• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.10 no.1
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• pp.22-26
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• 2001

Microstructures of AlN thin films on Si substrates grown by plasma assisted molecular beam epitaxy were analyzed with various growth temperatures and substrate orientations. Reflection high energy electron diffraction (RHEED) patterns were checked for the in-situ monitoring of the growth condition. X-ray diffraction(XRD), double crystal X-ray diffraction (DCXD), and transmission electron microscopy/diffraction (TEM/TED) techniques were employed to characterize the microstructure of the films after growth. On Si(100) sub-strates, AlN thin films were grown mostly along the hexagonal c-axis orientation at temperature higher than $850^{\circ}C$. On the other hand the AlN films on Si(111) were epitaxially grown with directional coherencies in AlN(0001)/Si(111), AlN(1100)/Si(110), and AlN(1120)/Si(112). The microstructure of AlN thin films on Si(111) substrates, with a full width at half maximum of almost 3000 arcsec at 2$\theta$=$36.2^{\circ}$, showed that the single crystal films were grown, even if they includ a lot of crystal defects such as dislocations and stacking faults.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2010.08a
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• pp.150-150
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• 2010

질화물 기반의 LED의 경우 c-plane 사파이어에 GaN을 성장 하는 방법이 많이 연구되어 왔다. 그러나 c-plane 위에 성장시킨 LED는 분극현상이 발생하여 양자효율의 저하와 발광파장의 적색 편이를 야기한다[1]. 이런 문제를 해결하기 위하여 a-plane (11-20), m-plane (10-10) 등의 비극성면을 갖는 GaN을 성장을 통해 분극문제를 해결하고자 하는 방법이 제안되었다 [2] 하지만, 현재 비극성 면을 갖는 고품질의 박막을 성장시키기 어렵다는 단점이 존재한다. 고품질의 박막을 성장시키는 방법으로는 ELO와 다중 버퍼층의 사용처럼 여러가지 방법이 연구되고 있다. 하지만 사파이어의 tilt와 열처리에 따른 표면 개질에 대한 연구는 많이 진행되어지고 있지 않다. 본 연구에서는 사파이어에 열처리를 통하여 표면의 특성 변화를 관찰하고 이를 이용하여 고품위 GaN 박막의 품질을 높이려 하였다. r-plane 사파이어에 유기금속화학증착법(MOCVD)을 이용하여 a-plane GaN을 성장하였다. 이 공정에서 사용한 pre-treatment는off-axis angle을 가진 기판의 표면 열처리이다A-plane GaN 성장전에 m-direction으로 off-axis angle을 가진 r-plane 사파이어 기판을 1300도로 가열한 후 각각의 다른 시간에서 열처리를 진행하였다. Off-axis angle을 가진 사파이어는 표면에 step구조를 가지고 있으며, 이 step의 width를 비롯한 표면의 morphology는 off-axis angle에 따라 달라진다. Off-axis angle을 변화시킨 사파이어를 1300도에서 1시간, 3시간, 5시간 annealing하여 표면을 AFM을 사용하여 관측한 결과 step width가 증가하고 step의 형태가 뚜렷해지며 rms-roughness가 변화한 것을 관찰할 수 있었다. 그리고 이 각각의 기판을 동일한 조건으로 a-plane GaN을 성장하여 박막의 특성을 측정하였다. 본 발표에서는 사파이어 기판의 표면 처리에 따른 비극성 GaN의 특성 변화에 대한 분석 결과를 논의할 것이다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2010.02a
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• pp.126-126
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• 2010

