Silicon Carbide(SiC) has large advantage in high temperature and high voltage applications because of its high thermal conductivity and large band gap energy. When using SiC to design power semiconductor devices, edge termination techniques have to be adjusted for its maximum breakdown voltage characteristics. Many edge termination techniques have been proposed, and the most appropriate technique for SiC device is Junction Termination Extension(JTE). In this paper, the change of breakdown voltage efficiency ratio according to the change of doping concentration and passivation oxide charge of each JTE techniques is demonstrated. As a result, the maximum breakdown voltage ratio of Single Zone JTE(SZ-JTE), Double Zone JTE(DZ-JTE), Multiple Floating Zone JTE(MFZ-JTE), and Space Modulated JTE(SM-JTE) is 98.24%, 99.02%, 98.98%, 99.22% each. MFZ-JTE has the smallest and SZ-JTE has the largest sensitivity of breakdown voltage ratios according to the change of JTE doping concentration. Additionally the degradation of breakdown voltage due to the passivation oxide charge is analyzed, and the sensitivity is largest in SZ-JTE and smallest in MFZ-JTE, too. In this paper, DZ-JTE and SM-JTE is the best efficiency JTE techniques than MFZ-JTE which needs large doping concentration in short JTE width.
Kim, Sang-Cheol;Hahn, Sung-Hong;Kim, Eui-Jung;Lee, Chung-Woo;Joo, Jong-Hyun;Kim, Goo-Cheol
Korean Journal of Optics and Photonics
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v.16
no.2
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pp.168-173
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2005
Ag-doped $TiO_2$ thin films were prepared by RF magnetron co-sputtering method, and their physical and chemical properties were examined as a function of calcination temperature. XRD results showed that the crystallite size of Ag-doped films was smaller than that of the $TiO_2$ thin films. SEM results showed that the particle size of $Ag/TiO_2$ film was smaller and more uniform than pure $TiO_2$ film. The films had high transparency in the visible range. The films calcined at $600^{\circ}C$ were the anatase phase, and the films calcined at $900^{\circ}C$ were a mixture of anatase and rutile phases. The absorption edge of films calcined at $900^{\circ}C$ was red-shifted. This is due to the augmented absorption resulting from the phase transformation from anatase to rutile phase. And the transmittance of films decreased by the light scattering and absorption in the films. Photocatalytic activity of $Ag/TiO_2$ thin films was higher than that of the pure $TiO_2$ thin films.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.18
no.10
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pp.2497-2502
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2014
The 5 wt.% Ga-doped zinc oxide (GZO) thin films were fabricated on PES substrates with various RF power 50~80 W by using RF magnetron sputtering in order to investigate the optical and electrical properties of GZO thin films. The XRD measurement showed that GZO thin films exhibit c-axis orientation. At a RF power of 70W, the GZO thin film showed the highest (002) diffraction peak with a Full-Width-Half-Maximum (FWHM) of $0.44^{\circ}$. AFM analysis showed that the lowest surface roughness (0.20 nm) was obtained for the GZO thin film fabricated at 70 W of RF power. The electrical property indicated that the minimum resistivity ($6.93{\times}10^{-4}{\Omega}{\cdot}cm$) and maximum carrier concentration ($7.04{\times}10^{20}cm^{-3}$) and hall mobility ($12.70cm^2/Vs$) were obtained in the GZO thin film fabricated at 70W of RF power. The optical transmittance in the visible region was higher than 80 %, regardless of RF power. The optical band-gap showed the slight blue-shift with increased in carrier concentration which can be explained by the Burstein-Moss effect.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.8
no.4
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pp.726-732
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2007
We fabricated UV absorption functional $10{\sim}50nm-TiO_{2-x}/quartz$ structures layer using ALD (atomic layer deposition) method. We deposited $10nm-TiO_{2-x}$ layer on quartz substrate using ALD, and film thickness was determined by an ellipsometer. The others specimen thickness was controlled by ALD time lineally. We characterized controlling phase UV and visible optical property using an X-ray difractometer, a UV-VIS-IR spectrometer and a digital camera. $ALD-TiO_{2-x}$ layers were non-stoichiometric $TiO_{2-x}$ form and amorphous phases comparing with bulk $TiO_2$. While the conventional bulk $TiO_2$ had band gap of $3.0{\sim}3.2eV$ resulting in absorption edges at 380 nm and 415 nm, $ALD-TiO_{2-x}$ layers showed absorption edges at 197 nm and 250 nm. Therefore, our nano-thick $ALD-TiO_{2-x}$ was able to absorb shorter UV region and showed excellent transmittance in visible region. Our result implies that our newly proposed nano-thick $TiO_{2-x}$ using ALD process may improve transmittance in visible rays and be able to absorb shorter UV light effectively.
