The magnetoelectric (ME) characteristics for Terfenol-D/PZT laminate composite dependence on bias magnetic field is investigated. At low frequency, ME response is determined by the piezomagnetic coefficient $d_{33,m}$ and the elastic compliance $s_{33}^H$ of magnetostrictive material, $d_{33,m}$ and $s_{33}^H$ for Terfenol-D are inherently nonlinear and dependent on $H_{dc}$, leading to the influence of $H_{dc}$ on low-frequency ME voltage coefficient. At resonance, the mechanical quality factor $Q_m$ dependences on $H_{dc}$ results in the differences between the low-frequency and resonant ME voltage coefficient with $H_{dc}$. In terms of ${\Delta}E$ effect, the resonant frequency shift is derived with respect to the bias magnetic field. Considering the nonlinear effect of magnetostrictive material and $Q_m$ dependence on $H_{dc}$c, it predicts the low-frequency and resonant ME voltage coefficients as a function of the dc bias magnetic field. A good agreement between the theoretical results and experimental data is obtained and it is found that ME characteristics dependence on $H_{dc}$ are mainly influenced by the nonlinear effect of magnetostrictive material.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제12권5호
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pp.197-199
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2011
In this paper, the bottom-gate thin-film transistors (TFTs) were fabricated with an amorphous/microcrystalline Si double layer (DL) as an active layer and the variations of the electrical characteristics were investigated according to the DC bias stresses. Since the fabrication process of DL TFTs was identical to that of the conventional amorphous Si (a-Si) TFTs, it creates no additional manufacturing cost. Moreover, the amorphous/microcrystalline Si DL could possibly improve stability and mass production efficiency. Although the field effect mobility of the typical DL TFTs is similar to that of a-Si TFTs, the DL TFTs had a higher reliability with respect to the direct current (DC) bias stresses.
Hydrothermal synthesis technique could be carried out for growth of ZnO nanowires at relatively low process temperature, and it could be freely utilized with various substrates for fabrication process of functional electronic devices. However, it has also a demerit of relatively slow growth characteristics of the resulting ZnO nanowires. In this paper, an external DC bias of positive and negative 0.5 [V] was applied in the hydrothermal synthesis process for 2~8 [h] to prepare ZnO nanowires on a seed layer of AZO with high electrical conductivity. Growth characteristics of the synthesized ZnO nanowires were analyzed by FE-SEM. Material property of the grown ZnO nanowires was examined by PL analysis. The ZnO nanowires grown with positive bias revealed distinctively enhanced growth characteristics, and they showed a typical material property of ZnO.
In order to study the AC driving mechanism for OLED lighting, the fluorescent OLEDs were fabricated and the electroluminescent characteristics of the OLEDs by AC forward bias were analyzed. In the case of the driving method of OLED by AC forward bias under the same voltage and the same current density, degradation of luminescent characteristics for elapsed time progressed faster than in the case of the driving method by DC bias. These phenomena were caused by the peak voltage of AC forward bias which is ${\sqrt{2}}$ times higher than the DC voltage. In addition, the degradation of the OLED was accelerated because the AC forward bias had come close to the upper limit of the allowable voltage range even though the peak voltage didn't exceed the allowable range of the OLED. However, the fabricated fluorescent OLED showed little degradation of OLED characteristics due to AC forward bias from 0 V to 6.04 V. Therefore, OLED lighting by AC driving will become commercialized if sufficient luminance is realized at a voltage at which the characteristics of the OLED are not degradation by the AC driving method.
Numerical analysis is done to investigate the effects of pulse bias on the plasma processing characteristics like ion doping and ion nitriding by using fluid dynamic code with a 2D axi-symmetric model. For 10 mTorr of Ar plasma, -1 kV of pulse bias was simulated. Maximum sheath thickness was around 20 mm based on the electric potential profile. The peak electron temperature was about 20 eV, but did not affect the averaged plasma characteristics of the whole chamber. Maximum ion current density incident on the substrate was 200 $A/m^2$ at the center, but was decreased down to 1/10th at radius 100 mm, giving poor radial uniformity.
In this paper Li-polyer batteries, which are in use of EV recently, are used. The Li-polymer batteries have high density of energy and invulnerability of the fluids and explosion. It is confirmed that the DC-bias pulse mode/cc mode characteristics on charge by designing Fast-charging system designed in three phase PWM and full-bridge converter.
The Hydrogenated amorphous carbon(a-C:H) thin films are deposited on silicon with a close field unbalanced magnetron(CFUBM) sputtering systems. The experimental data are obtained on the depositon rate and physical properties of a-C:H films using DC bias voltage and Ar/C$_2$H$_2$ pressure. The depostion rate and the surface roughness decrease with DC bias voltage, but the hardness of the thin films increases with DC bias voltage. And the position of G-peak moves to lower wavenumber indicating an increase in diamond-like carbon characteristics with the lower Ar/C$_2$H$_2$ pressure.
We present a new electrostatic repulsive-force microactuator using a lateral repulsive force induced by an asymmetric distribution of electrostatic field. The lateral repulsive force has been characterized by a simple analytical equation, derived from a finite element simulation. A set of repulsive force polysilicon microactuators has been designed and fabricated by a 4-mask surface-micromachining process. Static and dynamic micromechanical behavior of the fabricated microactuators has been measured at the atmospheric pressure for a varying bias voltage. The static displacement of the fabricated microactuator, proportional to the square of the DC bias voltage, is obtained as 1.27 $\mu\textrm{m}$ for the DC bias voltage of 140V. The resonant frequency of the repulsive-force microactuator increases from 11.7 kHz to 12.7 kHz when the DC bias voltage increases from 60V to 140V. The measured quality-factor varies from 12 to 13 for the bias volatge range of 60V∼140V. The characteristics of the electrostatic repulsive-force have been discussed and compared and compared with those of the conventional electrostatic attractive-force.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제9권6호
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pp.260-264
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2008
The operational characteristics of superconducting amplifier using vortex flux flow were analyzed from an equivalent circuit in which its current-voltage characteristics for the vortex motion in YBCO microbridge were reflected. For the analysis of operation as an amplifier, dc bias operational point for the superconducting amplifier is determined and then ac operational characteristics for the designed superconducting amplifier were investigated. The variation of transresistance, which describes the operational characteristics of superconducting amplifier, was estimated with respect to conditions of dc bias. The current and the voltage gains, which can be derived from the circuit for small signal analysis, were calculated at each operational point and compared with the results obtained from the numerical analysis for the small signal circuit. From our paper, the characteristics of amplification for superconducting flux flow transistor (SFFT) could be confirmed. The development of the superconducting amplifier applicable to various devices is expected.
In this work, we carried out the variation of surface characteristics of organic polymer films by O2 plasma. The plasma diagnostics were performed by DLP(Double Langmuir Probe) and OES(Optical Emission Spectroscopy) measurements. Moreover, variation of surface characteristics were measured by AFM(Atomic Force Microscope), XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy), and contact angle goniometer. It was found that the etch rate of organic films was controlled by O radicals flux and dc bias voltage. And O radical density and dc bias voltage increased with increasing bias power. So, it was changed surface energy as a function of surface roughness and O/C ratio in organic films.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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