본 연구에서는 catalyst-free 유기금속 화학증착법 (MOCVD)를 이용하여 사파이어 (0001)면 위에 직접 InN nanorods를 성장하였다. InN 박막의 성장에서 TMIn과 $NH_3$를 전구체로 사용하였으며, 캐리어 가스로는 질소를 사용하였다. 성장 전, 기판에 $1100^{\circ}C$에서 3분간 nitridation 처리를 거친 후 온도를 낮춰 $630{\sim}730^{\circ}C$의 온도범위 에서 InN 박막을 성장하였다. 이때 $710^{\circ}C$의 온도에서 박막은 columnar growth의 특성을 보였으며 동일조건에서 80분간 성장시킨 결과 InN nanorods가 성장되었다. 성장시킨 InN nanorod는 X-선 회절 측정법, 주사 전자 현미경 그리고 투과 전자 현미경을 이용하여 그 특성을 분석하였다. 투과 전자 현미경을 통한 분석결과 지름이 150~200 nm이며 그 길이는 수 ${\mu}m$인 InN nanorod가 성공적으로 성장되었음을 확인하였다. 또한 X-선 회절 측정법과 주사 전자 현미경을 통한 분석에서 이들 nanorods가 대부분 c 방향으로 수직하게 정렬되어 있음을 확인하였다. 또한 Ti/Au (120/80 nm)를 전극으로 사용하여 개개의 nanorod의 전기적 특성을 분석한 결과 linear한 I-V특성이 관찰되었으며 비저항은 평균적으로 $0.0024\;{\Omega}cm$ 이었다. transfer 특성의 측정결과 -50V까지 게이트 전압을 인가하여도 드레인 전류의 변화는 매우 적어 doping level이 상당히 높다고 예상가능하다. 또한 mobility는 $133\;cm^2/Vs$로 도출되었다.

• International Area Studies Review
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• v.20 no.1
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• pp.147-165
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• 2016

We empirically examine the validity of second generation endogenous growth theory suing 21 OECD countries' panel data(1981~2011). Due to non-stationarity in all variables, we test the cointegrated relationships strongly supporting the semi-endogenous growth model. In the estimation of total factor productivity growth function, the growth of domestic and foreign R&D investment levels statistically significantly affect total factor productivity growth. R&D intensity, however, has significant impacts on the total factor productivity growth only in a few models, and international technology gap also has positive impacts on GDP growth. Thus the semi-endogenous growth model is relatively supported while fully endogenous growth model is weakly and occasionally supported in OECD countries. The policy implication of supporting the semi-endogenous growth model is that the sustaining growth requires increasing R&D expenditures.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.08a
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• pp.370-370
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• 2012

성장 길이 방향으로 조성비가 점차 바뀌는 InxGa1-xAs 나노와이어에 대한 라만 산란 연구 결과를 보고한다. Si 기판 위에 Au 입자를 뿌린 후에 이를 촉매로 하여 molecular beam epitaxy 방법을 이용하여 InGaAs 나노와이어를 성장시켰다. 투과전자현미경 실험 결과에 의하면 InGaAs 나노와이어의 길이는 약 $3{\sim}5{\mu}m$, 두께는 약 20~50 nm 정도였다. 성장 길이 방향으로 조성비의 변화를 연구하기 위해서 나노와이어에 대한 공간 분해된 라만 산란 실험을 수행 하였다. 실험 결과 나노와이어의 길이 방향으로 InAs-like transverse optical (TO) phonon 에너지와 GaAs-like TO phonon 에너지의 변화가 있었으며 이를 통해 성장 길이 방향으로 In과 Ga의 조성비의 변화가 있음을 알 수 있었다. 각각의 광학 포논 에너지에 대한 분석을 통해 조성비의 변화에 대한 정량적인 수치를 얻을 수 있었다.

