• 제목/요약/키워드: Bias Flow

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고빈도 진동 환기가 동맥혈의 호흡성 가스에 미치는 영향 (Factors influencing arterial $CO_2$ tension in cats during high frequency oscillation ventilation)

  • 도준영;이재익;이관호;김영조;정재천;이현우;이석강
    • Journal of Yeungnam Medical Science
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    • 제6권2호
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    • pp.47-55
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    • 1989
  • 고빈도 진동환기가 동맥혈의 가스분압에 미치는 영향을 알아보고자 저자들은 9마리의 고양이를 대상으로 진동빈도, 일회분출량 및 bias flow를 다양하게 변화시켜 아래와 같은 결과를 얻었다. 1) 일회분출량과 bias flow를 고정시킨 후 진동빈도를 점차 증가시켜 도 $PaCO_2$의 변동은 없었다(Table 1). 2) 진동빈도를 고정시킨 후 일회분출량과 bias flow를 변화시켜 관찰하였던 바 $PaCO_2$는 bias flow의 변화와는 상관관계가 없으나, 일회분출량의 변화와는 유의한 상관관계가 있었다(p<0.01)(Table 2, Fig. 1). 3) $PaCO_2$는 진동빈도를 15Hz로 고정시킨 상태하에서는 1회 분출량 및 bias flow를 증가시켜도 큰 변동없이 정상으로 유지되었다(Table 2). 이상의 결과로 고빈도 진동환기법에서 $PaCO_2$의 결정인자는 진동빈도와 bias flow와는 무관하였고 일회분출량과는 상관관계가 있음을 알 수 있었다.

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덕트 및 원탄 선별망 유동 편향에 관한 연구 (Study on Flow Deflection of Duct and Raw Coal Separation Screen )

  • 임세명;박현범
    • 항공우주시스템공학회지
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    • 제17권4호
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    • pp.28-33
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    • 2023
  • 본 연구에서는 전산유동해석을 통해 송풍기에서 공급되는 공기가 덕트 배관과 원탄 선별망을 통과하며 발생하는 유동 편향을 분석하였다. 공기 유동의 유동 편향은 송풍기 볼류트 형상과 유로의 형상 특성으로부터 대부분 발생하며, 유로 내부의 정류망이나 출구의 원탄 선별망은 강력한 압력 손실을 발생시켜 유동 편향을 감쇠하는 효과를 초래한다. 전산유동해석은 ANSYS CFX 2022 R2를 사용하였으며, 정류망과 원탄 선별망은 작은 구멍 다수가 일정하게 분포되어있는 타공판 형상이기 때문에 실제 모델링을 통한 해석은 불가능하다. 따라서 Porous Loss Model을 적용하였다. 유동 편향의 평가는 전산유동해석 결과의 원탄 선별망 Porous Loss Model의 출구 면에 대한 속도 분포를 대상으로 분석하였다.

Arc Vapor Ion Deposition 법으로 제조된 TiN 피막의 내마모성에 관한 연구 (A Study on Wear Resistance of TiN Films Prepared by Arc Vapor Ion Deposition Process)

  • 신현식;한전건;장현구;고광진
    • 한국표면공학회지
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    • 제27권1호
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    • pp.36-44
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    • 1994
  • The TiN films were deposited on the stainless substrates using arc vapor ion deposition process to in-vestigated the wear resistance. Pin-on-disc tests were performed to measure the volume wear loss of TiN films. The substrate bias voltages and nitrogen flow rates were selected as the deposition parameters of TiN films. It was found that the wear resistance of TiN films was enhanced with increasing bias voltages(0~-300 V) and nitrogen flow rates(220~380 SCCM). The volume wear loss TiN films were about 9.5~2.1$\times$$10^{-3}mm^3$ and 3.5~2.2$\times$$10^{-3}mm^3$ with bias voltages and nitrogen flow rates, respectively.

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스치는 유동과 관통 유동의 영향을 고려한 천공 요소의 음향 임피던스 모델 (Acoustic impedance model of perforated elements with both grazing and bias flow)

  • 이성현;이정권
    • 한국소음진동공학회:학술대회논문집
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    • 한국소음진동공학회 2006년도 춘계학술대회논문집
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    • pp.1372-1375
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    • 2006
  • The simplified impedance model which can consider a combined flow condition was suggested. Although the strength and position of the shear layer cannot be obtained by a linear sum of two separate contributions when both flows occur together, it was simply assumed that the impedance under the combined flow follows from summing the separate flow impedance. To validate the simplified impedance model, acoustic properties of a concentric resonator was predicted and measured. The predicted transmission loss using the simplified model shows reasonable agreements with measurements. One can find that the simplified impedance model obtained by the superposition of the separate flow impedances can be adjusted to predict the acoustic properties of a concentric resonator.

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Cl2/HBr/O2 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성 (Characteristics of Amorphous Silicon Gate Etching in Cl2/HBr/O2 High Density Plasma)

  • 이원규
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • 제47권1호
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    • pp.79-83
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    • 2009
  • 본 연구에서 고밀도 플라즈마 식각 장치를 사용한 비정질 실리콘 막의 게이트 전극선 형성공정에서 여러 가지 식각 변수가 치수 제어와 식각 속도 및 식각 선택비 등 식각 특성에 미치는 영향을 분석하였다. $Cl_2/HBr/O_2$로 구성된 식각 기체의 전체 유량을 증가시키면 비정질 실리콘의 식각 속도가 증가하나 식각 전후의 형상치수는 변화없이 거의 일정하였다. 전체 유량을 고정시키고 $Cl_2$와 HBr 간의 유량비를 변화시키면 HBr의 유량이 커질수록 비정질 실리콘의 식각 속도가 감소하였다. $O_2$의 유량을 증가시키면 산화막의 식각 속도가 상대적으로 낮아져 식각 선택비를 증가시켜 식각 공정의 안정성을 높이나 게이트 전극선을 경사지게 하는 특성을 보인다. Source power의 증가는 비정질 실리콘 식각 속도의 증가와 더불어 형상치수의 증가를 가져오며, bias power의 증가는 비정질 실리콘과 산화막의 식각 속도를 증가시키나 식각 선택비를 크게 감소시키는 경향을 보였다.

