• 제목/요약/키워드: Aperture Size

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근접장 이진 홀로그램의 다중화, 다층화 및 병렬 저장 (Multiplexed, Stack-Wise, and Parallel Recording of Near-Field Binary Holograms)

  • 김경염;강진구;이병호
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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    • 제51권8호
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    • pp.382-389
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    • 2002
  • We present experimental results on the multiplexed and stack-wise recording of near-field holograms. Experiments on angular multiplexing show that the angular selectivity of near-field hologram is better than that of the conventional hologram. Experiments on stack-wise recording prove that near-fields originated from sub-diffraction-limit-size objects could be stored in a photorefractive crystal at 2mm apart from the crystal surface. In addition, to improve the data access and transfer time, a silicon nano-aperture array was introduced and applied to the recording of near-field holograms.

마이크로 사이즈 인출구경을 이용한 고휘도 이온빔 인출 시스템 개발 (Development of a High Brightness Ion Beam Extraction System using Micro-size Aperture)

  • 김윤재;박동희;정형설;황용석
    • 한국공작기계학회:학술대회논문집
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    • 한국공작기계학회 2005년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.19-23
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    • 2005
  • In order to develop a high brightness ion source using plasma, the ion beam extraction system with an aperture of $100{\mu}m$ in diameter has been designed and constructed. It is observed that over 500nA of He ion beam current can be extracted. With such an optimized condition, $\~10^3\;A/cm^2sr$ beam brightness can be measured by emittance scanner, which is believed to be a promising result for developing next generation FIB.

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이중공진을 사용한 적층기판용 광대역 안테나 설계 (A Wide-band Multi-layer Antenna Design using Double Resonance)

  • 이국주;장미선;이정언;한명우;김문일
    • 전기학회논문지
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    • 제60권2호
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    • pp.431-434
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    • 2011
  • In this paper, bandwidth enhanced design of dielectric resonator antenna fabricated in multi-layer substrate is introduced. The proposed dielectric resonator antenna is operating with fundamental TE101 mode and higher-order TM111 mode. Each resonance frequency is dependent on resonator dimensions. As increasing the height of radiating aperture, the higher-order TM111 mode resonance frequency approach the fundamental TE101 mode resonance frequency and the antenna bandwidth increase by double resonance. Three different aperture height size antennas that operated at 7GHz are fabricated in FR4 multi-layer substrate. Measured 10 dB matching bandwidth is 8 percent for single resonace antenna and 18 percent for double resonance antenna.

BPM을 이용한 안테나 배열의 집속 빔 전파 해석 (A Calculation of the Propagation for Focused Beams Using BPM)

  • 김재흥;조춘식;이재욱
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제16권5호
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    • pp.465-471
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    • 2005
  • 본 논문에서는 빔 전파법(BPM: Beam Propagation Method)을 이용하여 안테나 배열에서 발생된 집속된 빔의 전파 또는 집속 현상을 파악하는 방법을 제시하였다. 대물 쪽(object side)으로 적응적 집속을 위해 로트맨 렌즈를 이용하는 경우에 대해 회절이론을 바탕으로 집속 현상을 이론적으로 고찰하였다. 이를 검증하기 위해 상용 EM simulation tool을 이용하여 분석하기에는 구조물의 복잡성과 집속된 빔의 입전 설정 등 몇 가지 어려움이 있기에 이의 차선책(alternative solution)으로 푸리에 회절 이론에 기초한 빔 전파법을 이용하여 집속 현상을 계산하는 방법인 BPM을 소개하였다. 즉, 개구면을 통한 빔 전파는 Fresnel Diffraction Integral(FDI)에서 푸리에 변환 형태로 표현될 수 있으며 이는 BPM으로 발전시켜 개구면 형(aperture-type) 안테나로부터 전파되는 파의 빔 폭(beam width or spot size), 세 기(intensity or gain), 그리고 실제 초점거리를 산출하였다. $10\lambda$의 배 열 크기를 갖는 안테나에 대해 $20\lambda,\;30\lambda$, 그리고 $50\lambda$의 기하 초점거리(geometrical fecal length)를 갖는 파에 대해 BPM을 통해 계산한 결과, 빔 폭은 차례로 1.1\lambda,\;1.3\lambda,\;1.9\lambda$이 산출되었다.

