• 제목/요약/키워드: DDR4 SDRAM

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안티-바운드리 스위칭 디지털 지연고정루프 (An Anti-Boundary Switching Digital Delay-Locked Loop)

  • 윤준섭;김종선
    • 전기전자학회논문지
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    • 제21권4호
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    • pp.416-419
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    • 2017
  • 본 논문에서는 고속 DDR3/DDR4 SDRAM을 위한 새로운 디지털 지연고정루프 (delay-locked loop: DLL)를 제안한다. 제안하는 디지털 DLL은 디지털 지연라인의 boundary switching 문제에 의한 jitter 증가 문제를 제거하기 위하여 위상보간 (phase interpolation) 방식의 파인지연라인 (fine delay line)을 채택하였다. 또한, 제안하는 디지털 DLL은 harmonic lock 문제를 제거하기 위하여 새로운 점진직 검색 (gradual search) 알고리즘을 사용한다. 제안하는 디지털 DLL은 1.1V, 38-nm CMOS DRAM 공정으로 설계되었으며, 0.25-2.0 GHz의 주파수 동작 영역을 가진다. 2.0 GHz에서 1.1 ps의 피크-투-피크 (p-p) 지터를 가지며, 약 13 mW의 전력소모를 가진다.

Heavy-Ion Radiation Characteristics of DDR2 Synchronous Dynamic Random Access Memory Fabricated in 56 nm Technology

  • Ryu, Kwang-Sun;Park, Mi-Young;Chae, Jang-Soo;Lee, In;Uchihori, Yukio;Kitamura, Hisashi;Takashima, Takeshi
    • Journal of Astronomy and Space Sciences
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    • 제29권3호
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    • pp.315-320
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    • 2012
  • We developed a mass-memory chip by staking 1 Gbit double data rate 2 (DDR2) synchronous dynamic random access memory (SDRAM) memory core up to 4 Gbit storage for future satellite missions which require large storage for data collected during the mission execution. To investigate the resistance of the chip to the space radiation environment, we have performed heavy-ion-driven single event experiments using Heavy Ion Medical Accelerator in Chiba medium energy beam line. The radiation characteristics are presented for the DDR2 SDRAM (K4T1G164QE) fabricated in 56 nm technology. The statistical analyses and comparisons of the characteristics of chips fabricated with previous technologies are presented. The cross-section values for various single event categories were derived up to ~80 $MeVcm^2/mg$. Our comparison of the DDR2 SDRAM, which was fabricated in 56 nm technology node, with previous technologies, implies that the increased degree of integration causes the memory chip to become vulnerable to single-event functional interrupt, but resistant to single-event latch-up.

Inter-Pin Skew Compensation Scheme for 3.2-Gb/s/pin Parallel Interface

  • Lee, Jang-Woo;Kim, Hong-Jung;Nam, Young-Jin;Yoo, Chang-Sik
    • JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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    • 제10권1호
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    • pp.45-48
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    • 2010
  • An inter-pin skew compensation scheme is proposed, which minimizes the inter-pin skew of parallel interface induced by unequal trace length and loading of printed circuit board (PCB). The proposed scheme measures the inter-pin skew and compensates during power-up with simple hardware. The proposed scheme is applied to 3.2-Gb/s/pin DDR4 SDRAM and implemented in a 0.18 m CMOS process. The inter-pin skew is compensated in 324-cycles of 400-MHz clock and the skew is compensated to be less than 24-ps.

고속 SDRAM에서 실시간 Matrix형 CRC (Real-time Matrix type CRC in High-Speed SDRAM)

  • 이중호
    • 전기전자학회논문지
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    • 제18권4호
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    • pp.509-516
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    • 2014
  • 고속동작용 반도체 메모리 제품에 추가된 CRC는 DDR4와 같은 제품에서 데이타의 신뢰도를 증가시킨다. 기존의 CRC 방식은 부가회로 면적이 커고 많은 지연시간이 발생되어, CRC 계산을 위한 내부 타이밍 마진의 부족을 유발한다. 따라서 메모리 제품 설계에서 데이터 입출력 설계에 심각한 문제를 유발한다. 본 논문에서는 오류검출 회로설계를 위한 CRC 코드 방식을 제시하고, 실시간 matrix형 CRC 방법을 제안하였다. 데이터 비트오류 발생시 오류여부를 실시간으로 시스템에 피드백(feedback) 가능하도록 하였다. 제안한 방식은 기존방식(XOR 6단, ATM-8 HEC코드)대비 부가회로 면적을 60% 개선할 수 있으며, XOR 단 지연시간을 33%개선 할 수 있다. 또한 실시간 에러 검출 방식은 전체 데이터 비트(UI0~UI9)에 대해 평균 50% 이상 오류 검출 속도를 향상시켰다.

차세대 저 전압, 고속 동작 요구에 대응하는 대용량 메모리의 개발 (A High Density Memory Device for Next Generation Low-Voltage and High-Speed Operations)

  • 윤홍일;이현석;유형식;천기철
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2000년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.3-5
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    • 2000
  • 1.8V,4Gb DDR SDRAM설계 및 제작을 수행하였다. DRAM동작 시 발생하는 Bit Line간 CouplingNoise를 보상하기 위한 Twisted Open Bit Line 구조를 제안하였다. Low Voltage Operation으로 인한 Bit Line Sense Amplifier 의 동작 저하를 보상하기 위한 BL S/A Pre-Sensing 방식 및 Reference Bit Line Voltage Calibration 구조를 제안하였다. Chip면적 증가로 인한 동작속도 감소의 보상을 위해 Repeater Driver 구조를 Core 및 Periphery Circuit에 적용하여 동작 대비 Chip 면적의 증가를 최소화 하도록 하였다.

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