• Title/Summary/Keyword: 투과광

Search Result 1,175, Processing Time 0.031 seconds

Analysis of Effect of Fuel Additive on Soot Suppression Using Laser Scattering Technique (광 산란 기술을 이용한 연료 첨가제의 그을음 억제 효과 분석)

  • Seo, Hyoungseock;Kim, Kibum
    • Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
    • /
    • v.17 no.7
    • /
    • pp.204-210
    • /
    • 2016
  • This paper presents an experimental analysis of the growth and oxidation processes of soot particles generated in an isooctane diffusive laminar flame due to incomplete combustion. The effects of iron-based diagnostics were employed to measure the elastic scattering light from soot particles in a flame at different flame heights, and the differential scattering coefficients were calculated through a calibration process. The growth and oxidation of soot particles in flame was investigated by comparing differential scattering coefficients, and the soot volume fraction was seen to decrease in the soot oxidation process. In the same manner, the differential scattering coefficients were calculated for iron-based fuel-additive seeded flame, and these coefficients were revealed to be smaller than those obtained in the fuel-additive unseeded flame. In addition, transmission through the radial direction of the flame was measured, and transmission in the soot oxidation regime was approximately 5% higher for the seeded flame. The propensity of the data coincided well with the differential scattering coefficients, and it can be concluded that the iron component of the fuel additive plays a crucial role as a catalyst, which eventually enhanced soot particle oxidation.

A Study on Optical Characteristic of Nano Metal Grid Polarizer Film with Different Deposition Thicknes (나노 금속 격자형 편광필름 제작에서 증착 두께에 따른 광 특성 연구)

  • Kim, Jiwon;Cho, Sanguk;Jeong, Myung Yung
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
    • /
    • v.22 no.1
    • /
    • pp.63-67
    • /
    • 2015
  • In this study, we demonstrate the change of optical characteristic by thickness of metal deposition on nano metal grid polarizer film fabrication. Nano metal grid polarizer film consists of aluminium grid polarizer layer on PET (Polyethylene phthalate) substrate. We aim at metal grid layer formation for the large nano wire grid polarizer fabrication. we draw process conditions of the nano metal grid polarizer film fabrication to improve transmittance and extinction ratio and Nano wire grid polarizer film (NWGP) film is fabricated with 140 nm pitch, 70 nm width, and 70 nm depth of metal grid on optimum design conditions. As a result, we get high optical properties of nano wire grid polarizer which is the maximum transmittance of 80% and the extinction ratio of $10^6$ at 600 nm wavelength respectively.

Ray Tracing Method Based on Spectral Distribution for Reproducing a Realistic Image (실사영상 재현을 위한 분광분포 기반의 광선추적기법)

  • Lee Myong-Young;Lee Cheol-Hee;Lee Ho-Keun;Ha Yeong-Ho
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SP
    • /
    • v.41 no.1
    • /
    • pp.37-46
    • /
    • 2004
  • In this paper, we propose an improved reproduction algorithm for a realistic image of the real scene based on the spectral distribution of lights and objects. The proposed method for the realistic image is focused on a more accurate reproduction of an image incident on the sight of the viewer. At first, to reproduce an image accurately incident on a sight of viewer, we used the backward ray tracing method based on spectral distribution of object and illuminant representing its physical characteristic used in real. Next, we propose utilizing the improved shading model of the reproduction algorithm of realistic image by applying Bouguer-Beer's law to consider an optical absorptive property of transparent objects. We also define a new ambient light term which is considered the diffuse reflection of neighboring objects instead of constant ambient light. The simulation results show that the proposed algorithm can reproduce the visually similar image with a scene incident on a sight of viewer.

