Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.18
no.2
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pp.43-48
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2011
The maximum current density of copper electrorefining is 350 A/$m^2$ and the higher current density is required to promote the copper productivity. The 1000 A/$m^2$ high current density is possible when rotating disc electrode is employed to reduce diffusion thickness. The copper electroplating with 1000 A/$m^2$ is possible at 400 rpm. Thiourea and glue were used to improve the electrodeposition behaviors during copper electrorefining process. Potentiodynamic polarization tests were conducted to investigate the effects of additives on copper electrodeposition. Galvanostatic tests were also conducted at 1000 A/$m^2$. Copper were electroplated on cylindrical rotating electrodes to give the uniform flow on the electrode surface. The lowest surface roughness was obtained when 16 ppm thiourea was added to the electrolytes. The surface roughness was increased with glue concentration. The surface hardness was not influenced by addition of glue. The copper nuclei were getting smaller with thiourea concentration, however there is no glue effects on copper nucleation.
Han, Man Seok;Tak, Yongsug;Lee, Choong Young;Nam, Chong Woo
Applied Chemistry for Engineering
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v.8
no.3
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pp.438-445
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1997
${\beta}-PbO_2$ electrode, which was electrodeposited on Ti madras, was prepared and for the decomposition of cyanide in electroplating wastewater. After the investigation of temperature and pH conditions for no hydrogen cyanide evolution during the decomposition of cyanide, the optimum current densities of ${\beta}-PbO_2$ electrodeposition and cyanide decomposition were determined in 500ppm NaCN solution, and durability of ${\beta}-PbO_2$ electrode was also investigated. Hydrogen cyanide was actively generated above $40^{\circ}C$ and was not evolved above pH 13. ${\beta}-PbO_2$ electrode electodeposited at $5A/dm^2$ showed the best cyanide decomposition efficiency The decompostion efficiency was about 70% at low decomposition current density ($0.08A/dm^2$), and it decreased gradually to about 10% as the decomposition current density increased up to $4A/dm^2$. The film of ${\beta}-PbO_2$ electrodeposited was corrosive at $20A/dm^2$ and was broken at $50A/dm^2$.
In this study, electro-deposition method was applied to heal cracks in various blended concrete. The performance of the method was indirectly monitored by measuring impressed voltage, electrolyte, galvanic current monitoring, linear polarization resistance, and directly by image analysis of the cracks. The indirect and direct monitoring values are compared to develop guidelines for relating the indirect measures to actual crack healing. As a result, It was found that impressed voltage was convergence to 2.9V after 20000 minutes. From the galvanic current test results of artificial crack healing, the corrosion resistance showed that the order of 0.4 $>$ 0.6 $>$ 0.5 water to cement ratio. Furthermore, in view of binder, the corrosion resistance order was calculated OPC $>$ 60%GGBS $>$ 10%SF $>$ 30%PFA. Finally, It was found that 76.47% of healed crack surface calculated from the artificial crack healing technique using electrochemical deposition method.