Operational Characteristics of Superconducting Amplifier using Vortex Flux Flow

  • Lim, Sung-Hun
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제9권6호
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    • pp.260-264
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    • 2008
  • The operational characteristics of superconducting amplifier using vortex flux flow were analyzed from an equivalent circuit in which its current-voltage characteristics for the vortex motion in YBCO microbridge were reflected. For the analysis of operation as an amplifier, dc bias operational point for the superconducting amplifier is determined and then ac operational characteristics for the designed superconducting amplifier were investigated. The variation of transresistance, which describes the operational characteristics of superconducting amplifier, was estimated with respect to conditions of dc bias. The current and the voltage gains, which can be derived from the circuit for small signal analysis, were calculated at each operational point and compared with the results obtained from the numerical analysis for the small signal circuit. From our paper, the characteristics of amplification for superconducting flux flow transistor (SFFT) could be confirmed. The development of the superconducting amplifier applicable to various devices is expected.

플라즈마 밀도와 기판의 기울임 정도에 따른 탄소나노튜브의 성장 (Synthesis of CNTs with Plasma Density and Tilt Degree of Substrate)

  • 최은창;김경욱;홍병유
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제22권7호
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    • pp.612-615
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    • 2009
  • We need to control the growth orientation of CNTs on a substrate for applications to various electric devices. Generally, the flow direction of feed gases and electric field between two electrode affect to growth orientations of CNTs. In this paper, we varied tilt degrees $(0^{\circ},\;20^{\circ},\;35^{\circ},\;50^{\circ},\;65^{\circ},\;90^{\circ})$ of substrates on a cathode and DC bias voltages (0, 500, 700 V) applied between two electrodes in order to change growth orientations of CNTs. We confirmed that tilt degrees of the substrate and variation of DC bias voltages affected to the shape and orientation of the grown CNTs on the substrate.

Satistical Analysis of SiO2 Contact Hole Etching in a Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching Reactor

  • Liu, Chunli;Shrauner, B.
    • Journal of Magnetics
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    • 제15권3호
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    • pp.132-137
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    • 2010
  • Plasma etching of $SiO_2$ contact holes was statistically analyzed by a fractional factorial experimental design. The analysis revealed the dependence of the etch rate and DC self-bias voltage on the input factors of the magnetically enhanced reactive ion etching reactor, including gas pressure, magnetic field, and the gas flow rates of $CHF_3$, $CF_4$, and Ar. Empirical models of the DC self-bias voltage and etch rate were obtained. The DC self-bias voltage was found to be determined mainly by the operating pressure and the magnetic field, and the etch rate was related mainly to the pressure and the flow rates of Ar and $CHF_3$.

RE-PECVD법에 의해 증착된 DLC박막의 결합 특성 (Bonding structure of the DLC films deposited by RE-PECVD)

  • 최봉근;신재혁;안종일;심광보
    • 한국결정성장학회지
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    • 제14권1호
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    • pp.27-32
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    • 2004
  • RF-PECVD 방법을 이용하여 DLC(diamond-like carbon)박막을 메탄-수소 가스 혼합비 및 바이어스 전압에 따라 실리콘 웨이퍼 위에 증착하였다. DLC 박막의 결합구조적 특성 및 기계적 성질은 FT-IR, Raman, 그리고 nano-indenter를 이용하여 평가하였다. 혼합가스내 메탄의 유량과 바이어스 전압이 증가함에 따라 증착속도가 증가하였다. 박막내 탄소의 $sp^3/sp^2$ 결합비와 경도는 반응가스내 수소의 유량 및 바이어스 전압이 증가함에 따라 증가하였다.

천정부착 랜드마크와 광류를 이용한 단일 카메라/관성 센서 융합 기반의 인공위성 지상시험장치의 위치 및 자세 추정 (Pose Estimation of Ground Test Bed using Ceiling Landmark and Optical Flow Based on Single Camera/IMU Fusion)

  • 신옥식;박찬국
    • 제어로봇시스템학회논문지
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    • 제18권1호
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    • pp.54-61
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    • 2012
  • In this paper, the pose estimation method for the satellite GTB (Ground Test Bed) using vision/MEMS IMU (Inertial Measurement Unit) integrated system is presented. The GTB for verifying a satellite system on the ground is similar to the mobile robot having thrusters and a reaction wheel as actuators and floating on the floor by compressed air. The EKF (Extended Kalman Filter) is also used for fusion of MEMS IMU and vision system that consists of a single camera and infrared LEDs that is ceiling landmarks. The fusion filter generally utilizes the position of feature points from the image as measurement. However, this method can cause position error due to the bias of MEMS IMU when the camera image is not obtained if the bias is not properly estimated through the filter. Therefore, it is proposed that the fusion method which uses the position of feature points and the velocity of the camera determined from optical flow of feature points. It is verified by experiments that the performance of the proposed method is robust to the bias of IMU compared to the method that uses only the position of feature points.