Field emission from single-walled carbon nanotubes (SWNTs) aligned on a patterned gold surface is reported. The SWNTs emitters were prepared at room temperature by a self-assembly monolayer technique. SWNTs were cut into sub-micron length by sonication in an acidic solution. Cut SWNTs were attached on the gold surface by the reaction between the thiol groups and the gold surface. The field emission measurement showed that the turn-on field was 4.8 $V/{\mu}m$ at the emission current density of 10 ${\mu}A/cm^2$. The current density was 0.5 $mA/cm^2$ at 6.6 $V/{\mu}m$. This approach provides a novel route for fabricating CNT-based field emission displays.
Effect of nitrogen doping on field emission characteristics of patterned Diamond-like Carbon (DLC) films was studied. The patterned DLC films were fabricated by the method reported previously[1]. Nitrogen doping in DLC film was carried out by introducing $N_2$ gas into the vacuum chamber during deposition. Higher emission current density of $0.3{\sim}0.4$$mA/cm^2$ was observed for the films with 6 at % N than the undoped films but the emission current density decreased with further increase of N contents. Some changes in CN bonding characteristics with increasing N contents were observed. The CN bonding characteristics which seem to affect the electron emission properties of these films were studied by Raman spectroscopy, x-ray photoemission spectroscopy (XPS) and Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR). The electrical resistivity and the optical band gap measurements showed consistence with the above analyses.
High efficiency white organic light emitting diodes were fabricated by using an alignment free mask patterning method. Only red/green emission without any blue emission was observed in the red/green patterned region and blue emission was emitted in other area. A combination of the red/green and blue emission gave a high efficiency white emission. A maximum current efficiency of 30.7 cd/A and a current efficiency of 25.9 cd/A at 1000 cd/$m^2$ were obtained with a color coordinate of (0.38, 0.45).
The effect of doping on the energy transfer and charge carrier trapping processes has been studied in organic light-emitting diodes (OLEDs) doped with a fluorescent laser dye. The devices consisted of N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1-biphenyl-4,4'-diamine (TPD) as a hole transporting layer, tris(8-hydroxyquinoline) aluminum ($Alq_3$) as the host, and a fluorescent dye, 4-dicyanomethylene-2-methyl-6-[2-(2,3,6,7-tetrahydro-1 H,5H-benzo[i,j]quinolizin-8-yl) vinyl]-4H-pyran) (DCM2) as the dopant. Temperature dependence of the current-voltage-luminescence (I-V-L) characteristics, the electroluminescence (EL) and photoluminescence (PL) spectra are studied in the temperature ranging between 15 K and 300 K. The emission from DCM2 was seen to be much stronger compared with the emission from $Alq_3$, indicative of efficient energy transfer from $Alq_3$ to DCM2. In addition, the EL emission from DCM2 increasd with increasing temperature while the emission from the host $Alq_3$ decreased. The result indicates that direct charge carrier trapping becomes efficient with increasing temperature. The EL emission from DCM2 shows a slightly sublinear dependence on the current density, implying the enhanced quenching of excitons at high current densities due to the exciton-exciton annihilation.
We report the fabrication of carbon nanostureture films with excellent electron-emission characteristics on chrome electrodes using a pre-deposited transition metal catalyst layer. The emission current densities of 1 ${\mu}A/cm^2$ and 1 $mA/cm^2$ were measured at the electric field of 2.5 and 4.8 $V/{\mu}m$, respectively, and the current fluctuation of less than 2.5% was observed at the average current density 211 ${\mu}A/cm^2$ for the measurement duration of 20 minutes. We counted more than ${\sim}10^4$ emission sites per $cm^2$ from the emission images, and also noticed good mechanical stability. Moreover, we were able to fabricate good electron-emitting carbon films on chrome electrodes on Corning glass substrates at the nominal temperature below $650^{\circ}C$.