Park, Jun-Mu;Seo, Beom-Deok;Lee, Seul-Gi;Kim, Gyeong-Pil;Gang, Jun;Mun, Gyeong-Man;Lee, Myeong-Hun
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2018.06a
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pp.116-116
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2018
부식은 재료와 사용 환경과의 상호작용에 의한 결과로서 일반적으로 두께의 감소와 균열의 발생 및 파손 등의 문제로 나타난다. 특히 사용환경 중에서 해수 분위기는 금속의 부식에 가장 유리한 조건이다. 따라서 해양환경 중 항만이나 조선 및 해양 산업 등에 많이 이용되는 강 구조물은 이에 대응하기 위하여 도장방식이나 음극방식을 사용하고 있다. 여기서 음극방식은 피방식체를 일정전위로 음극 분극하는 원리로써 외부전원을 인가하거나 비전위의 금속을 전기적으로 연결하여 방식하는 방법이다[1]. 한편, 해수 중에서 이와 같은 원리로 음극방식 할 경우에는 피방식체인 강재표면에 부분적으로 칼슘 또는 마그네슘 화합물 등의 생성물이 부착하는 현상을 볼 수 있게 된다. 이와 같이 수산화마그네슘($Mg(OH)_2$)및 탄산칼슘($CaCO_3$)을 주성분으로 하여 석출되는 석회질 피막(calcareous deposits)은 피방식체에 유입되는 음극방식 전류밀도를 감소시켜 주거나 물리적 장벽의 역할을 함으로써 외부의 산소와 물 등 부식환경으로부터 소지금속을 보호한다[2]. 그러나 석회질 피막은 소지금속과의 결합력, 막의 균일한 분포, 내식성 및 제작시간의 단축 등 해결해야 할 과제가 있다. 또한 여러 가지 환경 조건 등의 영향을 받아 그 피막의 형성 정도도 가늠하기 어렵기 때문에 음극방식 설계 시 그 정도에 따른 영향을 고려-반영하기가 곤란하다. 따라서 본 연구에서는 석출속도, 밀착성 및 내식특성을 향상시키기 위해 전착프로세스를 통해 해수 중 기체를 용해시켜 석회질 피막을 제작하고 막의 결정구조 제어 및 특성을 분석-평가하였다. 본 연구에 사용된 강 기판(Steel Substrate)은 일반구조용강(KS D 3503, SS400)을 사용하였으며, 외부전원은 정류기(Rectifier, xantrex, XDL 35-5T)를 사용하여 3 및 $5A/m^2$의 조건으로 인가하였다. 양극의 경우에는 해수에 녹아있는 이온 이외에 다른 성분들이 환원되는 것을 방지하기 위해 불용성 양극인 탄소봉(Carbon Rod)을 사용하였다. 이때 석출속도, 밀착성 및 내식특성 향상을 위해 해수에 주입한 기체의 양은 0.5 NL/min였으며, 기판 근처에 고정하여 음극 부근에서의 반응을 유도하였다. 각 조건별로 제작된 막의 표면 모폴로지, 조성원소 및 결정구조 분석을 실시하였으며, 석회질 피막의 밀착성과 내식특성을 평가하기 위해 규격에 따른 테이핑 테스트(Taping Test, ISO 2409)와 3 % NaCl 용액에서 전기화학적 양극 분극 시험을 진행하여 제작된 막의 내구성과 내식성을 분석-평가하였다. 시간에 따른 전착막의 외관관찰 결과 전류밀도의 증가와 함께 상대적으로 많은 피막이 형성되었고, 용해시킨 기체에 의해 더 치밀하고 두터운 피막이 형성됨을 확인할 수 있었다. 성분 및 결정구조 분석 결과 $Mg(OH)_2$ 성분의 Brucite 및 $CaCO_3$ 성분의 Calcite 및 Aragonite 구조를 확인하였으며, 용해시킨 기체의 영향으로 $CaCO_3$ 성분의 Aragonite 구조가 상대적으로 많이 검출되었다. 밀착성 및 내식성 평가를 실시한 결과 해수 중 용해시킨 기체에 의해 제작한 시편의 경우 견고하고 화학적 친화력이 높은 Aragonite 결정이 표면을 치밀하게 덮어 전해질로부터 산소와 물의 침입을 차단하는 역할을 하여 기체를 용해시키지 않은 3 및 $5A/m^2$ 보다 비교적 우수한 밀착성 및 내식 특성을 보이는 것으로 사료된다.
Journal of Nuclear Fuel Cycle and Waste Technology(JNFCWT)
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v.17
no.2
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pp.127-137
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2019
Zr electrorefining is demonstrated herein using Zirlo tubes in a chloride-fluoride mixed molten salt in the presence of $AlF_3$. Cyclic voltammetry reveals a monotonic shift in the onset of metal reduction kinetics towards positive potential and an increase in intensity of the additional peaks associated with Zr-Al alloy formation with increasing $AlF_3$ concentration. Unlike the galvanostatic deposition mode, a radial plate-type Zr growth is evident at the top surface of the salt during Zr electrorefining at a constant potential of -1.2 V. The diameter of the plate-type Zr deposit gradually increases with increasing $AlF_3$ concentration. Scanning electron microscopy-energy-dispersive X-ray spectroscopy (SEM-EDX) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analyses for the plate-type Zr deposit show that trace amount of Al is incorporated as Zr-Al alloys with different chemical compositions between the top and bottom surface of the deposit. Addition of $AlF_3$ is effective in lowering the residual salt content in the deposit and in improving the current efficiency for Zr recovery.