Optical Characteristics of Two New Functional Films and Their Effect on Leaf Vegetables Growth and Yield (2종류의 기능성필름이 광학특성과 엽채류 생육과 수량에 미치는 영향)

  • Kwon, Joon Kook;Khoshimkhujaev, Bekhzod;Park, Kyoung Sub;Choi, Hyo Gil;Lee, Jae-Han;Yu, In Ho
    • Journal of Bio-Environment Control
    • /
    • v.23 no.4
    • /
    • pp.314-320
    • /
    • 2014
  • Three leaf vegetables, namely green lettuce, red lettuce (Lactuca sativa) and red-veined chicory (Cichorium intybus) were grown in minigreenhouses covered with two new functional films and conventional polyethylene film (PE). Seedlings of leaf vegetables were transplanted in a plastic troughs filled with soil-perlite mixture. Two functional films were made from polyolefin (PO) material. Measurement of optical characteristics showed that polyolefin films have better transmittance for the photosynthetic active radiation (PAR, 400-700nm) and higher absorptance for the ultraviolet radiation (UV, 300-400nm) in comparison with the conventional PE film. After three months of utilization higher loss in PAR transmittance was observed for conventional PE film. Leaf vegetables growth was enhanced and yield was increased in greenhouses covered by new functional films.

Dependence of the Electrical and Optical Properties of CdS Thin Films on Substrate and Annealing Temperatures (기판온도 및 열처리온도에 대한 CdS 박막의 전기적 및 광학적 특성)

  • Park, Ki-Cheol;Shim, Ho-Seob;Kim, Jeong-Gyoo
    • Journal of Sensor Science and Technology
    • /
    • v.6 no.2
    • /
    • pp.163-171
    • /
    • 1997
  • CdS thin films for window material of solar cell were prepared by close spaced vapor transport deposition system and annealed at different temperatures. The structural, electrical, and optical properties of as-deposited and annealed CdS films were investigated as functions of substrate and annealing temperatures. The CdS thin films were grown perpendicularly to the substrate along the (002)plane with hexagonal structure regardless of the preparation conditions The resistivity of the CdS film deposited was increased gradually from $60{\Omega}cm$ for $25^{\circ}C$ to $2{\times}10^{4}{\Omega}cm$ for $300^{\circ}C$. The optical transmittance at the substrate temperature of $25^{\circ}C$ was about 80% in the the visible spectrum. The resistivity increased monotonically, and the optical transmittance was decreased substantially with annealing temperature due to the increased defect density in the CdS film.

  • PDF

ZnO-SnO2 co-sputtering 박막의 전기적, 광학적 특성 고찰

  • Kim, Jin-Su;Seong, Tae-Yeon;Kim, Won-Mok
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2011.02a
    • /
    • pp.73-73
    • /
    • 2011
  • Zn-Sn-O (ZTO) 다성분계 산화물 박막은 일반적인 rf 스퍼터법으로 성막할 경우 비정질상으로 성장하여 결정질 산화물 박막에 비해 우수한 표면평탄도와 식각 단면을 제공한다. 비정질임에도 불구하고 넓은 자유전하 농도 범위에서 높은 Hall 이동도를 제공할 수 있는 것으로 보고되어 있어 비정질 산화물의 투명도전성 박막에 대한 관심이 높아지고 있다. 투명 TFT에 적용되는 또 다른 비정질계 산화물 박막인 In-Zn-O (IZO) 박막에 비해 ZTO 박막은 상대적으로 제한된 연구가 이루어졌으나, In의 함유되지 않아 경제적으로 유리하고, 특히 SnO2의 우수한 기계적 및 화학적 특성과 ZnO의 내환원성 특성을 잠재하고 있는 유망한 투명도전성 박막재료이다. 본 연구에서는 Zn-Sn-O계 박막을 통상의 rf 스퍼터법으로 성막하여 조성, 증착 온도, 그리고 열처리 온도에 따른 ZTO 박막의 구조적인 특성 변화와 이에 따른 전기적 및 광학적 특성 변화에 대하여 고찰하였다. ZnO 타겟과 SnO2 타겟을 사용하여 co-sputtering하여 ZnO의 부피 분률을 13~59 mol%까지 변화되도록 조절하여 증착하였다. 증착 온도는 상온, 150 및 $300^{\circ}C$로, 그리고 성막가스 중의 산소분률은 0%, 0.5% 및 1% 로 변화시켰다. 40 mol% 이상의 ZnO를 함유한 ZTO 박막은 가시광 영역에서의 평균 광투과도는 좋으나 전기적인 특성이 열악하였으며, ZnO 분율이 낮은 ZTO 박막은 10-2~10-3 ohm-cm 정도의 비교적 낮은 비저항을 나타내었으나 광투과도 면에서 떨어지는 단점을 보였다. 평균 광투과도는 증착 온도가 증가할수록, 그리고 산소의 양이 증가할수록 향상 되었다. 자유전하농도가 1017~1020 cm-3 정도의 넓은 범위에서 10 cm2/Vs 을 넘는 홀 이동도를 가지는 ZTO 박막의 증착이 가능함을 확인하였으며, 이로부터 투명 TFT 소자로 적용이 가능성이 있음을 보였다. EPMA를 이용한 정량분석 및 XRD를 이용한 구조분석과 연계한 ZTO 박막의 물성 및 최적 조건에 대한 논의가 이루어질 것이다.

