• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1998년도 하계학술대회 논문집 D
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• pp.1249-1251
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• 1998

We have studied the properties of $GaAs_{0.35}P_{0.65}$ epitaxial films on the GaP according to doping of $NH_3$ gas using VPE method by CVD. The efficiency of $GaAs_{0.35}P_{0.65}$ epitaxial films found to be greatly enhanced by the according of nitrogen doping. The diodes were fabricated by means of Zn diffusion into vapor grown $GaAs_{0.35}P_{0.65}$ epitaxial films doped with N and Te. The effects of nitrogen doping on carrier density of epitaxial films, PL wavelength and the power out, forward voltage of diodes are discussed. In the end, The effect of electrical and optical properties is influenced by the deep level and deep level density of nitrogen doping.

• Applied Science and Convergence Technology
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• 제24권6호
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• pp.268-272
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• 2015

We report the systematic study to reduce extrinsic doping in graphene grown by chemical vapor deposition (CVD). To investigate the effect of crystallinity of graphene on the extent of the extrinsic doping, graphene samples with different levels of crystal quality: poly-crystalline and single-crystalline graphene (PCG and SCG), are employed. The graphene suspended in air is almost undoped regardless of its crystallinity, whereas graphene placed on an $SiO_2/Si$ substrate is spontaneously p-doped. The extent of p-doping from the $SiO_2$ substrate in SCG is slightly lower than that in PCG, implying that the defects in graphene play roles in charge transfer. However, after annealing treatment, both PCG and SCG are heavily p-doped due to increased interaction with the underlying substrate. Extrinsic doping dramatically decreases after annealing treatment when PCG and SCG are placed on the top of hexagonal boron nitride (h-BN) substrate, confirming that h-BN is the ideal substrate for reducing extrinsic doping in CVD graphene.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.459-459
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• 2013

Si (111) 기판 위에 plasma assisted molecular beam epitaxy 법으로 Si과 Mg doping된 GaN 나노막대를 각 각 성장하고 나노막대의 모양과 광학적 특성을 조사하였다. Si이 doping된 GaN 나노막대는 biaxial m-plane 방향의 변화로 별 모양을 갖는 것을 관찰하였고 Mg doping된 GaN 나노막대의 지름은 줄어드는 것을 scanning electron microscopy로 확인하였다. 본 연구에서는 이러한 변화의 원인을 stress 때문으로 보고 x-ray diffraction과 raman scattering 측정을 통하여 구조적 변화를 조사하였다. 또한, stress에 의한 GaN 나노막대의광학적 특성 변화를 photoluminescence을 통하여 조사하였다. Doping한 GaN 나노막대의 특성조사를 통해 GaN 나노막대 성장 시 발생되는 stress의 영향을 이해하는데 중요한 정보를 제공할 것이다.

• E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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• 제7권3호
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• pp.206-212
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• 1994

In this paper, We discuss the $POCI_3$ doping process according to the variation of deposition temperature, gas flow rate and doping time. The factors acted with $POCI_3$ doping are gas flow rate deposition temperature and time etc. Among them the temperature is the most important factor. For the $POCI_3$ flow rate, it should not exceed the resistivity saturation point developed on poly surface by annealing treatment. Therefore, this study suggests the optimum conditions of Poly-silicon treatments with the $POCI_3$ flow rate.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 1999년도 추계학술대회 논문집
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• pp.217-220
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• 1999

We investigated the effects of doping elements on the Bi-Sr-Ca-Cu-0 ceramics. The doping elements can be classified into groups depending on their supeconducting characteristics in the Bi -Sr-Ca-Cu -O structure. The first group of doping elements(Co, Fe, Ni and Zn) substitute into the copper site and can reduce the critical temperatures of the 2223 and 2212 phases. The second group of doping elements(Y and La) substitute into the Ca site and cause the disappearance of the 2223 phase and increase the critical temperatures in the 2212 phase.

• 한국진공학회지
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• 제4권S2호
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• pp.34-39
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• 1995

we have studied the possibility of n-type doping in diamond and DLC films. After ion doping of either p-type or n-type, the electrical conductivities were remarkably increased and conductivity activation energies were decreased. The Raman intensity at 1330 cm-1 decreases slightly by ion doping of $7.2\times 10^{16}\; \textrm{cm}^{-2}$. The increase in conductivity by ion doping appears to be arised from the combined effects by substitutional doping and graphitization by ion damage.