This work investigated a fabrication way of stable platinized Ti electrode and evaluated the electrochemical characteristics of the Sn-modified platinized Ti electrode in nitrate solution. A Pt electro-plating way to form some open special clearances within the Pt coating layer on etched Ti substrate was very important to remove effectively the residual contaminate due to plating solution out of the fabricated electrode surface and to maximize the actual electrode surface area contacting solution. Both boiling and electro-cleaning processes of the fabricated electrode was essential to obtain a stable platinized-Pt electrode with reproducible and stable surface property which was necessary for the correct evaluation of Sn coverage on the electrode. The electro-cleaning caused a morphology change of the platinized Ti electrode surface with some downy hair-like polyps formed during the deposition disappearing, which made the electrode stable. The Sn-modified platinized Ti electrode in this work showed the best electro-activity for nitrate reduction, when it was fabricated through the Pt electro-plating of about 30 minutes.
In the industry, Zn galvanizing on the steel using the principle of sacrificial anode is used. The steel have some problem, specially corrosion problem. To solve corrosion problem, Zn-Mn alloy plating has been studied as one of the measures to increase the corrosion resistance rather than pure zinc plating. It is possible to be applied to automotive parts requiring high corrosion resistance even though the plating cost is high. In this study, Zn-Mn alloys were electrodeposited from an acidic chloride bath. The influence of the electrolytic conditions on the composition of the alloy plating in the chloride bath was investigated. As the current density of the cathode increases, Zn content of electrodeposit decrease and Mn content of electrodeposit increase. As the temperature of the electrolyte increases, Zn content of electrodeposit decrease and Mn content of electrodeposit increase. The results are explained by the cathode overvoltage curve of Mn and Zn.
A thin Cu seed layer for electroplating has been employed for decades in the miniaturization and integration of printed circuit board (PCB), however many problems are still caused by the thin Cu seed layer, e.g., open circuit faults in PCB, dimple defects, low conductivity, and etc. Here, we studied the effect of heat treatment of the thin Cu seed layer on the deposition rate of electroplated Cu. We investigated the heat-treatment effect on the crystallite size, morphology, electrical properties, and electrodeposition thickness by X-ray diffraction (XRD), atomic force microscope (AFM), four point probe (FPP), and scanning electron microscope (SEM) measurements, respectively. The results showed that post heat treatment of the thin Cu seed layer could improve surface roughness as well as electrical conductivity. Moreover, the deposition rate of electroplated Cu was improved about 148% by heat treatment of the Cu seed layer, indicating that the enhanced electrical conductivity and surface roughness accelerated the formation of Cu nuclei during electroplating. We also confirmed that the electrodeposition rate in the via filling process was also accelerated by heat-treating the Cu seed layer.
2,5-dimethoxy-2,5-dihydrofurfuryl alcohol was electrosynthesized from furfuryl alcohol in methanol solution by using three kinds of metal oxide anode. The electrods were prepared by the following process : Thin layer of semiconducting material such as tin(IV)oxide and antimony(III)oxide was made on the titanium base metal in an electric furnace. The titanium metal block with the layer was coated with ${\alpha}-PbO_2$, ${\beta}-PbO_2$, and $MnO_2$ in each electrolytes by anodic deposition, respectively. The lead dioxide electrodes showed better anti-corrosive property than the manganase dioxide electrode. The yield of the product was 92% which is almost the same as the one with conventional platinum electrodes.
It is one of the most important factors to enhance the efficiency of the solar collectors by in-creasing collecting efficiency and decreasing heat loss. The pulse electrodeposition method has been involved in this study to improve characteristics of the solar selective coating on 230cm${\times}$60cm substrates and electrical efficiency of the process. The composition of the electrolyte was 280 g/$\ell$ chromic acid, 15 g/$\ell$ propionic acid, and 10 g/$\ell$ appropriate additive. 230cm${\times}$60cm copper and aluminium sheets were utilized as the substrates. It has been observed that the black chrome coatings exhibited reasonable optical properties for commercialization when the plating parameters were properly controlled; the absorptance was 0.98 and 0.97 and omittance was 0.17 and 0.23 for copper and aluminium substrate, respectively. This study implies that the pulse current electrolysis method could be applied to the large scale substrates, and the various products can be avilable after the consideration of the thermal conductivity, heat transfer efficiency and cost problems of the substrates.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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