• Economic and Environmental Geology
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• v.17 no.1
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• pp.49-55
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• 1984

This paper describes three-dimensional (3-D) standard curves for conductive dipping buried bodies in induced polarization (IP) method. Dipole-dipole IP responses for the dipping bodies are calculated by the numerical modeling technique using an integral equation solution. Dip angles of the bodies are 0, 20, 45, 70 and 90 degrees, respectively. The horizontal (0-degree dip) and vertical (90-degree dip) bodies produce symmetrical patterns of IP responses. The dipping bodies of 20, 45 and 70 degrees, however, produce asymmertical patterns, with the highest IP contours dipping in the direction opposite to the bodies in pseudo-sections. The most remarkable asymmetrical pattern appears in the model of 20-degree dip. It is difficult to distinguish the body of 70-degree dip from that of 90-degree dip on the basis of dipole-dipole IP data. The IP pattern in pseudo-sections varies when the line moves away from the center of the body along strike, with the anomaly deeper and smaller in amplitude. IP maps seem to be more useful than IP pseudo-sections in predicting the location of target.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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• v.19 no.5
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• pp.551-556
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• 2018

The material normally used in hot dip galvanizing facilities is SM45C (carbon steel for mechanical structure, KS standard), mainly because of its price. During this process, the oxidation of the plating facility occurs due to the heat of the Zn fumes coming from the molten zinc. Since the cycle time of the current facilities is 6 months, much time and money are wasted. In this study, the corrosive properties of various materials (Inconel625, STS304, SM45C) were investigated by oxidation in a high temperature and Zn fumes environment. The possibility of applying the hot-dip galvanizing equipment was investigated for each material. The Zn fumes were generated by directly bubbling Ar gas into Zn molten metal in a 650 degree furnace. High-temperature, Zn fumes corrosion was conducted for 30 days. The sample was removed after 30 days and the oxidation of the surface was confirmed with EDS and SEM, and the corrosion properties were examined using potentiodynamic polarization tests.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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• v.15 no.12
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• pp.7283-7286
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• 2014

SiOC films were prepared as insulators for displays by sputtering at low temperatures, and the relationship with the electrical properties waaas examined. The electrical properties of SiOC films were affected by the annealing process, and SiOC films annealed at 100oC showed a significant increase in thickness and a decrease in the reflective index. XRD revealed an increase in the degree of the amorphous structure. Moreover, the capacitance and leakage current of the SiOC films annealed at 100oC decreased. These characteristics of SiOC films highlight their potential as ideal insulators. Amorphous SiOC films by the reduction of polarization are dependent on the elongation effect of the bonding lengths in the structure and the thickness. The properties of these SiOC films are suitable for low temperature displays.

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• v.6 no.2
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• pp.177-184
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• 1996

We adopted the $Pt/SiO_{2}/Si$ and the $Ir/SiO_{2}/Si$ substrates of which buffer layer is $PbTiO_{3}$ to improve electrode and interfacial properties of PZT thin film deposited by reactive sputtering method using metal target in this study. We got PZT thin film to have highly oriented(100) structure and good crystallinity using buffer layer in Pt bottom-electrode, though randomly oriented PZT thin film was obtained without buffer layer. Although great improvement of PZT phase formation on Ir bottom-electrode with buffer layer was not observed, we observed the increase of remennant polarization and the decrease of coercive field compared with properties of PZT thin films on the Pt bottom-electrode. So we got the results of the increase of dielectric constant using buffer layer on fabrication of PZT thin film and the better dielectric properties in PZT thin film using Ir bottom-electrode compared with that using Pt bottom-electrode.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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• v.19 no.6
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• pp.98-103
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• 2018

Many coating technologies have been developed so far to improve the corrosion resistance, strength, abrasion resistance and other surface properties of materials and equipment. Among them, the formation of CCO (CaCoO, then CCO) thin films has been studied and used in the electronic material field. One of the characteristics of CCO thin films is that it is resistant to high temperature heat. Particularly, the method of forming the CCO thin film is relatively simple, and it was judged that it could be introduced into the existing equipment. Therefore, in this study, an experiment and analysis were carried out to determine whether the coating of CCO thin films can be applied to hot dip galvanizing facilities. A CCO thin film was formed on the surface of STS304 base material and oxidized in a Zn fume atmosphere in a $650^{\circ}C$ furnace with an air atmosphere. Oxidation was carried out for 30 days, after which the shape of the CCO thin film was confirmed by SEM and its corrosivity was analyzed through a potentiodynamic polarization experiment.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2017.05a
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• pp.136-136
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• 2017

