• Title/Summary/Keyword: 열처리 효과

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ITZO 박막 트랜지스터의 산소 분압과 열처리 온도 가변에 따른 전기적 특성

  • Kim, Sang-Seop;Go, Seon-Uk;Choe, Byeong-Deok
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.08a
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    • pp.243.1-243.1
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    • 2013
  • 본 연구에서는 산소 분압과 열처리 온도에 따른 ITZO 박막 트랜지스터의 전기적 특성 향상을 목적으로 실험을 진행하였다. 1) ITZO 박막 증착 시 산소 분압 가변($O_2/(Ar+O_2)$ 30~40%), 열처리 온도 고정($350^{\circ}C$)과 2) ITZO 박막 증착 시 산소 분압 고정(30%), 열처리 온도($200{\sim}400^{\circ}C$)를 가변하여 실험을 진행하였다. 두 실험 모두 특성향상을 위해 산소 분위기에서 열처리를 진행하였다. 산소의 분압이 증가할수록 산소 빈자리를 채우면서 전자 농도가 감소하여 채널 전도 효과가 줄어들면서 Hump 현상이 발생하였고, 스윙이 증가, 문턱 전압이 음의 방향으로 이동하였다. 이에 $O_2/(Ar+O_2)$)의 30%에서 30%일때, 문턱전압은 1.98 V, 전계 효과 이동도는 28.97 $cm2/V{\cdot}s$, sub-threshold swing은 280 mv/dec, on-off 비율은 ~107로 가장 우수한 전기적 특성을 보였다. 또한 열처리 온도 가변 시 $400^{\circ}C$에서 전계 효과 이동도는 28.97 $cm^2/V{\cdot}s$$200^{\circ}C$의 전계 효과 이동도는 11.59 $cm^2/V{\cdot}s$에 비해 약 3배 증가하였고, 소자의 스위칭 척도인 sub-threshold swing은 약 180 mv/dec 감소하였다. 문턱 전압은 0.97V, on-off ratio는 약 107을 보였다. 동일한 산소 분압의 분위기에서 $400^{\circ}C$ 열처리 시 가장 우수한 전기적 특성을 보였고, 저온 공정으로 인한 플렉서블 디스플레이 투명 디스플레이 적용 가능성을 확인하였다.

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Effects of Annealing Conditions on Physical and Electrical Properties of CdTe Thin Film for Solar Cell (태양전지용 CdTe 박막의 물리적.전기적 특성에 미치는 열처리 효과)

  • 김현수;조영아;염근영;신성호;박정일;박광자
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.4 no.3
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    • pp.306-312
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    • 1995
  • 본 연구에서는 비정질 실리콘과 CuInSe2와 함께 지상용 태양전지재료로 널리 연구되고 있는 다결정 CdTe 박막의 열처리방법으로서 로열처리와 반도체 공정에서 사용되는 급속열처리 방법을 이용하여 이들 열처리의 효과를 분석함으로써 태양전지용 다결정 CdTeq 박막에 적합한 효율적인 열처리 방법에 대한 연구를 수행하였다. 증착 후 열처리조건에 따른 결정구조, 결정립 크기, 표면과 박막내부의 성분, 밴드갭 에너지값, 그리고 전기비저항 등을 측정하여 태양전지용 CdTe 박막의 물리적.전기적 특성에 미치는 열처리효과를 관찰하였다. 연구결과 30$0^{\circ}C$에서 증착하고 CdCI2 처리 후 $400^{\circ}C$ 30분간 로열처리를 한 경우, 그리고 $200^{\circ}C$에서 증착한 후 $500^{\circ}C$ 부근에서 1분간 급속열처리를 한 경우 다결정 CdTe 박막의 물리적 전기적 특성이 현저히 향상됨을 알 수 있었다. 특히 급속열처리를 한 경우 로열처리에 비해 결정립의 크기는 작으나 전기비저항이 낮고 밴드갭에너지가 단결정에 더욱 접근하며 태양전지용 다결정 CdTe 박막의 열처리 방법으로 적용할 가치가 있는 방법으로 사료된다.

