1998년부터 1999년까지 대전지역 대기부유진, 강수 및 낙진 중 $^7Be$ and $^{137}Cs$ 방사능 농도의 계절적 변화를 검토하였다. 대기부유진, 강수 및 낙진중 $^7Be$의 연평균 농도범위는 각각 $3.80{\sim}4.29 mBq\;m^{-3},\;1.25{\sim}1.67 Bq\;l^{-1},\;19.7{\sim}22.3 MBq\;km^{-2}$였다. 한편 대기부유진, 강수 및 낙진 중 $^{137}Cs$ 연평균 농도범위는 $1.08{\sim}1.28{\mu}Bq\;m^{-3},\;0.44{\sim}2.66\;mBq\;l^{-1}$ 및 $0.036{\sim}0.0455\;MBq\;km^{-2}$ 범위였다. 대기부유진 및 낙진 중 $^7Be$ and $^{137}Cs$ 농도는 낙진량이 많은 봄과 가을철에 높은 농도를 나타내었으며, 강수 중 $^7Be$ and $^{137}Cs$ 농도는 타 계절에 비해 강수량이 많은 여름철에 비교적 낮은 농도를 나타내었다. 한편 낙진과 강수에 의한 $^7Be$ and $^{137}Cs$의 연평균 총 침적량은 각각 $80.7{\sim}137 MBq\;km^{-2}$ 및 $0.059{\sim}0.060MBq\;km^{-2}$ 범위였으며, $^7Be$의 총 침적량중 약 80% 이상이 강우에 의해 침적되는 반면, $^{137}Cs$은 약 60% 정도가 낙진에 의해 침적되는 것을 알 수 있었다.
Particulate matter deposited on leaf surfaces may cause erosion/abrasion of epicuticular wax and the malfunction of stomata. However, the deposition processes of particulate matter, such as elemental carbon (EC), has not been studied sufficiently in Asian forest ecosystems. Deposition processes for particulate ${SO_4}^{2-}$ and EC were studied in a Japanese cedar forest in Kajikawa, Niigata Prefecture, Japan, and in a dry evergreen forest and a dry deciduous forest in Sakaerat, Nakhon Ratchasima province, Thailand. The ${SO_4}^{2-}$ fluxes attributed to rainfall outside the forest canopy (RF), throughfall (TF), and stemflow (SF) showed distinct seasonalities at both sites, increasing from November to February at the Kajikawa site and in March/April at the Sakaerat site. Seasonal west/northwest winds in winter may transport sulfur compounds across the Sea of Japan to the Kajikawa site. At the Sakaerat site, pollutants suspended in the air or dry deposits from the dry season might have been washed away by the first precipitations of the wet season. The EC fluxes from RF and TF showed similar variations by season at the Kajikawa site, while the flux from TF was frequently lower than that from RF at the Sakaerat site. Particulate matter strongly adsorbed onto leaf surfaces is not washed away by rainfall and contributes to the EC flux. At the Kajikawa site, Japanese cedar leaf surfaces accumulated the highest levels of particulate matter and could not be neglected when calculating the total flux. When such leaf-surface particles were considered, the contribution of dry deposition to the total EC flux was estimated to be 67%, 77%, and 82% at the Kajikawa site, and at the evergreen and deciduous forests of the Sakaerat site, respectively. Leaf-surface particles must be included when evaluating the dry and total fluxes of particulate matter, in particular for water-insoluble constituents such as EC.
해상어류가두리양식장의 양식 활동이 해양환경에 미치는 영향을 파악하기 위해 통영주변의 해상어류가두리양식장(Site A)에서 해수유동, 퇴적물, 저서동물 및 트랩 등의 현장조사와 수치모델-DEPOMOD를 이용하여 가두리양식장의 고형물 침강량 예측과 적정 고형물 침강량 산정으로 해상가두리양식장의 환경관리 방안을 제시하였다. 조사대상인 Site A 해상어류가두리양식장의 입식 어종은 common sea bass(Lafeolabrax japonicus), red seabream(Pagrus major), striped breakperch(Oplegnathus fasciatus) 등 4종이고, 입식량은 227,800미 (23.1MT) 였다. 가두리양식장의 입식밀도는 $43.0kg\;m^{-2}(6.1kg\;m^{-3})$ 이고, 사료투여 량은 $30.8g\;kg^{-1}day^{-1}(1.32kg\;m^{-2}day^{-1})$ 이였다. Site A 가두리양식장 중심의 저층 퇴적물의 ORP, AVS, COD, 탄소 및 질소 농도는 각각 -334.6mV, $0.43mg\;g^{-1}dry,\;17.75mg\;g^{-l}dry,\;10.19mg\;g^{-1}dry$ 및 $3.49mg\;g^{-1}dry$ 였다. 저서동물은 Capitella capitata가 $57.8\%$로 우점하였고, Infaunal Trophical Index(ITI)는 가두리 가장자리에서 20m 거리 내까지 20 이하로 나타났다. 트랩조사 결과 Site A의 고형물 침강량은 0m에서 $34,485g\;m^{-2}yr^{-1}$, 42m지점에서 $18,915g\;m^{-2}yr^{-1}$침강하는 것으로 나타났다 모델 예측 결과 Site A의 사료 미섭이율은 $40\%$, 연간 고형물 침강량은 63,401 kg으로 연간 사료 급이량의 $24.4\%$이고, 고형물 침강 면적은 $8,450m^2$으로 가두리 시설 면적의 16배인 것으로 예측되었다. ITI와 저서동물의 풍도를 통한 Site A의 지속 가능한 고형물 침강량은 $10,000g\;m^{-2}yr^{-1}$ 이하 인 것으로 예측되었다. 가두리양식장에서 고형물 침강량의 주 요인은 높은 미섭이율이고, 고형물 침강량을 최소화 하기 위해서는 사료 섭이효율을 높여주어야 한다. 모델에 따르면 미섭이율을 $40\%$에서 $10\%$로 줄이면 고형물 침강량이 1/2 수준으로 감소되는 것으로 예측되었고, 습사료, 생사료의 사용 대신에 배합사료(EP)를 사용할 경우 $57\%$정도 침강량이 감소하는 것으로 나타났다. 또한 가두리양식장의 허가면적에 대한 시설 면적비는 $5\%$미만이 적정한 것으로 판단된다.
