• Title/Summary/Keyword: 도금편차

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The analysis of the edge overplating phenomenon by numerical simulation (도금 시뮬레이션을 이용한 모서리부 과도금 현상 분석)

  • Hwang, Yang-Jin;Park, Yong-Ho;Lee, Gyu-Hwan
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2015.11a
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    • pp.206-206
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    • 2015
  • 자동차 외장 부품은 미려한 외관과 경량화를 통한 연비향상을 위해 ABS수지 위에 다층 도금 공법이 적용된다. 하지만, 필드에서 종종 도금층의 부식에 대한 문제가 야기 되고 있다. 부식문제의 한 인자로 도금 두께의 불균일성을 들 수 있다. 도금공정에서 용액의 유동성, 제품이 걸리는 위치, 도금액의 불순물 등등 여러 가지 현장요소로 인해 도금 두께 편차가 생겨난다. 이러한 현장 요소와 함께 피도금물의 외형 형상 또한 도금 불균일의 주요한 원인이 된다. 특히, 제품 모서리 부분에서는 문제가 되는 과도금 현상이 쉽게 발생한다. 따라서, 도금 두께 편차를 줄이기 위해서는 도금 현장 요인을 분석하는 것도 중요하지만, ABS 제품의 외형 형상 디자인에 있어서 체계적인 접근이 필요하다. 그러나, 디자인의 구조적인 접근을 위해 현장에서 검증하려면 많은 비용과 시간이 소요된다. 이에 본 연구에서는 모서리 부분에서의 과도금 현상을 시뮬레이션을 활용하여 형상관점에서 과도금 형태 및 원인을 분석하고자 하였다.

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A Study on Coating Deviation Effect by Air Knife Characteristics in CGL (연속용융도금라인에서 에어나이프 특성이 도금편차에 미치는 영향)

  • Bae, Y.H.;Ahn, D.S.;Lee, S.H.
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.10 no.3
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    • pp.57-68
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    • 1993
  • Air Wiping technique is widely used because of easy and efficient coating control in present CGL. Coaring weight is decided by nozzle header pressure, strip line speed and distance between strip and nozzle. Coating defects are results from unbalance of these factors and coating equipment calibration inaccuracy. Therefore, this study is mainly dealing with the cause of coating defects such as edge overcoating and coating deviation. The coptimum working condition is suggested by formulated coating model using collected working data. We developed two demension analysis program for air flow in nozzle and calculated dynamic pressure and air velocity with this program. The productivity and coating guality are improved by applying the result of this reserach.

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Diagnosis of Coating Deviation in Continuous Galvanizing Line (연속용융아연 도금라인의 도금편차 진단)

  • 배용환
    • Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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    • v.26 no.2
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    • pp.192-199
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    • 2002
  • In continuous galvanizing process, the mass of zinc deposited and its distribution are controlled by the air pressure, effective distance from the air knife nozzle to the steel strip surface and line speed. Coating defects are resulted from the unbalance of these control factors and the inaccuracy of coating equipments. This paper investigates the main cause of coating deviation and a new air knife system for control of coating thickness was developed. We investigate dynamic pressure variation by air knife types. It is found that the coating deviation is caused by the unbalance of dynamic pressure, the irregularity of strip position, and the strip vibration. Formulating a useful coating model by using present working condition, an optimal working condition is suggested. The productivity and coating quality are improved by applying the result of this research at the shop floor.

The process development of High-speed copper plating for product of continuous plate (연속 판재 생산을 위한 고속 동도금 공정 개발)

  • Gang, Yong-Seok;Park, Sang-Eon;Heo, Se-Jin;Choe, Ju-Won;Lee, Ju-Yeol;Lee, Sang-Yeol;Kim, Man
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.11a
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    • pp.79-80
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    • 2007
  • 연속 동판재 생산을 위하여 전주도금 기술과 고속동도금 기술을 응용하여 동도금 공정을 개발하였다. 동 연속 전주 장비를 개발하고 적절한 동도금 조건의 개발을 통하여 연속적인 동도금 판재의 생산이 가능하게 하였다. 연속 전주 장치에서 제작된 동판재의 최종 물성을 살펴보면 두께 형성 속도는 $20{\mu}m/min$. 속도이고, 동판재의 두께 편차는 5%이내의 두께 편차를 나타내었다. 제작된 동 판재의 비저항은 $2.2{\times}10-6\;{\Omega} cm$를 나타내었으며, SEM을 이용한 표면관찰에서 void-free한 형태를 나타내었다. 판재상의 피막의 불순물은 500ppm 이하의 물성을 나타내었다.

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Improvement of the Throwing Power (TP) and Thickness Uniformity in the Electroless Copper Plating (무전해 동도금 Throwing Power (TP) 및 두께 편차 개선)

  • Seo, Jung-Wook;Lee, Jin-Uk;Won, Yong-Sun
    • Clean Technology
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    • v.17 no.2
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    • pp.103-109
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    • 2011
  • The process optimization was carried out to improve the throwing power (TP) and the thickness uniformity of the electroless copper (Cu) plating, which plays a seed layer for the subsequent electroplating. The DOE (design of experiment) was employed to screen key factors out of all available operation parameters to influence the TP and thickness uniformity the most. It turned out that higher Cu ion concentration and lower plating temperature are advantageous to accomplish uniform via filling and they are accounted for based on the surface reactivity. To visualize what occurred experimentally and evaluate the phenomena qualitatively, the kinetic Monte Carlo (MC) simulation was introduced. The combination of neatly designed experiments by DOE and supporting theoretical simulation is believed to be inspiring in solving similar kinds of problems in the relevant field.