  • PDF

유리 기판에 ZnO Buffer Layer를 적용한 ZnO Nano Structure의 성장 특성

  • Ju, Jae-Hyeong;Seo, Seong-Bo;Kim, Dong-Yeong;Kim, Hae-Jin;Son, Seon-Yeong;Kim, Hwa-Min
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2011.08a
    • /
    • pp.350-350
    • /
    • 2011
  • ZnO는 II-VI족 화합물 반도체로서 3.37 ev의 band gap energy와 60 mv의 exciton binding energy를 가지며 차세대 소자로 다양한 분야에서 연구되어지고 있다. ZnO 박막과는 다르게 ZnO nano structure는 효율성과 특성 향상의 이점으로 태양전지와 투명전극 소자에 많은 연구가 되고 있으며 UV 레이저, 가스센서, LED, 압전소자, Field Emitting Transistor (FET) 등 다양한 응용분야에서 연구되고 있다. 본 연구에서는 유리 기판 위에 RF Magnetron sputtering법을 이용해 ZnO buffer layer를 다양한 두께(~1,000${\AA}$)로 증착한 뒤, Zn powder (99.99%)를 지름 2inch 석영관 안에 넣어 Thermal furnace장비를 이용하여 Thermal Evaporation법으로 약 500$^{\circ}C$에서 30분 동안 촉매 없이 성장 하였다. 수직성장된 ZnO 나노 구조체의 특성을 전계방출주사전자현미경(SEM), X-선 회절패턴(XRD), UV-spectra를 이용하여 분석하였다. SEM 분석을 통하여 ZnO buffer layer위에 성장된 ZnO 나노 구조체는 직경이 약 ~50 nm, 길이가 ~2 um까지 성장을 보였으며, XRD 측정결과, ZnO 우선 성장 방향(002)을 확인하였다. 두 가지 측정을 통하여 ZnO buffer layer의 유무에 따라 성장 특성이 향상되었음을 확인하였으며, 이는 buffer layer가 seed 역할을 한 것으로 사료된다. UV-spectra 측정을 통하여 가시광 영역(400~780 nm)에서 60%대의 투과도를 보여 가시광 영역에서 투명성을 요구하는 전자 소자 및 광소자 등에 적용 가능성을 확인하였다. 이 연구를 통하여 우수한 투과도를 가지며 유리 기판위에 수직성장된 ZnO 나노구조체는 태양전지와 플렉서블 디스플레이 등 다양한 활용 분야를 제시할 수 있다.

  • PDF

Application of Transmittance-Controlled Photomask Technology to ArF Lithography (투과율 조절 포토마스크 기술의 ArF 리소그래피 적용)

  • Lee, Dong-Gun;Park, Jong-Rak
    • Korean Journal of Optics and Photonics
    • /
    • v.18 no.1
    • /
    • pp.74-78
    • /
    • 2007
  • We report theoretical and experimental results for application of transmittance-controlled photomask technology to ArF lithography. The transmittance-controlled photomask technology is thought to be a promising technique fo critical dimension (CD) uniformity correction on a wafer by use of phase patterns on the backside of a photomask. We could theoretically reproduce experimental results for illumination intensity drop with respect to the variation of backside phase patterns by considering light propagation from the backside to the front side of a photomask at the ArF lithography wavelength. We applied the transmittance-controlled photomask technology to ArF lithography for a critical layer of DRAM (Dynamic Random Access Memory) having a 110-nm design rule and found that the in-field CD uniformity value was improved from 13.8 nm to 9.7 nm in $3{\sigma}$.