Lim, Jong-Sik;Lee, Jae-Hoon;Lee, Jun;Han, Sang-Min;Ahn, Dal
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.11
no.7
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pp.2541-2548
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2010
This paper describes the calculation for characteristic impedance of transmission line with periodic structures such as defected ground structure (DGS) and photonic bandgap (PBG). The previous method which uses the ${\lambda}$/4 transmission line model is reviewed and its disadvantage that the calculated characteristic impedance is strongly dependent on the frequency is discussed. The characteristic impedance of transmission lines with periodic structures are calculated using the ${\lambda}$/4 transmission line model and analytic method. The calculated characteristic impedance by the latter method is an almost constant value while that from the first method depends on the frequency strongly. In addition, the characteristic impedance of the transmission line with PBG is calculated and proposed, while it has been rarely studied ever. S-parameters are obtained from the measurement using the fabricated sample as well as simulation, and used for calculating the characteristic impedances and comparison. The characteristic impedances calculated from the measured S-parameters agree well with the simulated results. It is well described that the analytic method to calculate the characteristic impedance of transmission lines on uniform dielectric structures can be applied successfully to the transmission lines with periodic structures such as DGS and PBG.
Kim, Taeyoon;Kwon, Yongju;Kang, Choonghyun;Kim, Jongyoung;Shin, Hyun Suk;Kwon, Soonchul;Cha, Sung Min
Journal of Wetlands Research
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v.20
no.3
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pp.263-271
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2018
In this study, we analyzed the removal efficiency of ammonia nitrogen and phosphate dependant on the column depths using various absorbents such as zeolite silica sand, and activated carbon through the column test. In addition, we analyzed electrochemical adsorption behaviors of ammonia nitrogen and phosphate through the quantum mechanical calculation based on density functional theory calculation. Experimental results represent the removal efficiency of ammonia nitrogen and phosphate are zeolite > activated carbon > silica sand, and activated carbon > zeolite > silica sand, respectively. Zeolite shows high adsorption property for ammonia nitrogen over 90%, regardless of the column depth, while activated carbon exhibits high adsorption property for both ammonia nitrogen and phosphate as the column depth for filter media increases. Theoretical findings using DFT calculation for the adsorption behaviors of adsorbents (activated carbon and silica sand) and nutrients ($PO_4{^{3-}}$, $NH_4{^{+}}$) show that activated carbon represented narrower HOMO-LUMO band gap with high adsorption energy, and even more favorable environment for electron adsorption than silica sand, which leads to the effective removal of nutrients.