The atmospheric deposition flux was measured with dustfall from July of 1997 to July of 1998 at nine sampling sites located in Tae-an peninsula to examine the seasonal variations. The results showed that the average dry deposition was higher in spring than the other seasons. Thus, it is considered that yellow sand is one major source of the additional deposition flux in spring. There also appeared the higher measurement of deposition at the sites nearby road (like Hagampo, Bangali and Sinduri) in summer, and it is assumed that the heavy traffic caused by summer visitors was the main factor of that. For more accurate study, the qualitiative analysis should be taken on the deposited materials.
Adsorption and desorption of toluene from bare and $TiO_2$-coated silica with a mean pore size of 15 nm was studied using breakthrough curves and temperature programmed desorption. Thicknesses of $TiO_2$ films prepared by atomic layer deposition on silica were < 2 nm, and ~ 5 nm, respectively. For toluene adsorption, both dry and humid conditions were used. $TiO_2$-thin film significantly improved toluene adsorption capacity of silica under dry condition, whereas desorption of toluene from the surface as a consequence of displacement by water vapor was more pronounced for $TiO_2$-coated samples with respect to the result of bare ones. In the TPD experiments, silica with a thinner $TiO_2$ film (thickness < 2 nm) showed the highest reactivity for toluene oxidation to $CO_2$ in the absence and presence of water. We show that the toluene adsorption and oxidation reactivity of silica can be controlled by varying thickness of $TiO_2$ thin films.
To develop cleaning process various particles should be deposited on wafer surfaces to measure particle removal efficiencies. The purpose of the article in to evaluate, removal efficient)r of silica and alumina particles from wafer surfaces when they are deposited by dry and wet method. Dry deposition in air and wet spray deposition using solutions are used. van der Waals are considered to calculate the adhesion force of particles on surfaces. Higher adhesion force is measured on alumina particles on silicon when particles are deposited in air.
In order to obtain the oxidation layer for SiC MOS, the oxide layers by thermal oxidation process with dry and wet method were deposited and characterized. Deposition temperature for oxidation layer was $1100^{\circ}C$~130$0^{\circ}C$ by $O_2$ and Ar atmosphere. The oxide thickness, surface morphology, and interface characteristic of deposited oxide layers were measurement by ellipsometer, SEM, TEM, AFM, and SIMS. Thickness of oxidation layer was confirmed 50nm and 90nm to with deposition temperature at $1150^{\circ}C$ and $1200{\circ}C$ for dry 4 hours and wet 1 hour, respectively. For the high purity oxidation layer, the necessity of sacrificial oxidation which is etched for the removal of the defeats on the wafer after quickly thermal oxidation was confirmed.
CH4/CO2 dry reforming was carried out to make syn gas on the Ni/Al2O3 catalysts calcined at different temperatures. The Ni/Al2O3 (850 $^{\circ}C)$ catalyst gave good activity and stability w hereas the Ni/Al2O3 $(450^{\circ}C)$ catalyst showed lower activity and stability. The NiO/Al2O3 catalyst calcined at $850^{\circ}C$ for 16 h (Ni/Al2O3 $(850^{\circ}C))$ formed the spinel structure of nickel aluminate, which was confirmed by TPR. The carbon formation rate on the Ni/Al2O3 $(850^{\circ}C)$ catalyst was very low till 20 h, and then steeply increased with reaction time without decreasing the activity for CH4 reforming. The Ni/Al2O3 $(450^{\circ}C)$ catalyst showed high carbon formation rate at the initial reaction time and then, the rate nearly stopped with continuous decreasing the activity for CH4 reforming. Even though the amount of carbon deposition on the Ni/Al2O3 $(850^{\circ}C)$ catalyst was higher than that on the Ni/Al2O3 $(450^{\circ}C)$ catalyst, the activity for CH4ing was also high, which could be attributed to the different type of the carbon formed on the catalyst surface.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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