Development and characteristic evaluation of Auxilary anode for uniformed plating of aluminium wheel (알루미늄휠의 균일도금을 위한 보조양극 개발 및 특성평가)

  • Kim, Gyeong-Su;Lee, Kwang-Woo;Lee, Gyeong-Mi;Son, Seong-Ho
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2009.10a
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    • pp.148-148
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    • 2009
  • 알루미늄휠의 크롬도금은 휠의 복잡한 형상 때문에 고전류 부분인 스포크에 비해 저전류 부분인 윈도우는 도금의 두께가 얇아 부식이 발생할 가능성이 높아 도금두께를 향상시키기 위하여 보조양극을 설계, 개발하였으며 고전류와 저전류의 도금두께 편차를 줄이고 균일도금의 가능성을 확인하고 캐스시험을 통해 내식성이 향상됨을 알 수 있었다.

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Formation of Hollow Cu Through-Vias for MEMS Packages (MEMS 패키지용 Hollow Cu 관통비아의 형성공정)

  • Choi, J.Y.;Kim, M.Y.;Moon, J.T.;Oh, T.S.
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.16 no.4
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    • pp.49-53
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    • 2009
  • In order to investigate the formation behavior of hollow Cu via for MEMS packaging, we observed the microstructure of the Cu vias and measured the average thickness and the thickness deviation with variations of pulse-reverse pulse current density and electrodeposition time. With electrodeposition for 3 hours at the pulse and reverse pulse current densities of $-5\;mA/cm^2$ and $15\;mA/cm^2$, the average thickness and the thickness deviation of the Cu vias were $5\;{\mu}m$ and $0.63\;{\mu}m$, respectively. With increasing the electrodeposition time to 6 hours, it was possible to form the Cu vias, of which the average thickness and thickness variation of the Cu vias were $10\;{\mu}m$ and $1\;{\mu}m$, respectively. With increasing the pulse and reverse pulse current densities to $-10\;mA/cm^2$ and $30\;mA/cm^2$, Cu vias of uniform thickness could not be formed due to the faster increase of the thickness deviation than that of the average thickness with increasing the electrodeposition time.

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Diagnosis of Edge overcoating by Air Knife Pattern Modification in CGL (용융아연도금라인에서 에어나이프 형상패턴 변경에 의한 단부과도금 진단)

  • 배용환;최홍태
    • Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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    • v.24 no.3
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    • pp.20-28
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    • 2000
  • Air wiping technique is widely used because of easy and efficient coating control in present CGL The coating weight is controlled by nozzle header pressure. strip line speed, and the distance between strip and nozzle. Coating defects are resulted from the unbalance of these control factors and the inaccuracy of coating equipments. We investigates the main cause of coating defects, such as edge overcoating and coating deviation through various experiments. It is found that the edge overcoating is mainly come from nozzle lip type, and the coating deviation is caused by the unbalance of dynamic pressure.

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MEMS 및 니켈 전해도금 공정을 이용한 프로브카드 제작 및 연구

  • Choe, U-Jin;Jang, Gyeong-Su;Baek, Gyeong-Hyeon;Min, Sang-Hong;Lee, Jun-Sin;Kim, Chang-Gyo
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.180-180
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    • 2011
  • 본 연구에서는 MEMS 공정 기술 및 니켈 전해도금 공정을 이용한 프로브 카드를 제작 및 연구 했으며 MEMS기술을 사용함에 따라 다양한 형상의 프로브 카드를 구현하였다. 본 연구를 진행하면서 Photolithography공정 중 스핀코팅, 노광의 세기 및 도금시간의 변화를 각각 다르게 했을 때 도금용 Thick PR Mold 높이에 큰 영향이 있는 것을 알 수 있었다. 실리콘 웨이퍼를 대신하여 Pi필름 상에 Thick PR를 이용하여 Mold를 형성하고, 그 위에 니켈 도금법에 의해 니켈 박막을 형성한 후, Lapping에 의해 두께 평탄도를 조정한다면 일정한 두께편차, 직각에 가까운 수직도 및 항상 일정한 치수 정밀도를 갖는 저단가 니켈 소재의 프로브 카드를 제작 할 수 있을 것이며, 높은 효율을 기대 할 수 있다.

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Possible Alternative Antioxidant Research Applied to Tin-based Plating Solution for Semiconductor Package (반도체 패키지용 주석계 도금액에 적용 가능한 대체 산화방지제 연구)

  • Go, Jeong-U;Lee, Geum-Seop;Lee, Hyeong-Geun;Kim, Gyeong-Tae;Park, Gyu-Bin;Son, Jin-Ho;Park, Hyeon-Guk;O, Jeong-Hun;Yun, Nam-Sik;Lee, Seung-Won
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2016.11a
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    • pp.165.2-165.2
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    • 2016
  • 현재, 솔더범프용 주석계 도금액의 필수성분인 산화방지제의 경우, 국내외 경쟁사에서는 가격 및 성능이 우수한 벤젠/페놀 계열을 적용 중이다. 그러나, 최근 대형 고객사에서 페놀류 산화방지지제를 환경규제물질로 규정함에 따라, 자사에서는, 특허 이슈 해소 가능한 친환경 대체 산화방지제 개발을 해오고 있다. 본 연구에서는, 반도체 패키지용 주석계 도금액의 산화방지제 종류와 농도에 따른 주요 특성 (Particle, 전류 효율, 안정성 (변색, 침전 외), 범프 두께의 편차, 감광제의 침해, Reflow 후 빈공간 등)에 대하여 살펴보았다.

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