Thin film solar cells on a glass/$SnO_2$ substrate with p-SiC/i-Si/n-Si heterojunction structures were fabricated using a plasma-enhanced chemical-vapor deposition system. The photovoltaic properties of the solar cells were examined with varying the gas phase composition, x=$CH_4/\;(SiH_4+CH_4)$, during the deposition of the p-SiC layer. In the range of x=0~0.4, the efficiency of solar cell increased because of the increased band gap of the p-SiC window layer. Further increase in the gas phase composition, however, led to a decrease in the cell efficiency probably due to in the increased composition mismatch at the p-SiC/i-Si layers. As a result, the efficiency of a glass/$SnO_2$/p-SiC/i-SiC/i-Si/n-Si/Ag thin film solar cell with $1cm^2$ area was 8.6% ($V_{oc}$=0.85V, $J_{sc}$=16.42mA/$cm^2$, FF=0.615) under 100mW/$cm^2$ light intensity.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.12
no.3
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pp.517-526
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2008
A one-chip DC-DC converter circuit for OLED(Organic Light-Emitting Diode) display module of automotive clusters is newly proposed. OLED panel driving voltage circuit, which is a charge-pump type, has improved characteristics in miniaturization, low cost and EMI(Electro-Magnetic Interference) compared with DC-DC converter of PWM(Pulse Width Modulator) type. By using bulk-potential biasing circuit, charge loss due to parasitic PNP BJT formed in charge pumping, is prevented. In addition, the current dissipation in start-up circuit of band-gap reference voltage generator is reduced by 42% and the layout area of ring oscillator is reduced by using a logic voltage VLP in ring oscillator circuit using VDD supply voltage. The driving current of VDD, OLED driving voltage, is over 40mA, which is required in OLED panels. The test chip is being manufactured using $0.25{\mu}m$ high-voltage process and the layout area is $477{\mu}m{\times}653{\mu}m$.
Recently, there has been increasing demand for advancing photocatalytic techniques that are capable of the efficient removal of organic pollutants in water. TiO2, a representative photocatalytic material, has been commonly used as an effective photocatalyst, but it is rather expensive and an alternative is required that will fulfill the requirements of both high performing photocatalytic activities and cost-effectiveness. In this work, ZnO, which is more cost effective than TiO2, was synthesized by using a microreactor-assisted nanomaterials (MAN) process. The process enabled a continuous production of ZnO nanoparticles (NPs) with a flower-like structure with high uniformity. In order to resolve the limited light absorption of ZnO arising from its large band gap, Ag NPs were uniformly decorated on the flower-like ZnO surface by using the MAN process. The plasmonic effect of Ag NPs led to a broadening of the absorption range toward visible wavelengths. Ag NPs also helped inhibit the electron-hole recombination by drawing electrons generated from the light absorption of the flower-like ZnO NPs. As a result, the Ag-ZnO nanocomposites showed improved photocatalytic activities compared with the flower-like ZnO NPs. The photocatalytic activities were evaluated through the degradation of methylene blue (MB) solution. Scanning electron microscopy (SEM), x-ray diffraction (XRD), and energy-dispersive x-ray spectroscopy (EDS) confirmed the successful synthesis of Ag-ZnO nanocomposites with high uniformity. Ag-ZnO nanocomposites synthesized via the MAN process offer the potential for cost-effective and scalable production of next-generation photocatalytic materials.
The Journal of Korea Institute of Information, Electronics, and Communication Technology
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v.14
no.5
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pp.438-443
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2021
This paper uses a multiplex deposition sputter system and aims to improve transmittance and reduce production costs by depositing a CdS thin film on an ITO glass substrate. When manufacturing CdS thin films, we wanted to find excellent conditions when manufacturing solar cells by changing heat treatment time. It was observed that thickness and sheet resistance were not significantly different depending on heat treatment time changes. The specific resistance was measured from a minimum of 6.68 to a maximum of 6.98. When the heat treatment time was more than 20 minutes, the transmittance was measured to be more than 75%. When the heat treatment time was 10 minutes, the bandgap was 3.665 eV and more than 20 minutes was 3.713 eV, which was measured as the same result. The XRD analysis showed that the structure of CdS was hexagonal and only CdS thin films were deposited without any other impurities. The result of calculating the FWHM was a maximum of 0.142 when the heat treatment time was 20 minutes, and a minimum of 0.133 when the heat treatment time was 40 minutes, so there was no significant difference in the FWHM when the heat treatment time was changed. The particle size was measured at 11.65 Å when the heat treatment time was 40 minutes, and at 10.93 Å when the heat treatment time was 20 minutes.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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