• Archives of Pharmacal Research
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• 제19권4호
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• pp.251-257
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• 1996

The detection of many synthetic chemicals used in industry that may pose a genetic hazard in our environment is subject of great concern at present. In this respect, the genetic toxicity of fenpropathrin ((RS)-.alpha.-cyano-3-phenoxybenzyl-2,2,3,3-tetramethyl cyclopropane carboxylate, CAS No.:39514-41-8), a pyrethroid insecticide, was evaluated in bacterial gene mutation system, chromosome aberration in mammalian cell system and in vivo micronucleus assay with rodents. In bacterial gene mutation assay, no mutagenicity of fenpropathrin (62-$5000\mug/plate$) was observed in Salmonella typhimurium TA 98, 100, 1535 and 1537 both in the absence and in the presence of S-9 metabolic activaton system. In mammalian cell system using chinese hamster lung fibroblast, no clastogenicity of fenpropathrin was also observed both in the absence and in the presence of metabolic activation system in the concentration range of $7-28\mug/ml$. And also, in vivo micronucleus assay using mouse bone marrow cells, fenpropathrin also revealed no mutagenic potential in the dose range of 27-105 mg/kg body weight of fenpropathrin (i.p.). Consequently, no mutagenic potential of fenpropathrin was observed in vitro bacterial, mammalian mutagenicity systems and in vivo micronucleus assay in the dose ranges used in this experiment.

• 한국정보통신학회논문지
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• 제19권4호
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• pp.903-908
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• 2015

본 연구에서는 비대칭 이중게이트(double gate; DG) MOSFET의 채널 내 도핑분포함수의 변화에 따른 문턱전압이동 현상에 대하여 분석하였다. 반도체소자를 도핑시킬 때는 주로 이온주입법을 사용하며 이때 분포함수는 가우스분포를 나타내고 있다. 가우스분포함수는 이온주입범위 및 분포편차에 따라 형태를 달리하며 이에 따라 전송특성도 변화하게 된다. 그러므로 비대칭 DGMOSFET의 채널 내 도핑분포함수의 변화는 문턱전압에 영향을 미칠 것이다. 문턱전압은 트랜지스터가 동작하는 최소한의 게이트전압이므로 단위폭 당 드레인 전류가 $0.1{\mu}A$ 흐를 때 상단 게이트전압으로 정의하였다. 문턱전압을 구하기 위하여 해석학적 전위분포를 포아송방정식으로부터 급수형태로 유도하였다. 결과적으로 도핑농도가 증가하면 도핑분포함수에 따라 문턱전압은 크게 변하였으며 특히, 고 도핑 영역에서 하단 게이트전압에 따라 이온주입범위 및 분포편차에 의한 문턱전압의 변화가 크게 나타나는 것을 알 수 있었다.

• 신재생에너지
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• 제9권2호
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• pp.23-29
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• 2013

Furnace and laser is currently the most important doping process. However furnace is typically difficult appling for selective emitters. Laser requires an expensive equipment and induces a structural damage due to high temperature using laser. This study has developed a new atmospheric pressure plasma source and research atmospheric pressure plasma doping. Atmospheric pressure plasma source injected Ar gas is applied a low frequency (a few 10 kHz) and discharged the plasma. We used P type silicon wafers of solar cell. We set the doping parameter that plasma treatment time was 6s and 30s, and the current of making the plasma is 70 mA and 120 mA. As result of experiment, prolonged plasma process time and highly plasma current occur deeper doping depth and improve sheet resistance. We investigated doping profile of phosphorus paste by SIMS (Secondary Ion Mass Spectroscopy) and obtained the sheet resistance using generally formula. Additionally, grasped the wafer surface image with SEM (Scanning Electron Microscopy) to investigate surface damage of doped wafer. Therefore we confirm the possibility making the selective emitter of solar cell applied atmospheric pressure plasma doping with phosphorus paste.

• 디지털융복합연구
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• 제17권5호
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• pp.391-398
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• 2019

본 연구는 육상의 세부종목에 따라 성별, 나이범주, 운동경력, 금지약물에 대한 정보 및 교육 여부, 완벽주의성향 및 지각된 동기 분위기가 도핑에 대한 태도에 미치는 영향을 확인하여 육상선수에게 특성화된 도핑예방프로그램 개발에 유용한 정보를 제공하고자 한다. 172명의 국내 육상선수를 대상으로 설문지를 통해 인구통계학적 특성과 도핑정보 관련 질문, 도핑에 대한 태도, 완벽주의성향 및 지각된 동기 분위기에 대한 자료를 수집하였고, 각 요인 중 도핑에 대한 태도에 관한 영향요인을 탐색하기 위해 단계적 다중회귀분석을 실시하였다. 그 결과, 필드종목과 트랙종목의 성인선수는 청소년선수에 비해 도핑에 대한 태도에 더 허용적인 것으로 확인되었고, 트랙종목 선수의 경우에는 완벽주의성향의 하위요인 중 코치의 비판을 더 큰 의미로 받아들일수록 도핑에 대해 더 허용적인 태도를 보이는 반면, 개인적 기준이 중요할수록 도핑에 대해 더 억압적인 태도를 보였다. 이러한 결과는 육상의 세부종목의 특성을 고려한 반도핑 전략 마련에 있어 유용한 정보가 될 것으로 생각된다.