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열처리 효과가 ZnO 박막의 특성 변화에 미치는 영향 연구

  • Lee, Cho-Eun;Sim, Eun-Hui;Go, Ji-Hyeon;Jeong, Ui-Wan;Lee, Jin-Yong;Lee, Yeong-Min;Kim, Deuk-Yeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.79-79
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    • 2011
  • 사파이어 기판에 성장된 ZnO 박막을 급속 열처리 하여 열처리 효과가 박막의 특성에 미치는 영향을 분석하였다. ZnO 박막은 RF 마그네트론 스퍼터 증착법으로 $500^{\circ}C$에서 성장하였고, 성장 된 시료를 산소 분위기에서 $600^{\circ}C{\sim}900^{\circ}C$로 온도 변화를 주어 3분 동안 열처리를 하였다. Hall 효과 분석에 의한 ZnO 박막의 전자 이동도 특성은 열처리 온도가 증가함에 따라 점차 증가하는 경향을 나타내어, $900^{\circ}C$ 열처리의 경우 23 $cm^2$/Vs의 가장 높은 값을 보였다. 한편 X-ray 회절 분광법에 의한 ZnO 박막의 (002) peak를 분석한 결과 열처리 온도가 증가함에 따라 peak의 세기는 증가하고 그 반치폭이 점차 감소함으로써 시료의 결정학적 특성이 향상됨을 확인 할 수 있었다. 이와 같이 열처리 온도에 따라 전기적 결정학적 특성이 향상되는 이유는 ZnO 박막에 존재하는 native defect들이 열적으로 passivation되고, 결정격자들의 배열이 열에너지에 의해 안정화 되면서 나타나는 현상으로 풀이 된다. 이와 함께 본 연구에서는 ZnO 박막의 열처리 온도 변화에 따른 광학적 특성 변화에 대해서도 보고할 예정이다.

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Effect of rapid thermal annealing of GaN EpiLayer (GaN 에피층의 급속 열처리 효과)

  • Choi, Sung Jai;Lee, Won Sik
    • The Journal of the Institute of Internet, Broadcasting and Communication
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    • v.8 no.6
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    • pp.105-110
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    • 2008
  • We have investigated the high temperature rapid thermal annealing of GaN epilayers in nitrogen atmosphere. Annealing has been performed in a rapid thermal annealing furnace at $950^{\circ}C$. The effect of rapid thermal annealing of GaN was studied by x-ray diffraction. The Bragg peak shifts toward larger angle as the annealing time increases. The full width at half maximum (FWHM) of the peak slightly increase, followed by decreases, and increases again as the thermal treatment time increases. The improvement of structural properties of the samples was observed after rapid thermal annealing under optimum conditions. This improvement in crystal quality is due to a reduction of the spread in the lattice parameter in epilayers.

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Nano-electrotribology 분석을 중심으로 표면 stress 분석에 의한 HfN 박막의 질소효과 연구

  • Jo, Si-Yeong;Kim, Su-In;Kim, Hong-Gi;Park, Myeong-Jun;Lee, Chang-U
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2015.08a
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    • pp.175.2-175.2
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    • 2015
  • 이 연구는 nano-indenter를 중심으로 박막의 nano-electrotribology 분석 연구로 Hafnium Nitride (HfN) 박막의 열처리 시 열적안정성에 대한 연구를 진행하였다. HfN 박막은 Copper (Cu)와 Silicon (Si)의 계면 확산방지막으로 사용될 수 있는 박막으로 현재 많은 연구소에서 다양한 연구가 진행되고 있다. HfN 박막은 Si (100)기판 위에 rf magnetron sputter로 증착되었다. 증착 시 Ar, $N_2$ 가스유량을 총 40 sccm 사용하였고 증착 후 HfN 박막을 질소분위기 furnace에서 500, $700^{\circ}C$로 각각 30분 동안 열처리 하였다. 열처리 전 후의 시료를 nano-indenter를 이용하여 nano-electrotribology 분석을 실시하였다. Nano-indenter 측정결과 열처리 전 HfN 박막 시료의 표면강도는 39.68 GPa였고 500oC 열처리 후 31.31 GPa로 감소하였다. 그러나 $700^{\circ}C$ 열처리 시 표면강도가 37.89 GPa로 다시 증가하였다. 탄성계수 측정결과도 이와 같은 경향을 나타내었는데, $500^{\circ}C$ 열처리 전 후 탄성계수가 258.99 GPa에서 201.88 GPa로 감소하였고 $700^{\circ}C$ 열처리 시 247.55 GPa로 다시 증가하였다. 이는 $500^{\circ}C$ 열처리하였을 때 박막 내에 흡착되었던 $N_2$ 가스가 빠져나가며 tensile stress가 발생하여 박막의 표면강도 감소를 유발했고 $700^{\circ}C$ 열처리 시 다시 박막 표면이 안정화되었기 때문으로 생각된다. 이를 통해 열처리 온도 변화에 의한 질소효과가 나타나 HfN 박막 표면의 물성이 달라지는 것을 확인하였다.