가상 확장된 배열 안테나를 이용한 근접 입사신호의 분해능 향상 기법 (Enhanced Resolution of Spatially Close Incoherent Sources using Virtually Expanded Arrays)

  • 김영수;강흥용;김창주
    • 한국항행학회논문지
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    • 제6권3호
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    • pp.181-187
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    • 2002
  • 본 논문에서는 임의 배열 안테나에 입사하는 협대역 인코히런트 신호의 도래각(DOA)을 추정하기 위한 분해능 향상 방안을 제시한다. 도래각 추정 알고리즘의 분해능은 배열 안테나의 크기에 의존하므로 배열 안테나의 크기를 증가시키면 분해능을 향상시킬 수 있지만, 실환경 하에서 배열 안테나의 물리적인 크기를 증가시키는 것은 실용적이지 못하다. 따라서 원 배열 안테나의 소자 간격을 가상적으로 확장시켜 크기가 서로 다른 가상 확장 배열 안테나들을 구성하고 이들의 공간 스펙트럼을 평균함으로서 분해능을 향상시키는 방안을 제안한다. 등간격 원형 배열 안테나에 입사된 인코히런트 신호에 표준 MUSIC 알고리즘과 제안 방식을 적용하여 제안 방식이 우수한 분해능 성능을 나타냄을 컴퓨터 시뮬레이션을 통하여 보였다.

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He-Cd 레이저와 근접장현미경을 이용한 폴리머박막 나노리소그라피 공정의 특성분석 (Characteristics of nanolithograpy process on polymer thin-film using near-field scanning optical microscope with a He-Cd laser)

  • 권상진;김필규;천채민;김동유;장원석;정성호
    • 한국레이저가공학회지
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    • 제7권3호
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    • pp.37-46
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    • 2004
  • The shape and size variations of the nanopatterns produced on a polymer film using a near-field scanning optical microscope(NSOM) are investigated with respect to the process variables. A cantilever type nanoprobe having a 100nm aperture at the apex of the pyramidal tip is used with the NSOM and a He-Cd laser at a wavelength of 442nm as the illumination source. Patterning characteristics are examined for different laser beam power at the entrance side of the aperture($P_{in}$), scan speed of the piezo stage(V), repeated scanning over the same pattern, and operation modes of the NSOM(DC and AC modes). The pattern size remained almost the same for equal linear energy density. Pattern size decreased for lower laser beam power and greater scan speed, leading to a minimum pattern width of around 50nm at $P_{in}=1.2{\mu}W\;and\;V=12{\mu}m/s$. Direct writing of an arbitrary pattern with a line width of about 150nm was demonstrated to verify the feasibility of this technique for nanomask fabrication. Application on high-density data storage is discussed.

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50nm급 불연속 나선형 패턴의 마스터 제작 (Fabrication of Master for a Spiral Pattern in the Order of 50nm)

  • 오승훈;최두선;제태진;정명영;유영은
    • 한국정밀공학회지
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    • 제25권4호
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    • pp.134-139
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    • 2008
  • A spirally arrayed nano-pattern is designed as a model pattern for the next generation optical storage media. The pattern consists off types of embossed rectangular dot, which are 50nm, 100nm, 150nm and 200nm in length and 50nm in width. The height of the dot is designed to be 50nm. The pitch of the spiral track of the pattern is 100nm. A ER(Electron resist) master for this pattern is fabricated by e-beam lithography process. The ER is first spin-coated to be 50nm thick on a Si wafer and then the model pattern is written on the coated ER layer by e-beam. After developing this pattern written wafer in the solution, a ER pattern master is fabricated. The most conventional e-beam machine can write patterns in orthogonal way, so we made our own pattern generator which can write the pattern in circular or spiral way. This program generates the patterns to be compatible with the e-beam machine from Raith(Raith 150). To fabricate 50nm pattern master precisely, a series of experiments were done including the design compensation for the pattern size, optimization of the dose, acceleration voltage, aperture size and developing. Through these experiments, we conclude that the higher accelerating voltages and smaller aperture size are better for mastering the nano pattern which is in order of 50nm. With the optimized e-beam lithography process, a spiral arrayed 50nm pattern master adopting PMMA resist was fabricated to have dimensional accuracy over 95% compared to the designed. Using this pattern master, a metal pattern stamp will be fabricated by Ni electro plating for injection molding of the patterned plastic substrate.