• Proceedings of the KAIS Fall Conference
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• 2010.11b
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• pp.797-800
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• 2010

본 연구는 한국 나노기술의 발전현황을 살펴보고 나노기업들이 갖고 있는 재무적 특징을 분석한 것이다. 한국의 나노기술은 정부의 집중적인 지원을 받으면서 기업과 대학을 비롯한 연구기관들 사이의 경쟁적인 연구 속에서 단기간에 괄목할만한 성장을 하였다. 그 결과 미국, 일본, 독일에 뒤이은 높은 기술수준을 보유하게 되었다. 이러한 가운데 나노기술을 보유한 기업들에 대한 재무적 특징을 일반기업들과 비교 분석하여 몇 가지 의미 있는 결과를 확인할 수 있었다. 첫째 나노기업들은 일반기업들에 비해 높은 성장을 보이고 있다. 둘째 나노기업들은 일반기업들에 비해서 타인자본의존도가 높게 나타났다. 끝으로 나노기업들의 수익성은 일반기업에 비해서 낮게 나타났다. 이러한 연구결과는 나노기술의 지속적 발전을 위한 정책적 결정에 중요한 시사점을 제시한다. 우선 정부는 나노기술의 산업화를 지원하여 기술의 제품화를 촉진시키는 것과는 별도로 나노기업의 재무구조개선에 관심을 갖고 부채비율을 낮추도록 해야 한다. 그래야만 수익성을 기반으로 한 지속적 성장이 가능하기 때문이다. 이를 위해서 나노기업에 대한 투자세액공제 등의 정책을 녹색성장정책에 포함시킬 필요가 있다고 본다.

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• v.8 no.2
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• pp.227-232
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• 1998

Diamond crystallization and discontinuous deposit phenomena depend on the process of hydrocarbon deposition, nucleation and growth. Then, it is investigated the concentration of methane, flow rate, structure and the growth process of $CH_4-H_2$ system in hot filament assisted C.V.D. There is a limited value of temperature, pressure, flow rate and the mole fraction of methane-hydrogen gas. Diamond nucleation occurs on substrate selectively and surface diffusion of species on the substrate plays an important role in the early stages of nucleation and growth.

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• v.4 no.3
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• pp.276-283
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• 1994

The dislocation configuration in web-grown silicon ribbon was investigated using chemical etching techniques. The presence of dislocation loops on twin planes is observed and acounted for by self-interstitial condensation. The interstitials were either quenched in, due to the rapid cooling of the ribbon from the solidification temperatures, or produced by oxide precipitation on the twin plane. Very large faulted loops of mm size were also observed.

• Journal of the Korean Data and Information Science Society
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• v.24 no.6
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• pp.1409-1419
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• 2013

We analyzed the data from KYPS using the latent growth model which has been widely studied as an analysis method of longitudinal data. In this study, we applied repeated measures ANOVA to unconditional model in order for faster decision of the unconditional model of the latent growth model. Also, we compared the six-type models, the quadratic model and the model of which repeated measures ANOVA is applied.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.4 no.3
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• pp.319-326
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• 1995

초고진공에서 Si(100)-2X1 기판 위에 Pt를 약 100$\AA$의 두께로 증착한 후 in-situ로 열처리하는 고상에피택셜 성장법으로 PtSi 박막을 형성시켰다. XRD와 XPS 분석 결과 $200^{\circ}C$로 열처리한 시료에서는 Pt3Si, Pt2Si와 PtSi의 상이 섞여 있었으나 50$0^{\circ}C$로 열처리한 시료에서는 PtSi의 단일상만 확인되었으며, 형성된 PtSi 박막은 주상구조와 판상구조의 이중구조를 나타내었다. 기판 온도를 $500^{\circ}C$로 유지하면서 Pt를 증착한 후 $750^{\circ}C$에서 열처리한 경우에는 판상구조를 갖는 양질의 PtSi 박막이 에피택셜 성장되었다. HRTEM분석 결과 에피텍셜 성장된 PtSi와 기판 Si(100)의 계면은 PtSi[110]//Si[110], ptSi(110)//Si(100)의 정합성을 가졌다. 판상구조를 갖는 PtSi상의 에피택셜 방향은 기판과 열처리 온도에는 의존하나 열처리 시간에는 무관한 것으로 나타났다.