CMP Properties of ZnO thin film deposited by RF magnetron sputtering (RF-sputtering에 의해 제작된 ZnO박막의 연마특성)

  • Choi, Gwon-Woo;Han, Sang-Jun;Lee, Woo-Sun;Park, Sung-Woo;Jung, Pan-Geom;Seo, Yong-Jin
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
    • /
    • 2007.11a
    • /
    • pp.166-166
    • /
    • 2007
  • ZnO는 육방정계(wurtzite) 결정구조를 지니며 상온에서 3.37eV의 wide band gap을 갖는다. ZnO의 엑시톤 결합 에너지는 GaN에 비해 2.5배 높은 60meV로서 고효율의 광소자 적용 가능성이 높다. 또한 고품위의 박막합성이 가능하다. 이러한 특성 때문에 display소자의 투명전극, 광전소자, 바리스터, 압전소자, 가스센서 등에 폭 넓게 응용되고 있다. ZnO박막의 제조는 스퍼터링, CVD, 진공증착법, 열분해법 등이 있다. 본 논문에서는 RF 마그네트론 스퍼터에 의해 제작된 ZnO 박막에 CMP공정을 수행하여 연마율과 비균일도 특성 및 광투과 특성을 연구하였다. ZnO박막은 $2{\times}2Cm$의 Corning glass위에 증착되었다. 로터리 펌프와 유확산 펌프를 이용하여 초기진공을 $2{\times}10^{-6}$ Torr까지 도달시킨 후 Ar과 $O_2$를 주입하였다. 증착은 상온에서 이루어졌으며 공정압력은 $6{\times}10^{-2}$Torr이였다. 초기의 불안정한 상태의 풀라즈마를 안정시키기 위해 셔터를 이용하여 pre-sputtering을 하였다. CMP 공정조건은 플레이튼 속도, 슬러리 유속, 압력은 칵각 60rpm, 90ml/min, $300g/cm^2$으로 일정하게 유지하였으며 헤드속도는 20rpm에서 100rpm까지 증가시키면서 연마특성을 조사하였다. 실리카슬러리의 적합성을 알아보기 위해 DIW와 병행하여 CMP공정을 수행하고 비교 분석하였다. CMP공정 결과 광투과도는 굉탄화된 표면의 확보로 인해 향상된 특성을 보였다. 실리카 슬러리를 사용하여 CMP를 할 경우는 헤드속도는 저속으로 하여야 양호한 연마특성을 얻을 수 있었다.

  • PDF

A Study of Mechanical Property Enhancement of Polymer Nanostructure using IPL Treatment (IPL 처리를 통한 고분자 나노구조의 기계적 특성 향상 연구)

  • Kim, D.;Kim, D.I.;Jeong, M.Y.
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
    • /
    • v.27 no.4
    • /
    • pp.113-117
    • /
    • 2020
  • In this paper, We investigated the effect of heat treatment process using photo-thermal effect in order to improve mechanical properties of nanostructure on polymer films made by nanoimprint process with hybrid resin. Nanostructures which have a low refractive characteristic were fabricated by UV nanoimprint and after that heat treatment was performed using IPL (intense pulsed light) under process condition of 550 V voltage, pulse width 5 ms, frequency 0.5 Hz. The transmittance and mechanical property of fabricated nanostructure films were evaluated to observe changes in the pattern transfer rate and mechanical properties of nanostructures. The transmittance of the nanostructure was measured at 97.6% at 550 nm wavelength. Nanoindentation was performed to identify improved anti-scatch properties. Result was compared by the heat source. In case of post treatment with IPL, hardness was 0.51 GPa and in the case of hotplate was 0.27 GPa, resulting the increase of hardness of 1.8 times. Elastic modulus of IPL treated sample was 5.9GPa and Hotplate treated one was 4GPa, showing the 1.4 time increase.