구리이온의 확산에 대한 IMD(Inter-Metal Dielectric)용 Low-k 물질인 SiOCH와 diffusion barrier Ta의 특성에 관한 연구
(A study of properties which the diffusion barrier Ta and IMD(Inter-Metal Dielectric) metrial SiOCH for $Cu^+$ ion diffusion)
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 2004년도 하계학술대회 논문집 C
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- pp.1697-1699
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- 2004