Programmable Metallization Cell 응용을 위한 Ag-doped 칼코게나이드 박막의 전기적 저항 변화 특성 (Properties on Electrical Resistance Change of Ag-doped Chalcogenide Thin Films Application for Programmable Metallization Cell)
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- 한국전기전자재료학회논문지
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- 제20권12호
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- pp.1022-1026
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- 2007