C$ to $500^{\circ}C$ in $50^{\circ}C$ increments for 30 minute. A four-point tester, high resolution X-ray diffraction(HRXRD), field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), transmission electron microscopy (TEM), and scanning probe microscopy(SPM) were used to examine the sheet resistance, phase transformation, in-plane microstructure, cross-sectional microstructure, and surface roughness, respectively. The nickel silicide on the 120 nm a-Si:H substrate showed high sheet resistance($470{\Omega}/{\Box}$) at T(temperature) < $450^{\circ}C$ and low sheet resistance ($70{\Omega}/{\Box}$) at T > $450^{\circ}C$. The high and low resistive regions contained ${\zeta}-Ni_2Si$ and NiSi, respectively. In case of microstructure showed mixed phase of nickel silicide and a-Si:H on the residual a-Si:H layer at T < $450^{\circ}C$ but no mixed phase and a residual a-Si:H layer at T > $450^{\circ}C$. The surface roughness matched the phase transformation according to the silicidation temperature. The nickel silicide on the 50 nm a-Si:H substrate had high sheet resistance(${\sim}1k{\Omega}/{\Box}$) at T < $400^{\circ}C$ and low sheet resistance ($100{\Omega}/{\Box}$) at T > $400^{\circ}C$. This was attributed to the formation of ${\delta}-Ni_2Si$ at T > $400^{\circ}C$ regardless of the siliciation temperature. An examination of the microstructure showed a region of nickel silicide at T < $400^{\circ}C$ that consisted of a mixed phase of nickel silicide and a-Si:H without a residual a-Si:H layer. The region at T > $400^{\circ}C$ showed crystalline nickel silicide without a mixed phase. The surface roughness remained constant regardless of the silicidation temperature. Our results suggest that a 50 nm a-Si:H nickel silicide layer is advantageous of the active layer of a thin film transistor(TFT) when applying a nano-thick layer with a constant sheet resistance, surface roughness, and ${\delta}-Ni_2Si$ temperatures > $400^{\circ}C$.
Nanoimprint Lithography(NIL) has increasingly been recognized as a key manufacturing technology for nanosized feature. One of the most important task for nanoimprint lithography is to provide the imprinting stamp with low price. The Stamp fabricated with Si based material by e-beam lithography, RIE is extremely expensive and its throughput is very limited and PDMS replica is too soft to hold high imprinting pressure.(>5atm) In this study, we present the imprinting stamp which can be easily replicated from original mold and is based on PVC film. Replication of original Si mold to PVC film was done by Hot embossing technique, ($120^{\circ}C$ of Temperature, 20 atm applied) As small as 100nm patterns were successfully transferred into PVC film. The size of stamp was up to 100mm in diameter.
폐기되고 있는 땅콩껍질로부터 재활용이라는 로하스 개념을 적용한 천연염색 자원개발 측면에서 땅콩껍질의 색소 추출을이용하여 나일론직물의 염색성, 염색 견뢰도와 더불어 기능성을 토하고자 하였다. 볶은 땅콩(학명 Arachis hypogaea)의 외피를 분리하여 땅콩껍질 5kg에 증류수 10L을 가하여 $100^{\circ}C$에서 120분간 환류시켜 색소를 추출 여과하였다. 매염제는 시약은 1급을 그대로 사용하였다. 시료는 KS K 0905에 규정된 염색 견뢰도 시험용 정련된 표준 나일론직물 사용 하였으며 염액의 욕비 1:50, 시간에 따른 염색조건, 염색온도, pH, 반복 염색성은 $100^{\circ}C$에서 90분씩 염색하여 건조하는 순서로 6회 반복 염색하였다. 염색온도가 높아질수록 시간이 길어질 수록황색이 점차 진해지며 온도 증가함에 따라 K/S값과 ${\Delta}E$값이 점차 증가함을 보여주고 있다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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