Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)
- 2015.08a
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- Pages.175.2-175.2
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- 2015
Nano-electrotribology 분석을 중심으로 표면 stress 분석에 의한 HfN 박막의 질소효과 연구
Abstract
이 연구는 nano-indenter를 중심으로 박막의 nano-electrotribology 분석 연구로 Hafnium Nitride (HfN) 박막의 열처리 시 열적안정성에 대한 연구를 진행하였다. HfN 박막은 Copper (Cu)와 Silicon (Si)의 계면 확산방지막으로 사용될 수 있는 박막으로 현재 많은 연구소에서 다양한 연구가 진행되고 있다. HfN 박막은 Si (100)기판 위에 rf magnetron sputter로 증착되었다. 증착 시 Ar,