화학제염 기술은 산화제, 환원제, 금속이온, 무기산등이 혼합되어 있는 화학용액을 사용하여 원전기기 계통 내부에 생성된 고방사능 준위의 산화막과 오염물질을 제거하는 기술이다. 원전의 해체 및 유지보수에 있어 방사능 피복저감을 위한 필수적인 기술이다. 현재 원전 해체 산업은 잠재성이 높은 고부가가치 창출 산업으로 주목을 받고 있다. 원전 보유국의 경우, 기존 상용 제염기술과는 차별성 있는 제염기술을 확보하고자 노력하고 있다. 기존의 공정과 비교하여 공정비용 및 시간을 감소시킬 수 있어야 할 뿐만 아니라, 화학용액에 의한 원전 계통 금속 부품의 부식 및 손상을 최소화해야 한다. 금속 부품이 화학약품에 의한 부식손상을 받는다면 금속 부품의 수명 및 재활용 가치가 감소하기 때문에, 화학제염 기술 적용에 있어 용액에 대한 재료의 건전성 평가가 사전에 필히 이루어져야 한다. 본 연구에서는 원전 냉각재 펌프용 재료로 주로 사용되는 Stainless 304강을 시험편으로 선정하여, 화학제염 시험공정 3가지에 대한 부식손상 특성을 규명하였다. 산화공정은 과망간산($HMnO_4$) 용액을 공통으로 사용하였으며, 산화공정 종료 후 환원공정은 각 시험공정에 따라 시험공정 1은 옥살산($H_2C_2O_4$) 2000ppm, 시험공정 2는 옥살산($H_2C_2O_4$)1500ppm + 시트르산($H_8C_6O_7$)500ppm, 그리고 시험공정 3은 옥살산($H_2C_2O_4$) 3000ppm 용액을 각각 투입하여 수행하였다. 산화, 환원공정을 1Cycle로 하여, 각 시험공정 별로 총 5Cycle을 실시하였다. 각 시험공정 Cycle종료 후 시험편을 취외하여 무게감량측정, SEM(Scanning electron microscope) 분석, 3D현미경분석 그리고 타펠분극 실험을 실시하였다. 각 분석결과를 토대로 하여, Stainless 304강에 대한 화학제염 시 모델별 시험공정에 따른 부식특성을 규명하였다.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2018.06a
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• pp.110-110
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• 2018

여러 니켈합금 중 인코넬 600은 원전 가압경수로(PWR)의 튜브 재료로 널리 사용되는 재료이다. 스테인리스강과 비교하여 우수한 내식성과 기계적 특성으로 인해 화학설비, 발전설비, 그리고 해양설비 등과 같은 여러 산업분야에서도 널리 사용되고 있다. 그러나 가압경수로용 증기 발생기의 튜브 재료와 같은 특수 환경에서 예민화에 따른 입계부식 및 입계응력부식 등의 문제가 흔히 보고되고 있다. 이러한 내구성 문제는 설비 및 장비의 수명, 내구성 그리고 안정성 등의 치명적인 영향을 미친다. 따라서 용접, 열처리, 그리고 가공과정에서 발생하는 Inconel 600의 예민화 및 입계부식에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 그러나 100시간 이상 장시간 열화된 시편에 대한 예민화 연구는 전무한 실정이다. 본 연구에서는 장시간 열화된 Inconel 600의 예민화를 평가하기 위해 최대 1,000시간까지 열화를 실시하였으며, 이에 대한 평가방법으로 Double-Loop Electrochemical Potentiokinetic Reactivation(DL-EPR) 시험법을 적용하였다. 본 실험에서 사용된 인코넬 600의 화학성분(wt, %)은 0.01 C, 0.05 Si, 0.14 Mn, 15.3 Cr, 0.5 Cu, 0.015 S, 그리고 나머지는 Ni 이다. 예민화 평가를 위한 등온 열화는 전기열처리로를 이용하여, $550^{\circ}C$와 $650^{\circ}C$에서 최대 1000시간까지 실시하였다. 열화에 따른 미세조직 변화는 scanning electron microscope와 energy dispersive x-ray spectroscopy를 이용하여 실시하였다. DL-EPR 실험은 $25^{\circ}C$의 0.1M $H_2SO_4$ + 0.001M KSCN(potasium thiocyanate) 수용액 하에서 실시하였으며, 분극은 OCP로부터 600 mV(SSE vs.)까지 1.67mV/s 주사속도로 forward scan을 실시 후, 동일한 속도로 OCP까지 reverse scan을 실시하였다. Degree Of Sensitization(DOS)값은 anodic scan peak($I_a$) 값과 reverse scan peak($I_r$) 값의 비로 산출하였다. $$i.e.\;DOS=I_r/I_a{\times}100$$. 그 결과, 온도 변수에 따른 Inconel 600강의 예민화 거동은 서로 상이한 경향을 나타내었다. $550^{\circ}C$의 경우, 열화가 진행됨에 따라 DOS값은 급격하게 증가하는 경향을 나타냈다. 반면, $650^{\circ}C$에서는 일정시간 이후부터 Cr 확산 현상에 의한 탈 예민화 현상이 관찰되었다.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2018.06a
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• pp.107-107
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• 2018