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후열 처리 조건에 따른 a-Si/c-Si 이종접합 태양전지 특성 분석

  • Kim, Kyung Min;Jeong, Dae Young;Song, Jun Yong;Kim, Chan Seok;Koo, Hye Young;Oh, Byung Sung;Song, Jinsoo;Lee, Jeong Chul
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 2010.11a
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    • pp.58.2-58.2
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    • 2010
  • 본 연구에서는 n-type wafer에 비정질 실리콘을 증착한 이종접합 태양전지를 열처리 방법을 이용하여 열처리의 효과를 분석함으로써 이종접합 태양전지에 효율적인 열처리 효과에 대하여 연구하였다. P, N-layer는 PECVD(Plasma-enhanced chemical vapor deposition) I-layer는 HWCVD(Hot wire chemical vapor deposition), ITO는 RF 마그네트론 스퍼터링법으로 동일한 조건에서 제작하였고 rapid thermal process를 이용하여 진공 중에서 $150^{\circ}C$, $200^{\circ}C$, $220^{\circ}C$, $250^{\circ}C$까지 열처리를 하였다. 열처리 전과 후 QSSPC로 minority carrier life time, 자외 가시선 분광분석 장치로 투과 반사도를, Ellipsometer로 흡수 계수 등의 변화를 조사하였다. 열처리 후 Minority carrier life time, Voc 및 광변환 효율이 증가하였다.

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The heat treatment effect of Ni-Pd alloy electroplating (Ni-Pd 합금 전해도금의 열처리 효과)

  • Jeong, Dae-Gon;Jo, Jin-Gi
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2015.11a
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    • pp.326-326
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    • 2015
  • 본 연구에서는 전해도금을 이용하여 Ni-Pd 합금도금을 형성한 후 열처리 효과를 분석하였다. 전류밀도 $0.2{\sim}1.5A/dm^2$, $PdCl_2$ 1~5mM의 변화를 통해 Ni-Pd 합금도금의 함량을 변화시켰고 $100{\sim}400^{\circ}C$의 열처리를 하였다. 열처리 온도가 올라갈수록 경도는 급격히 떨어졌고 $300^{\circ}C$이후에서는 감소하였으나 감소폭이 작았다. 경도의 감소 원인은 열처리 후 Grain Size가 커지는 현상 때문이고 이는 XRD를 통해 확인하였다. 면저항의 경우 열처리를 하였을 경우 급격히 감소하고 $100^{\circ}C$ 이후에는 일정하였다.

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Complex heat-treatment effects on as-built CoCrMo alloy (적층공정법으로 제작된 CoCrMo 합금의 복합열처리 효과)

  • Lee, Jung-Il;Kim, Hung Giun;Jung, Kyung-Hwan;Kim, Kang Min;Son, Yong;Ryu, Jeong Ho
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.28 no.6
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    • pp.250-255
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    • 2018
  • The CoCrMo as-built alloys prepared by 3D-printing process are studied on tensile strength, wear resistance, crystal structure and microstructure after complex heat-treatment including HIP. In this study, HIP treatment for removing micropores, ambient heat-treatment for formation of metal carbides, and solution heat-treatment for homogenization of the created metal carbides were tried and characterized for applying to artificial joint. The complex heat-treatment effects of the CoCrMo as-built alloys prepared by 3D-printing process were owing to the densification during HIP, formation of metal carbides and homogenization of the created metal carbides. The effects of the complex heat-treatment were confirmed by XRD, FE-SEM and EDS.

Effects of the Oxygen Flow and Annealing on the Characteristics of $WO_3$ Film ($WO_3$막의 특성에 미치는 산소가스 유량 및 열처리 효과)

  • Rhie, Dong-Hee;Choi, Bok-Gil;Choi, W.S.;Moon, B.M.;Sung, Youg-Kwon
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 1999.07d
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    • pp.1508-1510
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    • 1999
  • 스퍼터 퇴적 $WO_3$ 박막에 대해 열처리에 따른 전기적특성 및 구조적특성을 각각 4탐침법 및 AFM 관측에 의해 조사해 보고, 또한 스퍼터링시의 산소가스 유량비에 따른 $WO_3$ 박막의 막질을 ESCA에 의해 평가하였다 실험 결과 열처리에 의해 $WO_3$ 박막 표면의 평균거칠기가 $2.45\AA$에서 $152\AA$으로 크게 증가함을 알 수 있었다 또한 스퍼터시 산소유량비에 따른 효과를 ESCA로 관측한 결과, 열처리전에는 주피크가 34eV에서 나타남에 비해 열처리 후에는 36eV전후에서 나타났다.

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