The effects of the field emission property in relation to the surface morphology and adhesion force were investigated. The single-wall-nanotube-based cathode was obtained by use of an in-situ arc discharge synthesis method, a screen-printing method and a spray method. The morphologies of the formed emitter layers were very different. The emission stability and uniformity were dramatically improved by employing an in-situ arc discharge synthesis method. In this study, it was confirmed that the current stability and uniformity of the field emission of the cathode depend on the surface morphology and adhesion force of the emitters. The current stability of the field emission device was also studied through an electrical aging process by varying the current and electric field.
Attempts to dope carbon nanotube (CNT) with impurities in order to control the electronic properties of the CNT is a natural course of action. Boron is known to improve both the structural and electronic properties. In this report, we study the field emission properties of Boron-doped double-walled CNT (DWCNT). Boron-doped DWCNT films were fabricated by catalytic decomposition of tetrahydrofuran and triisopropyl borate over a Fe-Mo/MgO catalyst at $900^{\circ}C$. We measured the field emission current by varying the doping amount of Boron from 0.8 to 1.8 wt%. As the amount of doped boron in the DWCNT increases, the turn-on-field of the DWCNT decreases drastically from 6 V/${\mu}m$ to 2 V/${\mu}m$. The current density of undoped CNT is 0.6 mA/$cm^2$ at 9 V, but a doped-DWCNT sample with 1.8 wt% achieved the same current density only at only 3.8 V. This shows that boron doped DWCNTs are potentially useful in low voltage operative field emitting device such as large area flat panel displays.
Deposition conditions of diamond thin films were optimized using hot-filament chemical vapor deposition (HFCVD). Boron-doped diamond thin films with varying boron densities were then fabricated using B4C solid pellets. Current-voltage responses and field emission currents were measured to test the characteristics of field emission display (FED). With the increase of boron doping, the crystal size of diamond decreased slightly, but its quality was not changed significantly in case of small doping. The I-V characterization was performed for Al/diamond/p-Si, and the current of doped diamond film was increased $10^4\sim10^5$ times as compared with that of undoped film. In the field emission properties, the electrons were emitted with low electric field with the increase of doping, while the emission current increased. The onset-field of electron emission was 15.5 V/$\mu\textrm{m}$ for 2 pellets, 13.6 V/$\mu\textrm{m}$ for 3 pellets and 11.1 V/$\mu\textrm{m}$ for 4 pellets. With the incorporation of boron, the slope of Fowler-Nordheim graph was decreased, revealing that the electron emission behavior was improved with the decrease of the effective barrier energy.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.11
no.10
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pp.918-923
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1998
Poly-silicon thin film transistors were fabricated on quartz substrates by high temperature processes. Electrical characteristics were measured and compared for 3 transistor structures of Standard Inverted Gate(SIG), Lightly Doped Drain(LDD), and Dual Gate(DG). Leakage currents of DG and LDD TFT's were smaller that od SIG transistor, while ON-current of LDD transistor is much smaller than that of SIG and DG transistors. Temperature dependence of the leakage currents showed that SIG and DG TFT's had thermal generation current at small drian bias and Frenkel-Poole emission current at hight gate and drain biases, respectively. In case of LDD transistor, thermal generation was the dominant mechanism of leakage current at all bias conditions. It was found that the leakage current was closely related to the reduction of the electric field in the drain depletion region.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2002.04b
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pp.69-72
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2002
We establish a visible light emission from porous polycrystalline silicon nano structure(PPNS). The PPNS layer are formed on heavily doped n-type Si substrate. 2um thickness of undoped polycrystalline silicon deposited using LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) anodized in a HF: ethanol(=1:1) as functions of anodizing conditions. And then a PPNS layer thermally oxidized for 1 hr at $900^{\circ}C$. Subsequently, thin metal Au as a top electrode deposited onto the PPNS surface by E-beam evaporator and, in order to establish ohmic contact, an thermally evaporated Al was deposited on the back side of a Si-substrate. When the top electrode biased at +6V, the electron emission observed in a PPNS which caused by field-induces electron emission through the top metal. Among the PPNSs as functions of anodization conditions, the PPNS anodized at a current density of $10mA/cm^{2}$ for 20 sec has a lower turn-on voltage and a higher emission current. Furthermore, the behavior of electron emission is uniformly maintained.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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