무전해 니켈도금 용액의 성분은 Ni(II)염, 환원제, 적합한 금속 배위 리간드, 안정제 및 특정 특성 요구에 대한 첨가제를 포함한다. 일반적으로 도금 욕에는 미량의 안정제가 함유되어 있다. 만약 적절한 안정화 시스템이 없는 도금 욕에서 도금 공정 시 도금 시작 직후에 많은 양의 니켈 플레이크(Ni flake)가 생성되어 빠르게 도금 용액이 분해되어 더 이상 도금이 어렵게 된다. 그러나 무전해 도금 욕에서 안정제의 역할 및 도금 층에 미치는 영향에 대한 연구는 여전히 부족한 실정이다. 따라서 본 연구에서는 $Pb^{2+}$ 안정제 농도가 도금 층에 미치는 영향과 캐비테이션 침식 실험을 통해 그 내구성을 평가하고자 하였다. 무전해 니켈코팅을 위한 모재는 회주철(FC250)을 $19.5mm{\times}19.5mm{\times}5mm$의 크기로 가공하였다. 회주철의 인장강도는 $330N/mm^2$이며, 그 성분 조성(wt.%)은 3.23 C, 1.64 Si, 0.84 Mn, 0.016 P, 0.013 S 그리고 나머지는 Fe이다. 시험편은 SiC 페이퍼 #1200까지 연마하여 시험편의 표면 거칠기는 $1.6-2.1{\mu}m$ 범위 내로 제작하였다. 무전해 도금 전 시험편은 탈지를 위해 상온의 아세톤 용액에서 3분간 초음파 세척하고, $90^{\circ}C$의 알카리 수용액으로 5분간 세척하였다. 그리고 표면 활성화를 위한 산세척은 5% 황산용액에서 30초 동안 실시하였다. 도금조로 500mL 비커를 사용하였으며, 모든 시험편은 2시간 동안 무전해 니켈도금을 실시하였다. 그리고 니켈도금 층의 내식성과 내구성을 평가하기 위해 전기화학적 분극 실험을 통한 타펠분석과 ASTM G32 규정에 의거한 캐비테이션 침식 실험을 실시하였다. 그 결과 안정제 농도가 도금 속도와 도금 층의 성분 변화에 크게 영향을 미쳤으며, 그에 따라 도금 층의 내식성과 내구성이 크게 변화되었다.

• Journal of the Korean Electrochemical Society
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• v.3 no.3
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• pp.152-156
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• 2000

The effect of cupric ion concentration on the throwing power has been studied in the electrodeposition of Cu on the porous reticular electrodes with the electrolytes of $CuSO_4\;and\;H_2SO_4$. Sulfuric acid electrolytes with lower concentration of $CuSO_4$ improved throwing power in electrodeposition of copper not only due to higher cathodic polarizability but also due to higher conductivity of the electrolytes. The increase in conductivity of the electrolytes at low concentration of $CuSO_4$ could be also illustrated by the decrease in viscosity of the electrolytes. It was found that both the throwing power and the limiting current density should be taken into account in the electrodeposition of Cu on the reticular electrodes. According to the experimental results, the electrolyte of 0.2M $CuSO_4$ and 0.5M $H_2SO_4$ was found to be the most appropriate condition at the current density of $10mA/cm^2$.

• Journal of Biomedical Engineering Research
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• v.22 no.6
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• pp.511-518
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• 2001

In vitro corrosion resistance of the commercially used 76.5wt.%Pd-17.6%Cu-7.2%Ga and 77.3%Pd-6.0%Ga dental Prostheses high-Palladium system alloys in cast, degassing and porcelain-firing heat treatment conditions were evaluated by the potentiodynamic polarization technique in the de-aerated 0.9%NaCl and a modified Fusayama electrolyte. From the corrosion rate experimental results, we found that there is a small difference in the corrosion resistance depending on the microstructure. However. it was so small that there is no significant problem as a dental material. The 77.3%Pd-6.0%Ga showed better corrosion resistance than the 76.5%Pd-11.6%Cu-7.2%Ga dental Prostheses high-palladium system alloys. These experimental observations in 76.5%Pd-11.6%Cu-7.2%Ga alleys are mainly due to a rapid quenching and Cu in the alloy which accelerate the eutectic reaction with a segregation and Precipitates in the microstructure. On the ocher hand, 77.3%Pd-6.0%Ga alloys, which are solid-solution matrix, show much better col·lesion resistance compared with that of 76.5%Pd-11.6%Cu-7.2%Ga alloys.