마이크로스트립 패치 안테나의 효율적 소형화 기법 (Simple Miniaturization Method of a Microstrip Patch Antenna)

  • 이병제;이호준;강기조;김남영;이종철;김종환
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제11권6호
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    • pp.920-928
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    • 2000
  • 본 논문은 tpo로이 제안된 안테나 소형화 기법을 이용하여 비교적 높은 이득과 광대역 특성을 지닌 마이크로 스트립 패치 안테나 (microstri patch antenna)를 개구 결합성 급전구조 (aperture coupled feed)를 이용하여 셀룰러 대역의 (824~894MHz) 중계기용으로 설계 및 제작되었다. 새로이 제안된 방법에서는 안테나의 크기를 줄이기 위하여 구형 마이크로스트립 패치 아테나의 TM01 모드의 전계분포를 이용하여 전계분포가 가장 큰 패치의 가장자리 아랫부분에 공진 패치의 길이 방향으로 유전체를 상빙하여 안테나의 크기를 효율적으로 줄이고 유전율이 높아짐으로써 발생되는 안테나의 이득 감소를 최소화 시킴과 동시에 소형 경량의 안테나를 쉽게 제작할수 있도록 설계 제작하였다. 또한 under-coupling 기법과 정합회로를 사용하여 셀룰러대역의 전대역에서 제작할 수 있도록 제작하였다. 또한 under-coupling 기법과 정합회로를 사용하여 셀룰러대역의 전 대역에서 VSWR이 1,5:1 이하가 되도록 설계하였다. 안테나 설계 툴 (Tool)은 Agilent Technologies사의 HFSS를 사용하였다.

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PHASE VARIATION IN DOPPLER SIGNAL FOR VARIOUS OPTICAL PARAMETERS

  • Son, Jung-Young;Kim, Myung-Sik;Oh, Myung-Kwan
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1989년도 하계종합학술대회 논문집
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    • pp.629-632
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    • 1989
  • The scattered light intensity from a spherical particle passing through the cross-over region of two coherent laser beams, varies periodically. Photodetection of this light beams produces a periodic signal of varying amplitude. The phase of the signal varies with the particle size and refractive index, the beam crossing angle and wavelength, and the position and size of the scattered ligth collecting aperture. In this paper the phase variation with respect to the particle absorptive index of retraction, collecting lens size and beam crossing angle is calculated using both Mie scattering theory and reflection theory. The two theories show good agreement in phase predictions, especially for large absorptive indices and for small collection lenses. Both theories predict phase to be inversely proportional to the beam crossing angle.

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다중경로 환경에서 DOA를 추정하기 위한 Forward/Backward First Order Statistics Algorithm (Forward/Backward First Order Statistics Algorithm for the estimation of DOA in a Multipath environment)

  • 김한수
    • 한국음향학회:학술대회논문집
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    • 한국음향학회 1998년도 학술발표대회 논문집 제17권 1호
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    • pp.221-224
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    • 1998
  • 간섭신호가 원하는 신호에 coherent한 경우에는 원하는 신호와 간섭신호간의 cross correlation에 의해 공분산 행렬의 rank가 줄어들게 되어 coherent한 간섭신호의 도래각을 추정할 수 없게 된다. 이러한 문제를 해결하기 위해 발표된 기존의 방법중 대칭 어레이(Symmetric array)방법은 계산량이 많아지고 공간 스무딩(Spatial Smoothing)방법은 array aperture size에서 손해를 보게 되어 분해능이 떨어지는 단점이 있다[1,2,3].

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